Cible de pulvérisation du niobium

Cible de pulvérisation du niobium

Niobium Sputterig Target

Pureté : 99,5%-99,99%

Matériau : R04200, R04210

  • Dimensions sur mesure et dimensions standard en stock
  • Délai d'exécution rapide
  • Prix compétitif
5 cote d'étoiles
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5 cote d'étoiles
5 cote d'étoiles
5 cote d'étoiles

Niobium Sputtering Target is made of high-purity niobium metal material, possessing small grain size. These properties enables the formation of uniform and dense films. As a leading supplier and manufacturer of premium niobium products, Heeger Materials leverages advanced machining centers to deliver high-precision niobium sputtering targets for wide ranges of applications.

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Niobium Sputtering Data Sheet

Référence :HMST16
Matériau :R04200, R04210
La pureté :99.5%-99.99%
Densité :8.57 g/cm3
Forme :Flat, Rotary, or Customized
Bonding:Unbongidng or Bonding

Cible de pulvérisation du niobium

Niobium is a rare, silvery-gray transition metal with excellent corrosion resistance, electric conductivity, and high-temperature stability. Cible de pulvérisation du niobium can usually reach a purity of more than 99.95% and have a small grain size, which ensures the quality of the coating. Niobium Sputtering Target is commonly applied in semiconductor manufacturing, thin film coatings, electronic components, etc. HM can offer bonding services according to specific requirements.

  • Niobium Sputtering Target_Round Shape
    Niobium Sputtering Target_Round Shape
  • Niobium Sputtering Target_Special Shape
    Niobium Sputtering Target_Special Shape
  • Niobium Sputtering Target_Rotary Type
    Niobium Sputtering Target_Rotary Type

Niobium Sputtering Target Material Chemical Composition

MatériauÉlément principal (%)Impuretés (≤%)
NbFeSiNiWMoTiTaZrHfOCHN
RO4200Bal.0.00400.00400.00200.00500.00500.00200.07000.02000.02000.01500.00400.00150.0030
RO4210Bal.0.01000.01000.00500.02000.01000.00400.10000.02000.02000.02000.01000.00150.0100

Niobium Sputtering Target Specifications

Material TypeNiobiumCoefficient of Thermal Expansion7.3 x 10-6/K
SymbolNbTheoretical Density (g/cc)8.57
Atomic Weight92.90638Z Ratio0.492
Atomic Number41SputterDC
Color/AppearanceGray, MetallicMax Power Density (Watts/Square Inch)100*
Thermal Conductivity54 W/m.KType of BondIndium, Elastomer
Point de fusion (°C)2,468CommentsAttacks W source.

Niobium Sputtering Target Stock Dimensions

Circular Sputtering TargetsDiamètre1.0″
2.0″
3.0″
4.0″
5.0″
6.0″
up to 21″
Rectangular Sputtering TargetsWidth x Length5″ x 12″
5””x 15″
5″ x 20″
5″ x 22″
6″ x 20″
Épaisseur0.125″, 0.25″

Niobium Sputtering Target Production Process

Generally prepared by powder metallurgy method, the purity of poudre de niobium should be above 99.95%. The specific process is as follows:

  • Put the niobium powder in the vacuum heat treatment furnace for pre-gassing, then introduce hydrogen and continue heating for degassing.
  • The degassed niobium powder is sintered once by vacuum hot pressing.
  • The primary sintered product is passed through a hot isostatic press to complete the secondary sintering.
  • After the secondary sintering, the whole surface of the product is ground by machining to get the final product.

Niobium Sputtering Target Applications

  • Flat Panel Displays and Liquid Crystal Displays: Niobium sputtering targets are used to manufacture high-quality displays that provide clear images and high contrast.
  • Optical Lenses: In optical devices, niobium sputtering targets are used for coating to improve light transmission and durability.
  • Solar Cells: Niobium sputtering targets are also used to produce solar cells to improve photovoltaic conversion efficiency.
  • Glass Coating: Niobium sputtering targets are used in the surface coating of energy-saving glass with anti-reflective and heat-insulating properties.

Niobium Sputtering Target Packaging

The Niobium Sputtering Target is carefully placed in wooden cases or cartons with additional support from soft materials to prevent any shifting during transportation. This packaging method guarantees the integrity of the products throughout the delivery process.

Emballage métallique

Propriétés du Niobium

ObjetValeur
Numéro atomique41
Structure cristallineCubique centrée sur le corps
Structure électroniqueKr 4d⁴ 5s¹
Valences présentées2, 3, 4, 5
Poids atomique( amu )92.9064
Section efficace d'absorption des neutrons thermiques( Barns )1.15
Travail photo-électrique( eV )4.3
Rayon atomique - Goldschmidt( nm )0.147
Potentiel d'ionisation( No./eV )3/ 25.0
Potentiel d'ionisation( No./eV )2/ 14.3
Potentiel d'ionisation( No./eV )6/ 103
Potentiel d'ionisation( No./eV )1/ 6.88
Potentiel d'ionisation( No./eV )4/ 38.3
Potentiel d'ionisation( No./eV )5/ 50.5
ObjetValeur
État des matériaux / températureRecuit (doux)
État des matériaux / températureNon recuit (dur)
Rapport de Poisson0.397
Rapport de Poisson0.397
Module volumique( GPa )170.3
Module volumique( GPa )170.3
Module de traction( GPa )104.9
Module de traction( GPa )104.9
Ténacité Izod( J m-¹ )10-120
Dureté - Vickers( kgf mm-² )115
Dureté - Vickers( kgf mm-² )160
Résistance à la traction( MPa )330
Résistance à la traction( MPa )585
Limite d'élasticité( MPa )550
Limite d'élasticité( MPa )240
ObjetValeur
Résistivité électrique( µOhmcm )16@20@20°C
Température critique de supraconductivité( K )9.25
Coefficient de température( K-¹ )0.0026@0-100°C
ObjetValeur
Point d'ébullition( °C )4742
Densité( gcm-³ )8.57@20°C
ObjetValeur
Point de fusion( °C )2468
Chaleur latente d'évaporation( J g-¹ )7360
Chaleur latente de fusion( J g-¹ )290
Chaleur spécifique( J K-¹ kg-¹ )268@25°C
Conductivité thermique( W m-¹ K-¹ )53.7@0-100°C
Coefficient de dilatation thermique( x10-⁶ K-¹ )7.2@0-100°C

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To customize your niobium sputtering target, please provide the following details:

  1. Diamètre (for the circular sputtering targets)
  2. Width × Length (for the rectangular sputtering targets)
  3. Thcikness (for the sputtering targets)
  4. La pureté de la matière
  5. Backing Plate (If bonding service is required, please specify the material and dimensions of the backing plate.）
  6. Quantité des produits dont vous avez besoin
  7. Vous pouvez également fournir un dessin avec vos spécifications.

Une fois que nous aurons reçu ces informations, nous pourrons vous fournir un devis dans les 24 heures.

Nous avons en stock une grande variété de produits à base de niobium et d'alliages de niobium, pour lesquels il n'y a généralement pas de minimum de commande. Toutefois, pour les commandes personnalisées, nous fixons généralement une valeur minimale de $200. Le délai de livraison des articles en stock est généralement de 1 à 2 semaines, tandis que celui des commandes personnalisées est de 3 à 4 semaines, en fonction des spécificités de la commande.

La conformité au DFARS (Defense Federal Acquisition Regulation Supplement) concerne principalement l'approvisionnement en matériaux pour des applications liées à la défense aux États-Unis. Selon le DFARS, certains matériaux utilisés pour la défense doivent provenir des États-Unis ou de pays qualifiés.

Si vous avez des matériaux en niobium spécifiques qui sont soumis au DFARS, veuillez nous en informer à l'avance et nous vous confirmerons.

Chez Heeger Materials Inc. nous prenons cette responsabilité au sérieux. Nous respectons toutes les lois et réglementations applicables, y compris la section 1502 de la loi Dodd-Frank. Notre entreprise applique un code d'éthique strict et s'engage à ne s'associer qu'avec des fournisseurs qui partagent notre engagement en faveur d'un approvisionnement responsable. Nous soutenons les initiatives et les programmes visant à promouvoir des chaînes d'approvisionnement "sans conflit" et travaillons avec diligence pour nous assurer que nos produits répondent à ces normes.

Heeger Materials Inc. a été créée en 2016 au Colorado (États-Unis) et est un fournisseur et fabricant spécialisé dans les domaines suivants tantale et les alliages de tantale. Forts d'une grande expertise en matière d'approvisionnement et d'exportation, nous proposons des prix compétitifs et des solutions personnalisées adaptées à des besoins spécifiques, garantissant une qualité exceptionnelle et la satisfaction de nos clients. En tant que fournisseur professionnel de métaux réfractaires, d'alliages spéciaux, de poudres sphériques et de divers matériaux avancés, nous répondons aux besoins de recherche, de développement et de production industrielle à grande échelle des secteurs scientifique et industriel.

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Heeger Metal propose une gamme complète de produits à base de niobium et d'alliages de niobiumCes matériaux sont disponibles sous forme de poudres et de pièces finies, avec des options de personnalisation. Connus pour leur solidité exceptionnelle, leur résistance à la corrosion et leur stabilité à haute température, ces matériaux sont idéaux pour l'aérospatiale, l'électronique et les applications de traitement chimique. Nos services niobium de haute pureté garantit des performances fiables et une durabilité dans les environnements les plus exigeants.

Sputtering Targets Products

Heeger Metal offers a wide selection of high-performance sputtering targets made from materials like titanium, copper, aluminum, and rare earth metals. Our custom sputtering targets are precision-engineered to meet the demands of industries such as semiconductor manufacturing, photovoltaics, and electronics. With superior purity and consistency, our sputtering targets deliver exceptional film deposition performance, making them ideal for thin-film coating, sputtering, and PVD (Physical Vapor Deposition) applications.

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