Cible de pulvérisation d'or
Cible de pulvérisation d'or Pureté : ≥99.95%, ou cible de pulvérisation d'or personnalisée La cible de pulvérisation d'or est fabriquée à partir d'un métal d'or de haute pureté grâce à des techniques...
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Cible de pulvérisation de molybdène
Molybdenum Sputtering Target Purity: 99.95%-99.99% Material: Pure Mo361, MoTZM (Mo364), Mo-Lanthanoxid (ML) Molybdenum Sputtering Target is a thin film deposition material,…
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Cible de pulvérisation du niobium
Cible de pulvérisation de niobium Pureté : 99.5%-99.99% Matériau : R04200, R04210 La cible de pulvérisation de niobium est fabriquée à partir de niobium métallique de haute pureté, possédant...
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Cible de pulvérisation de palladium
Cible de pulvérisation de palladium Pureté : ≥99.95%, ou personnalisée Forme : Disque, rectangulaire, tube ou personnalisé La cible de pulvérisation au palladium est fabriquée à partir de palladium de haute pureté...
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Cible de pulvérisation de platine
Cible de pulvérisation de platine Pureté : ≥99.95% ou ≥99.99% Forme : Disque, rectangulaire, tube ou personnalisé La cible de pulvérisation de platine est fabriquée à partir de platine de haute pureté...
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Cible de pulvérisation de tantale
Cible de pulvérisation de tantale Pureté : 99.9%, 99.95%, 99.99%, 99.999% Matériau : R05200, R05400 La cible de pulvérisation au tantale est fabriquée à partir de tantale de haute pureté par...
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Cible de pulvérisation du titane
Matériau de la cible de pulvérisation du titane : Gr.1, Gr.2, Gr.3, Gr.7, Gr.9, Gr.12, Gr.16, etc. Pureté : 99.95%-99.995% La cible de pulvérisation de titane est l'une des...
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Cible de pulvérisation cathodique en tungstène
Cible de pulvérisation de tungstène Matériau : Pureté : 99%-99.999% La cible de pulvérisation en tungstène est fabriquée à partir de poudre de tungstène de haute pureté, jusqu'à 99.999%....