Gold Sputtering Target
Gold Sputtering Target Reinheit: ≥99.95%, oder kundenspezifische Gold Sputtering Target ist aus hochreinem Gold Metall durch präzise Techniken und ist...
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Molybdän-Sputtering-Target
Molybdän Sputtering Target Reinheit: 99.95%-99.99% Material: Reines Mo361, MoTZM (Mo364), Mo-Lanthanoxid (ML) Molybdän-Sputtering-Target ist ein Dünnschichtabscheidungsmaterial,...
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Niob-Sputtering-Target
Niob Sputterig Target Reinheit: 99.5%-99.99% Material: R04200, R04210 Niob Sputtering Target besteht aus hochreinem Niob-Metall-Material, das kleine Körner besitzt...
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Palladium Sputtering Target
Palladium Sputtering Target Reinheit: ≥99.95%, oder kundenspezifische Form: Disc, Rechteckig, Rohr, oder kundenspezifische Palladium Sputtering Target ist aus hochreinem Palladium...
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Platin Sputtering Target
Platin Sputtering Target Reinheit: ≥99.95% oder ≥99.99% Form: Disc, Rechteckig, Rohr, oder kundenspezifische Platin Sputtering Target ist aus hochreinem Platin...
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Tantal Sputtering Target
Tantal Sputtering Target Reinheit: 99.9%, 99.95%, 99.99%, 99.999% Material: R05200, R05400 Tantal Sputtering Target ist aus hochreinem Tantal Material durch...
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Titan-Sputtering-Target
Titan Sputtering Target Material: Gr.1, Gr.2, Gr.3, Gr.7, Gr.9, Gr.12, Gr.16, etc. Reinheit: 99.95%-99.995% Titanium Sputtering Target ist eines der...
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Wolfram Sputtering Target
Wolfram Sputtering Target Material: Reines Wolfram Reinheit: 99%-99.999% Wolfram Sputtering Target ist von hochreinem Wolfram-Pulver, so hoch wie 99.999%.... gemacht.