Hochreines Tantal-Pulver
Hochreines Tantal-Pulver
Reinheit: 99,95%, 99.99%
Partikelgröße: -100 Mesh, -200 Mesh, -300 Mesh, -500 Mesh, oder kundenspezifisch
Hochreine Tantal Pulver ist ein hochwertiges Material mit einem Reinheitsgrad von ≥99,95% (anpassbar auf 99,99%) und einer Partikelgröße von -500 mesh bis -100 mesh (anpassbar an spezifische Anforderungen). Wir sind ein führender Anbieter und Hersteller von hochwertigen Tantalprodukten, Heeger Metall setzt fortschrittliche Technologie ein, um hochreine Tantal-Pulver für verschiedene Anwendungen.
Oder senden Sie uns eine E-Mail an max@heegermaterials.com.Datenblatt Hochreines Tantal-Pulver
Reinheit: | 99.95%, 99.99% |
Partikelgröße: | -100 Maschen, -200 Maschen, -300 Maschen, -500 Maschen oder kundenspezifisch |
Morphologie: | Unregelmäßig oder kugelförmig |
Hochreines Tantal-Pulver
Hochreines Tantalpulver hat einen ultrahohen Reinheitsgrad ≥99,95% (Sauerstoffgehalt <500ppm). Es bietet hervorragende Korrosionsbeständigkeit, Hochtemperaturleistung und elektrische Leitfähigkeit. Es findet breite Anwendung in High-End-Kondensatoren, Halbleiterkomponenten, supraleitenden Materialien, Hochtemperaturlegierungen, im medizinischen 3D-Druck und in der Kernenergieindustrie. Um den unterschiedlichen Anwendungsanforderungen gerecht zu werden, haben wir auch eine umfassende Palette von Hochleistungspulverprodukten entwickelt, darunter sauerstoffarmes Tantalpulver (Sauerstoffgehalt von bis zu 200ppm), sauerstoffarm Niobium-Pulver (Sauerstoffgehalt von nur 400 ppm), Tantal Wolframlegierungspulver, C103 Niob-Legierungspulver, Nb521-Niob-Legierungspulver, etc. HM kann ultrahochreines Tantalpulver in einer breiten Palette von Partikelgrößenverteilungen anbieten, die auf die spezifischen Anforderungen verschiedener Anwendungen zugeschnitten werden können.
Hochreines Tantal-Pulver Spezifikationen
Kategorie | 4N Tantal-Pulver | 3N5 Tantal-Pulver | |||||||
Klasse | FT-01 | FT-02 | FT-03 | FT-04 | FT-1 | FT-2 | FT-3 | FT-4 | |
Gehalt an Verunreinigungen (≤%) | Nb | 0.0030 | 0.0030 | 0.0030 | 0.0030 | 0.0060 | 0.0060 | 0.0060 | 0.0060 |
O | 0.0800 | 0.0900 | 0.1000 | 0.1600 | 0.0850 | 0.0950 | 0.1100 | 0.1800 | |
N | 0.0030 | 0.0030 | 0.0030 | 0.0030 | 0.0050 | 0.0050 | 0.0050 | 0.0050 | |
C | 0.0020 | 0.0020 | 0.0020 | 0.0020 | 0.0050 | 0.0050 | 0.0050 | 0.0050 | |
Fe | 0.0005 | 0.0005 | 0.0005 | 0.0005 | 0.0030 | 0.0030 | 0.0030 | 0.0030 | |
Si | 0.0020 | 0.0020 | 0.0020 | 0.0020 | 0.0020 | 0.0020 | 0.0020 | 0.0020 | |
Ni | 0.0005 | 0.0005 | 0.0005 | 0.0005 | 0.0020 | 0.0020 | 0.0020 | 0.0020 | |
Cr | 0.0005 | 0.0005 | 0.0005 | 0.0005 | 0.0020 | 0.0020 | 0.0020 | 0.0020 | |
W | 0.0010 | 0.0010 | 0.0010 | 0.0010 | 0.0020 | 0.0020 | 0.0020 | 0.0020 | |
Mo | 0.0010 | 0.0010 | 0.0010 | 0.0010 | 0.0010 | 0.0010 | 0.0010 | 0.0010 | |
Ti | 0.0005 | 0.0005 | 0.0005 | 0.0005 | 0.0005 | 0.0005 | 0.0005 | 0.0005 | |
Mn | 0.0005 | 0.0005 | 0.0005 | 0.0005 | 0.0005 | 0.0005 | 0.0005 | 0.0005 | |
Cu | 0.0005 | 0.0005 | 0.0005 | 0.0005 | 0.0005 | 0.0005 | 0.0005 | 0.0005 | |
Al | 0.0005 | 0.0005 | 0.0005 | 0.0005 | 0.0005 | 0.0005 | 0.0005 | 0.0005 | |
Screening | -100 Maschen | -200 Maschen | -300 Maschen | -500 Maschen | -100 Maschen | -200 Maschen | -300 Maschen | -500 Maschen | |
Übergroßes Material ist kleiner als 5% | Übergroßes Material ist kleiner als 5% |
Hochreines Tantalpulver Anwendungen
- Elektronik: Hochreines Tantalpulver wird in erster Linie zur Herstellung von Hochleistungskondensatoren aus Tantal verwendet. Diese Kondensatoren werden aufgrund ihrer geringen Größe, stabilen Leistung, hohen Temperaturbeständigkeit und langen Lebensdauer häufig in Mobiltelefonen, Computern, Fernsehgeräten und anderen elektronischen Geräten eingesetzt.
- Luft- und Raumfahrt: Tantalpulver wird bei der Herstellung von Hochtemperaturlegierungen und Triebwerksteilen verwendet, die extrem hohen Temperaturen standhalten und die Zuverlässigkeit und Sicherheit von Flugzeugen gewährleisten.
- Chemische Industrie: Die Korrosionsbeständigkeit von Tantal macht es zu einem weit verbreiteten Werkstoff in chemischen Anlagen, insbesondere in Reaktoren, Rohrleitungen und Behältern in Hochtemperatur- und korrosiven Umgebungen.
- Medizinischer 3D-Druck: Hochreines Tantalpulver wird zur Herstellung von medizinischen Implantaten verwendet. Aufgrund seiner Biokompatibilität wird Tantal häufig für orthopädische und zahnmedizinische Implantate sowie für chirurgische Instrumente verwendet.
- Kernenergie: Im Kernenergiesektor wird Tantal aufgrund seiner ausgezeichneten Strahlungsbeständigkeit für die Herstellung von Bauteilen in Kernreaktoren verwendet, so dass es in nuklearen Umgebungen über einen längeren Zeitraum stabil funktioniert.
Hochreines Tantal-Pulver Verpackung
Hochreine Tantalpulverprodukte werden sorgfältig in Holzkisten oder Kartons verpackt, die zusätzlich mit weichen Materialien gestützt werden, um ein Verrutschen während des Transports zu verhindern. Diese Verpackungsmethode garantiert die Unversehrtheit der Produkte während des gesamten Lieferprozesses.
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Andere pulverförmige Produkte
Heeger Metal bietet ein umfassendes Sortiment an Metallpulvern, einschließlich sphärischer Pulver und Nanopulver. Unsere hochwertigen Metallpulver sind ideal für Anwendungen in den Bereichen 3D-Druck, Pulvermetallurgie, Elektronik und fortschrittliche Fertigung. Diese Pulver bieten eine hervorragende Konsistenz, Fließfähigkeit und Partikelgrößenverteilung und gewährleisten eine hervorragende Leistung in verschiedenen industriellen Prozessen. Ob Sie nun kundenspezifische Metallpulver oder Standardlegierungspulver benötigen, unsere Produkte erfüllen die höchsten Qualitätsstandards für Präzision und Zuverlässigkeit.
Andere Tantalprodukte
Heeger Metal bietet eine umfassende Palette von Erzeugnisse aus Tantal und TantallegierungenSie sind bekannt für ihre hervorragende Korrosionsbeständigkeit, ihren hohen Schmelzpunkt und ihre Stabilität in rauen Umgebungen. Diese Eigenschaften machen sie ideal für anspruchsvolle Anwendungen in der Luft- und Raumfahrt, der Elektronik und der chemischen Industrie. Unser hochreine Tantalwerkstoffe bieten außergewöhnliche Leistung und Zuverlässigkeit unter schwierigen Bedingungen.