Cible de pulvérisation cathodique en tungstène
Cible de pulvérisation cathodique en tungstène
Matériau : Tungstène pur
Pureté : 99%-99.999%
La cible de pulvérisation en tungstène est fabriquée à partir de matériaux de haute pureté. poudre de tungstèneIl peut atteindre 99,999%. Il possède les avantages d'un point de fusion élevé, d'une densité élevée, d'une résistance à la corrosion et d'une bonne stabilité thermique. En tant que principal fournisseur et fabricant de produits en tungstène de qualité supérieure, Heeger Materials s'appuie sur des centres d'usinage avancés pour fournir des cibles de pulvérisation de haute précision, des sources d'évaporation et d'autres matériaux de dépôt pour une large gamme d'applications.
Ou envoyez-nous un courriel à l'adresse suivante max@heegermaterials.com.Fiche technique des cibles de pulvérisation de tungstène
Référence : | HMST24 |
Matériau : | Tungstène |
La pureté : | 99%, 99.9%, 99.95%, 99.99%, 99.999% |
Forme : | Disque, rectangulaire, rotatif ou personnalisé |
Collage : | Dissociation ou dissociation |
Cible de pulvérisation cathodique en tungstène
Cible de pulvérisation cathodique en tungstène est un matériau de dépôt de haute performance, largement utilisé dans les semi-conducteurs, le dépôt chimique en phase vapeur (CVD), le dépôt physique en phase vapeur (PVD) et les applications optiques. HM peut proposer des solutions personnalisées et des services de collage pour répondre à des besoins spécifiques.
Composition chimique du matériau cible de pulvérisation du tungstène
W (>%) | Teneur en substances chimiques (<%) | |||||||||||
99.999 W1 | Fe | Ca | Être | Sn | Al | Ni | Zn | Sb | Pt | K | Ta | Na |
0.0001 | 0.00005 | 0.000005 | 0.000005 | 0.00005 | 0.00001 | 0.00005 | 0.00005 | 0.00003 | 0.000005 | 0.0001 | 0.00005 | |
Cr | Pb | En tant que | Mg | Ti | Bi | Mo | Cd | Cu | Ba | Co | Mn | |
0.000005 | 0.00001 | 0.00005 | 0.00005 | 0.000005 | 0.00001 | 0.00001 | 0.000005 | 0.000007 | 0.00001 | 0.000005 | 0.000005 | |
99.99 W2 | Fe | Ca | Être | Sn | Al | Ni | Zn | Sb | Pt | K | O | Na |
0.0001 | 0.00045 | 0.0001 | 0.0001 | 0.0001 | 0.0001 | 0.0001 | 0.0001 | 0.0001 | 0.0005 | 0.0040 | 0.0009 | |
Cr | Pb | En tant que | Mg | Ti | Bi | Mo | Cd | Cu | Ba | Co | Mn | |
0.0001 | 0.0001 | 0.0001 | 0.0001 | 0.0001 | 0.0001 | 0.0002 | 0.0001 | 0.0001 | 0.0001 | 0.0001 | 0.0001 | |
99.95 W3 | Fe | Ca | P | Sn | Al | Ni | N | Sb | Si | O | Pb | En tant que |
0.005 | 0.003 | 0.001 | 0.0001 | 0.002 | 0.003 | 0.003 | 0.001 | 0.003 | 0.003 | 0.0001 | 0.002 | |
Mg | C | Bi | Mo | |||||||||
0.002 | 0.005 | 0.0001 | 0.001 |
Spécifications des cibles de pulvérisation de tungstène
Type de matériau | Tungstène | Coefficient de dilatation thermique | 4.5 x 10-6/K |
Symbole | W | Densité théorique (g/cc) | 19.25 |
Poids atomique | 183.84 | Rapport Z | 0.163 |
Numéro atomique | 74 | Pulvérisation | DC |
Couleur/apparence | Blanc grisâtre, Lustré, Métallique | Densité de puissance maximale (watts/pouce carré) | 100* |
Conductivité thermique | 174 W/m.K | Type d'obligation | Indium, Elastomère |
Point de fusion (°C) | 3,410 | Commentaires | Forme des oxydes volatils. Les films sont durs et adhérents. |
Dimensions du stock de cibles de pulvérisation de tungstène
Cibles de pulvérisation circulaire | Diamètre | 1.0″ 2.0″ 3.0″ 4.0″ 5.0″ 6.0″ jusqu'à 21″. |
Cibles de pulvérisation rectangulaires | Largeur x Longueur | 5″ x 12″ 5""x 15″ 5″ x 20″ 5″ x 22″ 6″ x 20″ |
Épaisseur | 0.125″, 0.25″ |
Avantages des cibles de pulvérisation cathodique en tungstène
- Cibles de pulvérisation en tungstène de haute pureté, frittées et coulées, jusqu'à 99,95% et au-delà.
- Prototypage rapide, métallurgie des poudres et pressage direct.
- Densité élevée, la densité de la cible de pulvérisation du tungstène après la coulée peut être supérieure à 19,1 g/cm3.
- L'application étendue de la méthode de métallurgie des poudres fait que le coût des cibles en tungstène est inférieur à celui d'autres matériaux cibles, tels que le titane.
- Composition et structure uniformes, améliorant la force de déflexion de la cible en tungstène.
- La taille des particules fines, l'uniformité des grains, les autres axes, la concentration élevée et la qualité du produit de revêtement sont plus élevés.
Processus de production des cibles de pulvérisation cathodique en tungstène
Généralement préparés par la méthode de la métallurgie des poudres, la pureté des la poudre de tungstène doit être supérieure à 99,95%, et la taille des particules doit être comprise entre 3,2 et 4,2 μm. Le processus spécifique est le suivant :
- Placer la poudre de tungstène dans le four de traitement thermique sous vide pour le pré-gazage, puis introduire de l'hydrogène et continuer à chauffer pour le dégazage.
- La poudre de tungstène dégazée est frittée une fois par pressage à chaud sous vide.
- Le produit fritté primaire passe par une presse isostatique chaude pour compléter le frittage secondaire.
- Après le frittage secondaire, toute la surface du produit est rectifiée par usinage pour obtenir le produit final.
Applications des cibles de pulvérisation de tungstène
- Fabrication de semi-conducteurs: Dans la fabrication de circuits intégrés et de dispositifs microélectroniques, les cibles de pulvérisation du tungstène sont utilisées pour déposer des couches conductrices ou des couches barrières par la technologie de dépôt physique en phase vapeur (PVD).
- Industrie photovoltaïque: Les cibles de pulvérisation du tungstène sont utilisées pour produire des panneaux solaires afin de former des couches de conversion photovoltaïque très efficaces par pulvérisation, améliorant ainsi l'efficacité et la stabilité des cellules solaires.
- Revêtements durs et fabrication d'outils: La dureté du tungstène et sa résistance à l'usure en font un matériau de revêtement très performant. Les cibles de pulvérisation du tungstène sont utilisées pour produire des revêtements durs pour les outils de coupe métalliques, les moules, etc. afin d'améliorer leur durabilité et leur résistance à l'usure.
- Militaire et aérospatiale: Les propriétés de haute densité et de haute résistance des cibles de pulvérisation du tungstène les rendent importantes pour la fabrication d'équipements de protection militaire et de dispositifs aérospatiaux.
- Composants électroniques: La conductivité thermique et électrique élevée de la cible de pulvérisation du tungstène lui permet de jouer un rôle important dans la dissipation de la chaleur et le blindage électromagnétique des appareils électroniques.
Emballage des cibles de pulvérisation de tungstène
La cible de pulvérisation de tungstène est soigneusement placée dans des caisses ou des cartons en bois, avec un support supplémentaire en matériaux souples, afin d'éviter qu'elle ne se déplace pendant le transport. Cette méthode d'emballage garantit l'intégrité des produits tout au long du processus de livraison.
Propriétés du tungstène
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Heeger Metal propose une large gamme de produits en tungstène et alliages de tungstèneCes matériaux sont disponibles en plusieurs versions, des poudres aux composants finis, avec des options de personnalisation. Connus pour leur résistance exceptionnelle, leur point de fusion élevé et leur excellente résistance à l'usure et à la corrosion, ces matériaux sont idéaux pour les applications aérospatiales, électroniques et industrielles. Nos produits tungstène de haute pureté garantit une durabilité et des performances exceptionnelles, même dans les conditions les plus extrêmes.
Cibles de pulvérisation cathodique Produits
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Produits en disque
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