Cible de pulvérisation de zirconium
Cible de pulvérisation de zirconium
Matériau : Zr702, Zr704, Zr705
La pureté : 99.95%-99.99%
Les cibles de pulvérisation de zirconium sont fabriquées à partir de métal ou d'alliages de zirconium de haute performance dans une large gamme de spécifications, largement utilisées dans les applications de semi-conducteurs, de dépôt chimique en phase vapeur (CVD), de dépôt physique en phase vapeur (PVD) et d'optique. En tant que principal fournisseur et fabricant de produits en zirconium de qualité supérieure, Heeger Materials s'appuie sur une technologie de pointe pour fournir des cibles de pulvérisation de zirconium de haute précision pour une large gamme d'applications.
Ou envoyez-nous un courriel à l'adresse suivante max@heegermaterials.com.Fiche technique sur les cibles de pulvérisation de zirconium
Référence : | HMST28 |
Matériau : | Zr702, Zr704, Zr705 |
La pureté : | 99.5%-99.99% |
Forme : | Plat, rotatif ou personnalisé |
Collage : | Décollement ou collage |
Cible de pulvérisation de zirconium
Cible de pulvérisation cathodique en zirconium (Zr) Le zirconium est largement utilisé pour le dépôt de couches minces en raison de son point de fusion élevé, de son excellente stabilité chimique et de sa remarquable résistance à la corrosion. HM peut fournir des cibles de pulvérisation de zirconium de haute qualité dans diverses spécifications avec différentes puretés, tailles et densités.
Composition du matériau de la cible de pulvérisation de zirconium
Matériau | Composition chimique | ||||||
Zr+Hf | Sn | Fe | Cr | Ni | Hf | Nb | |
Zr 702 | ~99.5% | / | <0,05% | <0,05% | / | 1~2.5% | / |
Zr 704 | ~97.5% | 1~2% | 0.1~0.2% | 0.1~0.2% | / | <4.5% | / |
Zr 705 | ~95.5% | 1~2% | <0,05% | <0,01% | / | <4.5% | 2~3% |
Zircaloy-2 | ~98% | 1.2~1.7% | 0.07~0.2% | 0.05~0.15% | 0.03~0.08% | <200ppm (pour l'industrie nucléaire) | / |
Zircaloy-4 | ~98% | 1.2~1.7% | 0.07~0.2% | 0.05~0.15% | <0,007% | <200ppm (pour l'industrie nucléaire) | / |
Spécifications des cibles de pulvérisation de zirconium
Type de matériau | Zirconium | Densité théorique (g/cc) | 6.49 |
Symbole | Zr | Rapport Z | 0.6 |
Poids atomique | 91.224 | Pulvérisation | DC |
Numéro atomique | 40 | Densité de puissance maximale (Watts/pouce carré) | 50* |
Couleur/apparence | Blanc argenté, métallisé | ||
Conductivité thermique | 22,7 W/m.K | Type d'obligation | Indium, Elastomère |
Point de fusion (°C) | 1,852 | Commentaires | Les alliages avec les films W. s'oxydent facilement. |
Coefficient de dilatation thermique | 5,7 x 10-6/K |
Dimensions du stock de cibles de pulvérisation de zirconium
Cibles de pulvérisation circulaire | Diamètre | 1.0" 2.0" 3.0" 4.0" 5.0" 6.0" jusqu'à 21" |
Cibles de pulvérisation rectangulaires | Largeur x Longueur | 5" x 12" 5" x 15" 5" x 20" 5" x 22" 6" x 20" |
Épaisseur | 0.125", 0.25" |
Avantages des cibles de pulvérisation au zirconium
- Point de fusion élevé: Avec un point de fusion de 1852°C, le zirconium présente une excellente stabilité thermique. Dans les environnements à haute température, les cibles de pulvérisation au zirconium sont résistantes à la fonte ou à la déformation, ce qui garantit un dépôt régulier de couches minces et d'autres processus, améliorant ainsi la qualité des produits et la stabilité des processus.
- Stabilité chimique: Les cibles de pulvérisation en zirconium sont très résistantes à l'érosion de divers produits chimiques et offrent une stabilité exceptionnelle dans des environnements exigeants.
- Résistance à la corrosion: Le zirconium présente une résistance exceptionnelle à la corrosion dans des conditions acides et de brouillard salin, ce qui prolonge considérablement la durée de vie du matériau.
- Densité et dureté: Avec une densité d'environ 6,51 g/cm³, le zirconium offre une excellente stabilité mécanique. Il possède également une bonne dureté, ce qui lui permet de résister à l'abrasion et aux chocs mécaniques.
- Conductivité thermique: Le zirconium a une conductivité thermique élevée d'environ 22 W/m-K, qui dissipe efficacement la chaleur pendant l'utilisation, ce qui contribue à améliorer les performances et la longévité.
Processus de production de cibles de pulvérisation de zirconium
Le processus de production des cibles de pulvérisation de zirconium est un processus complexe qui exige un contrôle strict des paramètres et de la qualité à chaque étape afin de garantir des performances optimales. Il comprend principalement les étapes suivantes :
- Préparation des matières premières: La sélection de matériaux en zirconium de haute pureté est la première étape de la préparation de cibles de pulvérisation de zirconium de haute qualité.
- Fusion: Un four à arc électrique ou à induction fait fondre les matières premières à haute température pour produire du zirconium métallique. Un contrôle strict de la température du four, de l'atmosphère et du flux de gaz protecteur est essentiel pour éviter l'oxydation et les impuretés et garantir la pureté et l'uniformité de la matière fondue.
- Casting: Après la fusion, le zirconium métal est coulé en lingots dans des moules. Le processus de coulée doit être réalisé dans un environnement de gaz inerte de haute pureté afin d'éviter l'oxydation et la contamination par des impuretés.
- Roulant: Le casting lingot de zirconium subit un laminage pour obtenir l'épaisseur et la forme requises. Le chauffage et le refroidissement répétés améliorent la densité et l'uniformité du matériau, tandis qu'un contrôle précis de la température et de la force de laminage permet d'éviter les défauts tels que les fissures et les déformations.
- Traitement de surface: Les cibles de pulvérisation de zirconium subissent un traitement de surface pour éliminer les couches d'oxyde et les impuretés, à l'aide de méthodes telles que le polissage chimique, qui élimine les contaminants par des réactions chimiques, et le polissage mécanique, qui améliore la finition et la planéité de la surface à l'aide d'abrasifs.
- Contrôle de la qualité: Des équipements et des techniques d'essai avancés permettent d'évaluer la pureté, la composition, la densité, l'uniformité, l'apparence et la précision dimensionnelle du matériau cible afin de s'assurer qu'il répond aux normes de production et aux exigences des clients.
Applications des cibles de pulvérisation de zirconium
- Microélectronique et fabrication de semi-conducteurs: Les films de zirconium, déposés par pulvérisation magnétron, sont utilisés dans les dispositifs semi-conducteurs pour améliorer les performances et la stabilité, notamment pour réduire le courant de fuite dans les dispositifs à haute fréquence et à haute puissance.
- Optique et photovoltaïque: Les films de zirconium, déposés par pulvérisation magnétron, renforcent les propriétés antireflets et la transmission de la lumière dans les dispositifs optiques, améliorant ainsi la qualité de l'imagerie. Les dispositifs photovoltaïques, tels que les cellules solaires, augmentent l'efficacité de la conversion et garantissent une détection précise de la lumière dans des conditions variables.
- Revêtements durs: Les couches minces de zirconium sur les outils et les pièces mécaniques améliorent la résistance à l'usure et à la corrosion, augmentant les performances et prolongeant la durée de vie dans les environnements à forte usure tels que les outils de coupe, les perceuses et les pompes. Cela permet de réduire la maintenance, de diminuer les coûts et de renforcer la durabilité et la fiabilité.
- Revêtements décoratifs: Les films minces de zirconium, disponibles en différentes couleurs et brillances, sont utilisés pour la décoration des surfaces dans l'architecture, l'ameublement et l'électronique. Ils améliorent l'esthétique tout en offrant une protection supplémentaire contre l'usure et la corrosion sur des surfaces telles que le verre, les panneaux et l'électronique.
Emballage des cibles de pulvérisation de zirconium
La cible de pulvérisation au zirconium est soigneusement placée dans des caisses en bois ou des cartons avec un support supplémentaire en matériaux souples pour éviter tout déplacement pendant le transport. Cette méthode d'emballage garantit l'intégrité des produits tout au long du processus de livraison.
Propriétés du zirconium
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Cibles de pulvérisation cathodique Produits
Heeger Metal propose une large sélection de cibles de pulvérisation haute performance fabriquées à partir de matériaux tels que le titane, le cuivre, l'aluminium et les métaux des terres rares. Nos cibles de pulvérisation personnalisées sont conçues avec précision pour répondre aux exigences d'industries telles que la fabrication de semi-conducteurs, la photovoltaïque et l'électronique. D'une pureté et d'une consistance supérieures, nos cibles de pulvérisation offrent des performances exceptionnelles en matière de dépôt de film, ce qui les rend idéales pour les applications de revêtement de couches minces, de pulvérisation et de dépôt physique en phase vapeur (PVD).
Autres produits en zirconium/hafnium
Heeger Metal propose une large sélection de produits en zirconium et en hafnium, réputés pour leur excellente résistance à la corrosion, leur stabilité à haute température et leur remarquable solidité dans les environnements extrêmes. Ces qualités les rendent idéaux pour des applications critiques dans des industries telles que l'aérospatiale, l'énergie nucléaire et le traitement chimique. Nos matériaux en zirconium et en hafnium de haute pureté garantissent des performances et une durabilité supérieures, même dans les conditions les plus exigeantes.