Cible de pulvérisation de zirconium

Cible de pulvérisation de zirconium

Cible de pulvérisation de zirconium

Matériau : Zr702, Zr704, Zr705

La pureté : 99.95%-99.99%

  • Dimensions sur mesure et dimensions standard en stock
  • Délai d'exécution rapide
  • Prix compétitif
5 cote d'étoiles
5 cote d'étoiles
5 cote d'étoiles
5 cote d'étoiles
5 cote d'étoiles

Les cibles de pulvérisation de zirconium sont fabriquées à partir de métal ou d'alliages de zirconium de haute performance dans une large gamme de spécifications, largement utilisées dans les applications de semi-conducteurs, de dépôt chimique en phase vapeur (CVD), de dépôt physique en phase vapeur (PVD) et d'optique. En tant que principal fournisseur et fabricant de produits en zirconium de qualité supérieure, Heeger Materials s'appuie sur une technologie de pointe pour fournir des cibles de pulvérisation de zirconium de haute précision pour une large gamme d'applications.

Ou envoyez-nous un courriel à l'adresse suivante max@heegermaterials.com.

Fiche technique sur les cibles de pulvérisation de zirconium

Référence :HMST28
Matériau :Zr702, Zr704, Zr705
La pureté :99.5%-99.99%
Forme :Plat, rotatif ou personnalisé
Collage :Décollement ou collage

Cible de pulvérisation de zirconium

Cible de pulvérisation cathodique en zirconium (Zr) Le zirconium est largement utilisé pour le dépôt de couches minces en raison de son point de fusion élevé, de son excellente stabilité chimique et de sa remarquable résistance à la corrosion. HM peut fournir des cibles de pulvérisation de zirconium de haute qualité dans diverses spécifications avec différentes puretés, tailles et densités.

Composition du matériau de la cible de pulvérisation de zirconium

MatériauComposition chimique
Zr+HfSnFeCrNiHfNb
Zr 702~99.5%/<0,05%<0,05%/1~2.5%/
Zr 704~97.5%1~2%0.1~0.2%0.1~0.2%/<4.5%/
Zr 705~95.5%1~2%<0,05%<0,01%/<4.5%2~3%
Zircaloy-2~98%1.2~1.7%0.07~0.2%0.05~0.15%0.03~0.08%<200ppm
(pour l'industrie nucléaire)
/
Zircaloy-4~98%1.2~1.7%0.07~0.2%0.05~0.15%<0,007%<200ppm
(pour l'industrie nucléaire)
/

Spécifications des cibles de pulvérisation de zirconium

Type de matériauZirconiumDensité théorique (g/cc)6.49
SymboleZrRapport Z0.6
Poids atomique91.224PulvérisationDC
Numéro atomique40Densité de puissance maximale
(Watts/pouce carré)
50*
Couleur/apparenceBlanc argenté, métallisé
Conductivité thermique22,7 W/m.KType d'obligationIndium, Elastomère
Point de fusion (°C)1,852CommentairesLes alliages avec les films W. s'oxydent facilement.
Coefficient de dilatation thermique5,7 x 10-6/K 

Dimensions du stock de cibles de pulvérisation de zirconium

Cibles de pulvérisation circulaireDiamètre1.0"
2.0"
3.0"
4.0"
5.0"
6.0"
jusqu'à 21"
Cibles de pulvérisation rectangulairesLargeur x Longueur5" x 12"
5" x 15"
5" x 20"
5" x 22"
6" x 20"
Épaisseur0.125", 0.25"

Avantages des cibles de pulvérisation au zirconium

  • Point de fusion élevé: Avec un point de fusion de 1852°C, le zirconium présente une excellente stabilité thermique. Dans les environnements à haute température, les cibles de pulvérisation au zirconium sont résistantes à la fonte ou à la déformation, ce qui garantit un dépôt régulier de couches minces et d'autres processus, améliorant ainsi la qualité des produits et la stabilité des processus.
  • Stabilité chimique: Les cibles de pulvérisation en zirconium sont très résistantes à l'érosion de divers produits chimiques et offrent une stabilité exceptionnelle dans des environnements exigeants.
  • Résistance à la corrosion: Le zirconium présente une résistance exceptionnelle à la corrosion dans des conditions acides et de brouillard salin, ce qui prolonge considérablement la durée de vie du matériau.
  • Densité et dureté: Avec une densité d'environ 6,51 g/cm³, le zirconium offre une excellente stabilité mécanique. Il possède également une bonne dureté, ce qui lui permet de résister à l'abrasion et aux chocs mécaniques.
  • Conductivité thermique: Le zirconium a une conductivité thermique élevée d'environ 22 W/m-K, qui dissipe efficacement la chaleur pendant l'utilisation, ce qui contribue à améliorer les performances et la longévité.

Processus de production de cibles de pulvérisation de zirconium

Le processus de production des cibles de pulvérisation de zirconium est un processus complexe qui exige un contrôle strict des paramètres et de la qualité à chaque étape afin de garantir des performances optimales. Il comprend principalement les étapes suivantes :

  • Préparation des matières premières: La sélection de matériaux en zirconium de haute pureté est la première étape de la préparation de cibles de pulvérisation de zirconium de haute qualité.
  • Fusion: Un four à arc électrique ou à induction fait fondre les matières premières à haute température pour produire du zirconium métallique. Un contrôle strict de la température du four, de l'atmosphère et du flux de gaz protecteur est essentiel pour éviter l'oxydation et les impuretés et garantir la pureté et l'uniformité de la matière fondue.
  • Casting: Après la fusion, le zirconium métal est coulé en lingots dans des moules. Le processus de coulée doit être réalisé dans un environnement de gaz inerte de haute pureté afin d'éviter l'oxydation et la contamination par des impuretés.
  • Roulant: Le casting lingot de zirconium subit un laminage pour obtenir l'épaisseur et la forme requises. Le chauffage et le refroidissement répétés améliorent la densité et l'uniformité du matériau, tandis qu'un contrôle précis de la température et de la force de laminage permet d'éviter les défauts tels que les fissures et les déformations.
  • Traitement de surface: Les cibles de pulvérisation de zirconium subissent un traitement de surface pour éliminer les couches d'oxyde et les impuretés, à l'aide de méthodes telles que le polissage chimique, qui élimine les contaminants par des réactions chimiques, et le polissage mécanique, qui améliore la finition et la planéité de la surface à l'aide d'abrasifs.
  • Contrôle de la qualité: Des équipements et des techniques d'essai avancés permettent d'évaluer la pureté, la composition, la densité, l'uniformité, l'apparence et la précision dimensionnelle du matériau cible afin de s'assurer qu'il répond aux normes de production et aux exigences des clients.

Applications des cibles de pulvérisation de zirconium

  • Microélectronique et fabrication de semi-conducteurs: Les films de zirconium, déposés par pulvérisation magnétron, sont utilisés dans les dispositifs semi-conducteurs pour améliorer les performances et la stabilité, notamment pour réduire le courant de fuite dans les dispositifs à haute fréquence et à haute puissance.
  • Optique et photovoltaïque: Les films de zirconium, déposés par pulvérisation magnétron, renforcent les propriétés antireflets et la transmission de la lumière dans les dispositifs optiques, améliorant ainsi la qualité de l'imagerie. Les dispositifs photovoltaïques, tels que les cellules solaires, augmentent l'efficacité de la conversion et garantissent une détection précise de la lumière dans des conditions variables.
  • Revêtements durs: Les couches minces de zirconium sur les outils et les pièces mécaniques améliorent la résistance à l'usure et à la corrosion, augmentant les performances et prolongeant la durée de vie dans les environnements à forte usure tels que les outils de coupe, les perceuses et les pompes. Cela permet de réduire la maintenance, de diminuer les coûts et de renforcer la durabilité et la fiabilité.
  • Revêtements décoratifs: Les films minces de zirconium, disponibles en différentes couleurs et brillances, sont utilisés pour la décoration des surfaces dans l'architecture, l'ameublement et l'électronique. Ils améliorent l'esthétique tout en offrant une protection supplémentaire contre l'usure et la corrosion sur des surfaces telles que le verre, les panneaux et l'électronique.

Emballage des cibles de pulvérisation de zirconium

La cible de pulvérisation au zirconium est soigneusement placée dans des caisses en bois ou des cartons avec un support supplémentaire en matériaux souples pour éviter tout déplacement pendant le transport. Cette méthode d'emballage garantit l'intégrité des produits tout au long du processus de livraison.

Emballage métallique

Propriétés du zirconium

ObjetValeur
Numéro atomique40
Structure cristallineHexagonale, en paquet serré
Structure électroniqueKr 4d² 5s²
Valences présentées2,3,4
Poids atomique( amu )91.22
Section efficace d'absorption des neutrons thermiques( Barns )0.182
Travail photo-électrique( eV )3.8
Distribution des isotopes naturels( No. de masse /% )96/ 2.8
Distribution des isotopes naturels( No. de masse /% )92/ 17.1
Distribution des isotopes naturels( No. de masse /% )91/ 11.2
Distribution des isotopes naturels( No. de masse /% )94/ 17.5
Distribution des isotopes naturels( No. de masse /% )90/ 51.4
Rayon atomique - Goldschmidt( nm )0.16
Potentiel d'ionisation( No./eV )4/ 34.34
Potentiel d'ionisation( No./eV )Juin-99
Potentiel d'ionisation( No./eV )2/ 13.13
Potentiel d'ionisation( No./eV )1/ 6.84
Potentiel d'ionisation( No./eV )5/ 81.5
Potentiel d'ionisation( No./eV )3/ 22.99
ObjetValeur
État des matériauxPolycristallin
État des matériauxDouceur
Rapport de Poisson0.38
Rapport de Poisson0.38
Module volumique( GPa )89.8
Module volumique( GPa )89.8
Module de traction( GPa )98
Module de traction( GPa )98
Dureté - Vickers( kgf mm-² )85-100
Résistance à la traction( MPa )350-390
Limite d'élasticité( MPa )250-310
ObjetValeur
Résistivité électrique( µOhmcm )44@20@20°C
Température critique de supraconductivité( K )0.61
Coefficient de température( K-¹ )0.0044@0-100°C
Emf thermique contre Pt (froid 0C - chaud 100C)( mV )1.17
ObjetValeur
Point d'ébullition( °C )4377
Densité( gcm-³ )6.49@20°C
ÉlémentValeur
Point de fusion( °C )1852
Chaleur latente d'évaporation( J g-¹ )6360
Chaleur latente de fusion( J g-¹ )211
Chaleur spécifique( J K-¹ kg-¹ )281@25°C
Conductivité thermique( W m-¹ K-¹ )22.7@0-100°C
Coefficient de dilatation thermique( x10-⁶ K-¹ )5.9@0-100°C

Obtenir un devis

Nous vérifierons et vous contacterons dans les 24 heures.

Pour personnaliser votre cible de pulvérisation de zirconium, veuillez fournir les détails suivants :

  1. Diamètre (pour les cibles de pulvérisation circulaire)
  2. Largeur × Longueur (pour les cibles de pulvérisation rectangulaires)
  3. L'étroitesse d'esprit (pour les cibles de pulvérisation)
  4. La pureté de la matière
  5. Plaque d'appui (Si un service de collage est requis, veuillez spécifier le matériau et les dimensions de la plaque de support.)
  6. Quantité des produits dont vous avez besoin
  7. Vous pouvez également fournir un dessin avec vos spécifications.

Une fois que nous aurons reçu ces informations, nous pourrons vous fournir un devis dans les 24 heures.

Nous avons en stock une grande variété de produits en zirconium et en alliage de zirconium, et pour ceux-ci, il n'y a généralement pas de minimum de commande. Toutefois, pour les commandes personnalisées, nous fixons généralement une valeur minimale de $200. Le délai de livraison des articles en stock est généralement de 1 à 2 semaines, tandis que celui des commandes personnalisées est de 3 à 4 semaines, en fonction des spécificités de la commande.

La conformité au DFARS (Defense Federal Acquisition Regulation Supplement) concerne principalement l'approvisionnement en matériaux pour des applications liées à la défense aux États-Unis. Selon le DFARS, certains matériaux utilisés pour la défense doivent provenir des États-Unis ou de pays qualifiés.

Si vous avez des matériaux en molybdène spécifiques qui sont soumis au DFARS, veuillez nous en informer à l'avance et nous vous confirmerons.

Chez Heeger Materials Inc. nous prenons cette responsabilité au sérieux. Nous respectons toutes les lois et réglementations applicables, y compris la section 1502 de la loi Dodd-Frank. Notre entreprise applique un code d'éthique strict et s'engage à ne s'associer qu'avec des fournisseurs qui partagent notre engagement en faveur d'un approvisionnement responsable. Nous soutenons les initiatives et les programmes visant à promouvoir des chaînes d'approvisionnement "sans conflit" et travaillons avec diligence pour nous assurer que nos produits répondent à ces normes.

Heeger Materials Inc. a été créée en 2016 au Colorado (États-Unis) et est un fournisseur et fabricant spécialisé dans les domaines suivants tantale et les alliages de tantale. Forts d'une grande expertise en matière d'approvisionnement et d'exportation, nous proposons des prix compétitifs et des solutions personnalisées adaptées à des besoins spécifiques, garantissant une qualité exceptionnelle et la satisfaction de nos clients. En tant que fournisseur professionnel de métaux réfractaires, d'alliages spéciaux, de poudres sphériques et de divers matériaux avancés, nous répondons aux besoins de recherche, de développement et de production industrielle à grande échelle des secteurs scientifique et industriel.

Formulaire de demande de renseignements

Cibles de pulvérisation cathodique Produits

Heeger Metal propose une large sélection de cibles de pulvérisation haute performance fabriquées à partir de matériaux tels que le titane, le cuivre, l'aluminium et les métaux des terres rares. Nos cibles de pulvérisation personnalisées sont conçues avec précision pour répondre aux exigences d'industries telles que la fabrication de semi-conducteurs, la photovoltaïque et l'électronique. D'une pureté et d'une consistance supérieures, nos cibles de pulvérisation offrent des performances exceptionnelles en matière de dépôt de film, ce qui les rend idéales pour les applications de revêtement de couches minces, de pulvérisation et de dépôt physique en phase vapeur (PVD).

Autres produits en zirconium/hafnium

Heeger Metal propose une large sélection de produits en zirconium et en hafnium, réputés pour leur excellente résistance à la corrosion, leur stabilité à haute température et leur remarquable solidité dans les environnements extrêmes. Ces qualités les rendent idéaux pour des applications critiques dans des industries telles que l'aérospatiale, l'énergie nucléaire et le traitement chimique. Nos matériaux en zirconium et en hafnium de haute pureté garantissent des performances et une durabilité supérieures, même dans les conditions les plus exigeantes.

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