Cátodos para sputtering de circonio

Cátodos para sputtering de circonio

Cátodos para sputtering de circonio

Material: Zr702, Zr704, Zr705

Pureza: 99.95%-99.99%

  • Tamaños personalizados y estándar en stock
  • Plazo de entrega rápido
  • Precio competitivo
Clasificación por estrellas 5
Clasificación por estrellas 5
Clasificación por estrellas 5
Clasificación por estrellas 5
Clasificación por estrellas 5

Los cátodos para sputtering de circonio están fabricados con metal o aleaciones de circonio de alto rendimiento en una amplia gama de especificaciones, ampliamente utilizadas en semiconductores, deposición química en fase vapor (CVD), deposición física en fase vapor (PVD) y aplicaciones ópticas. Como proveedor y fabricante líder de productos de circonio de primera calidad, Heeger Materials aprovecha la tecnología avanzada para suministrar cátodos para sputtering de circonio de alta precisión para una amplia gama de aplicaciones.

O envíenos un correo electrónico a max@heegermaterials.com.

Ficha técnica del cátodo para sputtering de circonio

Referencia:HMST28
Material:Zr702, Zr704, Zr705
Pureza:99.5%-99.99%
Forma:Plano, giratorio o personalizado
Vinculación:Desvinculación o vinculación

Cátodos para sputtering de circonio

Cátodos para sputtering de circonio (Zr) se utiliza ampliamente en la deposición de películas finas debido a su alto punto de fusión, su excelente estabilidad química y su extraordinaria resistencia a la corrosión. HM puede suministrar cátodos para sputtering de circonio de alta calidad en varias especificaciones con diferente pureza, tamaño y densidad.

Composición del material del cátodo para sputtering de circonio

MaterialComposición química
Zr+HfSnFeCrNiHfNb
Zr 702~99.5%/<0,05%<0,05%/1~2.5%/
Zr 704~97.5%1~2%0.1~0.2%0.1~0.2%/<4.5%/
Zr 705~95.5%1~2%<0,05%<0,01%/<4.5%2~3%
Zircaloy-2~98%1.2~1.7%0.07~0.2%0.05~0.15%0.03~0.08%<200ppm
(para la industria nuclear)
/
Zircaloy-4~98%1.2~1.7%0.07~0.2%0.05~0.15%<0,007%<200ppm
(para la industria nuclear)
/

Especificaciones del cátodo para sputtering de circonio

Tipo de materialZirconioDensidad teórica (g/cc)6.49
SímboloZrRatio Z0.6
Peso atómico91.224Pulverización catódicaDC
Número atómico40Densidad de potencia máxima
(vatios/pulgada cuadrada)
50*
Color/AparienciaBlanco plateado, metalizado
Conductividad térmica22,7 W/m.KTipo de bonoIndio, elastómero
Punto de fusión (°C)1,852ComentariosLas aleaciones con películas de W. se oxidan fácilmente.
Coeficiente de dilatación térmica5,7 x 10-6/K 

Dimensiones de los cátodos para sputtering de circonio

Cátodos para sputtering circularDiámetro1.0"
2.0"
3.0"
4.0"
5.0"
6.0"
hasta 21
Cátodos rectangulares para sputteringAnchura x Longitud5" x 12"
5" x 15"
5" x 20"
5" x 22"
6" x 20"
Espesor0.125", 0.25"

Ventajas de los cátodos para sputtering de circonio

  • Alto punto de fusión: Con un punto de fusión de 1852°C, el circonio tiene una excelente estabilidad térmica. En entornos de alta temperatura, los cátodos de circonio para sputtering son resistentes a la fusión o la deformación, lo que garantiza una deposición sin problemas de películas finas y otros procesos, lo que mejora la calidad del producto y la estabilidad del proceso.
  • Estabilidad química: Los cátodos de circonio para sputtering son altamente resistentes a la erosión de diversos productos químicos, ofreciendo una estabilidad excepcional en entornos exigentes.
  • Resistencia a la corrosión: El circonio presenta una extraordinaria resistencia a la corrosión en condiciones ácidas y de niebla salina, lo que prolonga considerablemente la vida útil del material.
  • Densidad y dureza: Con una densidad aproximada de 6,51 g/cm³, el circonio proporciona una excelente estabilidad mecánica. También posee una buena dureza, lo que le permite soportar la abrasión y los choques mecánicos.
  • Conductividad térmica: El circonio tiene una elevada conductividad térmica, de unos 22 W/m-K, que disipa eficazmente el calor durante el uso, lo que contribuye a mejorar el rendimiento y la longevidad.

Proceso de producción de cátodos para sputtering de circonio

El proceso de producción de cátodos de circonio para sputtering es un proceso complejo que exige un control estricto de los parámetros y la calidad en cada etapa para garantizar un rendimiento óptimo. Incluye principalmente los siguientes pasos:

  • Preparación de la materia prima: La selección de materiales de circonio de alta pureza es el primer paso en la preparación de cátodos de circonio de alta calidad para sputtering.
  • Fundición: Un horno de arco eléctrico o de inducción funde las materias primas a altas temperaturas para producir circonio metálico. El control estricto de la temperatura del horno, la atmósfera y el flujo de gas protector es esencial para evitar la oxidación y las impurezas, garantizando la pureza y uniformidad de la masa fundida.
  • Fundición: Tras la fusión, el metal de circonio se funde en lingotes mediante moldes. El proceso de fundición debe realizarse en un entorno de gas inerte de gran pureza para evitar la oxidación y la contaminación por impurezas.
  • Rodando: El reparto lingote de circonio se somete a laminación para conseguir el grosor y la forma requeridos. El calentamiento y enfriamiento repetidos mejoran la densidad y uniformidad del material, mientras que el control preciso de la temperatura y la fuerza de laminado evita defectos como grietas y deformaciones.
  • Tratamiento de superficies: Los cátodos para sputtering de circonio se someten a un tratamiento de superficie para eliminar las capas de óxido y las impurezas, utilizando métodos como el pulido químico, que elimina los contaminantes mediante reacciones químicas, y el pulido mecánico, que mejora el acabado y la planitud de la superficie utilizando abrasivos.
  • Control de calidad: Los avanzados equipos y técnicas de ensayo evalúan la pureza, composición, densidad, uniformidad, aspecto y precisión dimensional del material objetivo para garantizar que cumple las normas de producción y los requisitos del cliente.

Aplicaciones de cátodos de circonio para sputtering

  • Microelectrónica y fabricación de semiconductores: Las películas de circonio, depositadas mediante pulverización catódica por magnetrón, se utilizan en dispositivos semiconductores para mejorar el rendimiento y la estabilidad, como la reducción de la corriente de fuga en dispositivos de alta frecuencia y alta potencia.
  • Óptica y campo fotovoltaico: Las películas de circonio, depositadas mediante pulverización catódica por magnetrón, mejoran las propiedades antirreflectantes y la transmisión de la luz en dispositivos ópticos, mejorando la calidad de las imágenes. Los dispositivos fotovoltaicos, como las células solares, aumentan la eficiencia de conversión y garantizan una detección precisa de la luz en condiciones variables.
  • Recubrimientos duros: Las películas finas de circonio sobre herramientas y piezas mecánicas mejoran la resistencia al desgaste y la corrosión, aumentando el rendimiento y prolongando la vida útil en entornos de gran desgaste como herramientas de corte, taladros y bombas. Esto reduce el mantenimiento, disminuye los costes y aumenta la durabilidad y la fiabilidad.
  • Revestimientos decorativos: Las láminas finas de circonio, disponibles en varios colores y brillos, se utilizan para la decoración de superficies en arquitectura, mobiliario y electrónica. Mejoran la estética a la vez que proporcionan una protección añadida contra el desgaste y la corrosión en superficies como vidrio, paneles y componentes electrónicos.

Embalaje de cátodos para sputtering de circonio

El cátodo para sputtering de circonio se coloca cuidadosamente en cajas de madera o cartón con soporte adicional de materiales blandos para evitar cualquier desplazamiento durante el transporte. Este método de embalaje garantiza la integridad de los productos durante todo el proceso de entrega.

Embalaje metálico

Propiedades del circonio

ArtículoValor
Número atómico40
Estructura cristalinaHexagonal compacto
Estructura electrónicaKr 4d² 5s²
Valencias indicadas2,3,4
Peso atómico( amu )91.22
Sección transversal de absorción de neutrones térmicos( Barns )0.182
Función de trabajo fotoeléctrico( eV )3.8
Distribución de isótopos naturales( Nº de masa /% )96/ 2.8
Distribución de isótopos naturales( Nº de masa /% )92/ 17.1
Distribución de isótopos naturales( Nº de masa /% )91/ 11.2
Distribución de isótopos naturales( Nº de masa /% )94/ 17.5
Distribución de isótopos naturales( Nº de masa /% )90/ 51.4
Radio atómico - Goldschmidt( nm )0.16
Potencial de ionización( No./eV )4/ 34.34
Potencial de ionización( No./eV )Jun-99
Potencial de ionización( No./eV )2/ 13.13
Potencial de ionización( No./eV )1/ 6.84
Potencial de ionización( No./eV )5/ 81.5
Potencial de ionización( No./eV )3/ 22.99
ArtículoValor
Estado del materialPolicristalino
Estado del materialSuave
Relación de Poisson0.38
Relación de Poisson0.38
Módulo de masa ( GPa )89.8
Módulo de masa ( GPa )89.8
Módulo de tracción( GPa )98
Módulo de tracción( GPa )98
Dureza - Vickers( kgf mm-² )85-100
Resistencia a la tracción( MPa )350-390
Límite elástico( MPa )250-310
ArtículoValor
Resistividad eléctrica( µOhmcm )44@20@20°C
Temperatura crítica de superconductividad( K )0.61
Coeficiente de temperatura( K-¹ )0.0044@0-100°C
Emf térmica contra Pt (frío 0C - caliente 100C)( mV )1.17
ArtículoValor
Punto de ebullición( °C )4377
Densidad( gcm-³ )6.49@20°C
ElementoValor
Punto de fusión( °C )1852
Calor latente de evaporación( J g-¹ )6360
Calor latente de fusión( J g-¹ )211
Calor específico( J K-¹ kg-¹ )281@25°C
Conductividad térmica( W m-¹ K-¹ )22.7@0-100°C
Coeficiente de dilatación térmica( x10-⁶ K-¹ )5.9@0-100°C

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Lo comprobaremos y le responderemos en 24 horas.

Para personalizar su cátodo para sputtering de circonio, facilítenos los siguientes datos:

  1. Diámetro (para los cátodos para sputtering circulares)
  2. Anchura × Longitud (para los cátodos rectangulares para sputtering)
  3. Thcikness (para los cátodos para sputtering)
  4. Pureza del material
  5. Placa de apoyo (Si se requiere servicio de pegado, especifique el material y las dimensiones de la placa de respaldo.)
  6. Cantidad de los productos que necesita
  7. Alternativamente, puede proporcionar un dibujo con sus especificaciones.

Una vez que tengamos estos datos, podremos facilitarle un presupuesto en 24 horas.

Disponemos de una amplia variedad de productos de circonio y aleaciones de circonio en stock, para los que no suele ser necesario un pedido mínimo. Sin embargo, para los pedidos personalizados, solemos fijar un valor mínimo de pedido de $200. El plazo de entrega de los artículos en stock suele ser de 1-2 semanas, mientras que el de los pedidos personalizados suele ser de 3-4 semanas, en función de las características específicas del pedido.

El cumplimiento del DFARS (Defense Federal Acquisition Regulation Supplement) se refiere principalmente al aprovisionamiento de materiales para aplicaciones relacionadas con la defensa en Estados Unidos. Según el DFARS, determinados materiales utilizados en defensa deben proceder de Estados Unidos o de países que cumplan los requisitos.

Si tiene materiales de molibdeno específicos que estén sujetos al DFARS, háganoslo saber con antelación y se lo confirmaremos.

En Heeger Materials Inc. nos tomamos muy en serio esta responsabilidad. Nos adherimos a todas las leyes y reglamentos aplicables, incluida la Sección 1502 de la Ley Dodd-Frank. Nuestra empresa opera con un estricto código ético y se compromete a asociarse únicamente con proveedores que compartan nuestra dedicación al abastecimiento responsable. Apoyamos las iniciativas y programas destinados a promover cadenas de suministro "libres de conflictos" y trabajamos con diligencia para garantizar que nuestros productos cumplen estas normas.

Heeger Materials Inc, establecida en 2016 en Colorado, EE. UU., es un proveedor y fabricante especializado de tantalio y aleaciones de tántalo. Con una amplia experiencia en suministro y exportación, ofrecemos precios competitivos y soluciones personalizadas adaptadas a requisitos específicos, garantizando una calidad sobresaliente y la satisfacción del cliente. Como proveedor profesional de metales refractarios, aleaciones especiales, polvos esféricos y diversos materiales avanzados, atendemos las necesidades de investigación, desarrollo y producción industrial a gran escala de los sectores científico e industrial.

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Cátodos para sputtering Productos

Heeger Metal ofrece una amplia selección de cátodos para sputtering de alto rendimiento fabricados con materiales como titanio, cobre, aluminio y metales de tierras raras. Nuestros cátodos para sputtering personalizados están diseñados con precisión para satisfacer las demandas de industrias como la fabricación de semiconductores, la fotovoltaica y la electrónica. Con una pureza y consistencia superiores, nuestros cátodos para sputtering ofrecen un rendimiento excepcional en la deposición de películas, lo que los hace ideales para aplicaciones de recubrimiento de películas finas, sputtering y PVD (deposición física de vapor).

Otros productos de circonio/hafnio

Heeger Metal ofrece una amplia selección de productos de circonio y hafnio, célebres por su excelente resistencia a la corrosión, su estabilidad a altas temperaturas y su notable resistencia en entornos extremos. Estas cualidades los hacen ideales para aplicaciones críticas en industrias como la aeroespacial, la energía nuclear y el procesamiento químico. Nuestros materiales de circonio y hafnio de gran pureza garantizan un rendimiento y una durabilidad superiores, incluso en las condiciones más exigentes.

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