Cible de pulvérisation de tantale

Tantalum Sputtering Target 2

Cible de pulvérisation de tantale

Purity: 99.9%, 99.95%, 99.99%, 99.999%

Matériau : R05200, R05400

  • Dimensions sur mesure et dimensions standard en stock
  • Délai d'exécution rapide
  • Prix compétitif
5 cote d'étoiles
5 cote d'étoiles
5 cote d'étoiles
5 cote d'étoiles
5 cote d'étoiles

Tantale Sputtering Target is made from high-purity tantalum material through pressure processing, offering high chemical purity, fine grain size, good recrystallized structure, and excellent consistency along all three axes. As a leading supplier and manufacturer of premium tantalum products, Heeger Materials leverages advanced machining centers to deliver high-precision tantalum sputtering target for a wide range of applications.

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Tantalum Sputtering Target Data Sheet

Référence :HMST22
Dimensions :Épaisseur: 0.125″-0.25″
Circular Sputtering Targets: 1.0″-21″ (diameter), or customized
Rectangular Sputtering Targets: 5″×12″, 5″×15″, 5″×20″, 5″×22″, 6″×20″, or customized
Matériau :R05200, R05400
La pureté :99.9%, 99.95%, 99.99%, 99.999%
Forms:Flat Target, Rotary Target, or Custom Shapes
Bonding:Bonding or Unbonding
  • Tantalum Sputtering Target 7
  • Tantalum Sputtering Target 5
  • Tantalum Sputtering Target 6

Tantalum (Ta) Specifications

Tantalum is classified as a transition metal on the Periodic Table and is considered one of the refractory metals highly resistant to corrosion. Due to its excellent corrosion resistance and thermal stability, tantalum is widely used in electronics, aerospace, and chemical engineering, particularly in manufacturing electronic components, chemical reactors, and semiconductors.

Material TypeTantaleCoefficient of Thermal Expansion6.3 x 10-6/K
SymbolTaTheoretical Density (g/cc)16.6
Atomic Weight180.94788Z Ratio0.262
Atomic Number73SputterDC
Color/AppearanceGray Blue, MetallicMax Power Density (Watts/Square Inch)50*
Thermal Conductivity57 W/m.KType of BondIndium, Elastomer
Point de fusion (°C)3,017CommentsForms good films.

Tantalum Sputtering Target Stock Dimensions

Tantalum sputtering targets are manufactured to precise tolerances to meet specific application requirements. HM also offers bonding services, with the ability to customize dimensions and shapes based on customer specifications. The regular dimensions are as follows:

Circular Sputtering TargetsDiamètre1.0”
2.0”
3.0”
4.0”
5.0”
6.0”
up to 21”
Rectangular Sputtering TargetsWidth x Length5” x 12”
5” x 15”
5” x 20”
5” x 22”
6” x 20”
Épaisseur0.125”, 0.25”

Tantalum Sputtering Target Material Chemical Composition

ÉlémentR05200 (%,Max)R05400 (%,Max)
C0.010.01
O0.0150.03
N0.010.01
H0.00150.0015
Fe0.010.01
Mo0.020.02
Nb0.10.1
Ni0.010.01
Si0.0050.005
Ti0.010.01
W0.050.05

Tantalum Sputtering Target Manufacturing Process

The manufacturing process involves sintering high-purity tantalum powder into blocks and melting them into ingots via a high-vacuum electron beam. These ingots undergo repeated plastic deformation and annealing to produce target blanks with uniform grain structure, which are then welded to backplates and machined into the final product for semiconductor sputtering. Here is the typical production process:

  • Frittage
  • Vacuum Electron Beam Melting
  • Plastic Deformation
  • Recuit
  • Metallographic Inspection
  • Machining
  • Dimensional Inspection
  • Cleaning
  • Final Inspection

Tantalum  Sputtering Target Applications

The tantalum sputtering target, often called a bare target, is first soldered to a copper backing plate. It is then used in semiconductor or optical sputtering processes, where tantalum atoms are deposited as oxides onto a substrate to form a sputter coating. The main applications include:

  • Electronics and Semiconductors: Tantalum targets are widely used as barrier layers in integrated circuit (IC) manufacturing, particularly in copper interconnect technology. Tantalum’s high melting point and low resistance make it an ideal choice for these applications.

  • Anti-Corrosion Coatings: Due to its exceptional corrosion resistance, tantalum is frequently used to coat chemical equipment and metal surfaces exposed to harsh environments, helping to extend the service life of these materials.

  • Thin Films for Optics and Photonics: Tantalum targets are employed to create thin films with specific optical properties for use in various optical devices, displays, and sensors.

  • Medical Devices: With its excellent biocompatibility, tantalum is used to coat medical implants such as bone plates and joint prostheses, reducing the risk of rejection by the body.

Tantalum and Tantalum Alloy

  • R05200, unalloyed tantalum, electron-beam furnace vacuum-arc melt, or both
  • R05400, unalloyed tantalum, powder-metallurgy consolidation.
  • R05255, tantalum alloy, 90 % tantalum, 10 % tungsten, electron-beam furnace of vacuum-arc melt, or both.
  • R05252, tantalum alloy, 97.5 % tantalum, 2.5 % tungsten, electron-beam furnace or vacuum-arc melt, or both.
  • R05240, tantalum alloy, 60 % tantalum, 40 % niobium, electron-beam furnace or vacuum-arc melt.

Tantalum Sputtering Target Packaging

The Tantalum Sputtering Target is carefully placed in wooden cases or cartons, with additional support from soft materials, to prevent shifting during transportation. This packaging method guarantees the integrity of the products throughout the delivery process.

Emballage métallique

Propriétés du tantale

ObjetValeur
Numéro atomique73
Structure cristallineCubique centrée sur le corps
Structure électroniqueXe 4f¹⁴ 5d³ 6s²
Valences présentées2,3,4,5
Poids atomique( amu )180.9479
Section efficace d'absorption des neutrons thermiques( Barns )22
Travail photo-électrique( eV )4.1
Distribution des isotopes naturels( No. de masse /% )180/ 0.012
Distribution des isotopes naturels( No. de masse /% )181/ 99.988
Rayon atomique - Goldschmidt( nm )0.147
Potentiel d'ionisation( No./eV )1/ 7.88
Potentiel d'ionisation( No./eV )2/ 16.2
ObjetValeur
État des matériauxNon recuit (dur)
État des matériauxRecuit (doux)
Rapport de Poisson0.342
Rapport de Poisson0.342
Module volumique( GPa )196.3
Module volumique( GPa )196.3
Module de traction( GPa )185.7
Module de traction( GPa )185.7
Dureté - Vickers( kgf mm-² )200
Dureté - Vickers( kgf mm-² )90
Résistance à la traction( MPa )760
Résistance à la traction( MPa )172-207
Limite d'élasticité( MPa )705
Limite d'élasticité( MPa )310-380
ObjetValeur
Résistivité électrique( µOhmcm )13.5@20@20°C
Température critique de supraconductivité( K )4.47
Coefficient de température( K-¹ )0.0035@0-100°C
Emf thermique contre Pt (froid 0C - chaud 100C)( mV )0.33
ObjetValeur
Point d'ébullition( °C )5425
Densité( gcm-³ )16.6@20°C
ÉlémentValeur
Point de fusion( °C )2996
Chaleur latente d'évaporation( J g-¹ )4165
Chaleur latente de fusion( J g-¹ )174
Chaleur spécifique( J K-¹ kg-¹ )140@25°C
Conductivité thermique( W m-¹ K-¹ )57.5@0-100
Coefficient de dilatation thermique( x10-⁶ K-¹ )6.5@0-100°C

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Nous vérifierons et vous contacterons dans les 24 heures.

To customize your tantalum sputtering target, please provide the following details:

  1. Diamètre (for the circular sputtering targets)
  2. Width × Length (for the rectangular sputtering targets)
  3. Thcikness (for the sputtering targets)
  4. La pureté de la matière
  5. Backing Plate (If bonding service is required, please specify the material and dimensions of the backing plate.）
  6. Quantité des produits dont vous avez besoin
  7. Vous pouvez également fournir un dessin avec vos spécifications.

Une fois que nous aurons reçu ces informations, nous pourrons vous fournir un devis dans les 24 heures.

Nous avons en stock une grande variété de produits à base de tantale et d'alliages de tantale, et pour ceux-ci, il n'y a généralement pas de minimum de commande. Toutefois, pour les commandes personnalisées, nous fixons généralement une valeur minimale de $200. Le délai de livraison pour les articles en stock est généralement de 1 à 2 semaines, tandis que les commandes personnalisées prennent généralement 3 à 4 semaines, en fonction des spécificités de la commande.

La conformité au DFARS (Defense Federal Acquisition Regulation Supplement) concerne principalement l'approvisionnement en matériaux pour des applications liées à la défense aux États-Unis. Selon le DFARS, certains matériaux utilisés pour la défense doivent provenir des États-Unis ou de pays qualifiés.

Si vous avez des matériaux en tantale spécifiques qui sont soumis au DFARS, veuillez nous en informer à l'avance et nous vous confirmerons.

Chez Heeger Materials Inc. nous prenons cette responsabilité au sérieux. Nous respectons toutes les lois et réglementations applicables, y compris la section 1502 de la loi Dodd-Frank. Notre entreprise applique un code d'éthique strict et s'engage à ne s'associer qu'avec des fournisseurs qui partagent notre engagement en faveur d'un approvisionnement responsable. Nous soutenons les initiatives et les programmes visant à promouvoir des chaînes d'approvisionnement "sans conflit" et travaillons avec diligence pour nous assurer que nos produits répondent à ces normes.

Heeger Materials Inc, établi en 2016 dans le Colorado, aux États-Unis, est un fournisseur et fabricant spécialisé de tantale et d'alliages de tantale. Avec une vaste expertise dans l'approvisionnement et l'exportation, nous offrons des prix compétitifs et des solutions personnalisées adaptées à des exigences spécifiques, garantissant une qualité exceptionnelle et la satisfaction du client. En tant que fournisseur professionnel de métaux réfractaires, d'alliages spéciaux, de poudres sphériques et de divers matériaux avancés, nous répondons aux besoins de recherche, de développement et de production industrielle à grande échelle des secteurs scientifique et industriel.

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Autres produits en tantale

Heeger Metal propose une gamme complète de produits à base de tantale et d'alliages de tantaleLes métaux précieux sont réputés pour leur résistance exceptionnelle à la corrosion, leur point de fusion élevé et leur stabilité dans les environnements difficiles. Ces caractéristiques les rendent idéales pour les applications exigeantes dans les secteurs de l'aérospatiale, de l'électronique et du traitement chimique. Nos produits matériaux en tantale de haute pureté offrent des performances et une fiabilité exceptionnelles dans des conditions difficiles.

Sputtering Targets Products

Heeger Metal offers a wide selection of high-performance sputtering targets made from materials like titanium, copper, aluminum, and rare earth metals. Our custom sputtering targets are precision-engineered to meet the demands of industries such as semiconductor manufacturing, photovoltaics, and electronics. With superior purity and consistency, our sputtering targets deliver exceptional film deposition performance, making them ideal for thin-film coating, sputtering, and PVD (Physical Vapor Deposition) applications.

Disc Products

Heeger Metal offers a wide range of metal and alloy disc products. Our precision-engineered discs are ideal for applications in aerospace, electronics, and industrial sectors, providing excellent strength, durability, and thermal conductivity. Whether you need custom metal discs or standard metal alloy discs, our products ensure high performance and exceptional quality.

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