Cátodos para sputtering de molibdeno

Cátodos para sputtering de molibdeno

Cátodos para sputtering de molibdeno

Pureza: 99,95%-99,99%

Material: Mo puro361MoTZM (Mo364), Mo-Lanthanoxid (ML)

  • Tamaños personalizados y estándar en stock
  • Plazo de entrega rápido
  • Precio competitivo
Clasificación por estrellas 5
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Clasificación por estrellas 5
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El cátodo de molibdeno para sputtering es un material de deposición de película fina, hecho de molibdeno de alta pureza o aleación de molibdeno. Presenta una alta pureza y densidad, ampliamente utilizado en semiconductores, deposición química de vapor (CVD), deposición física de vapor (PVD), y áreas ópticas. Como proveedor y fabricante líder de productos de molibdeno de primera calidad, Heeger Materials aprovecha los centros de mecanizado avanzados para suministrar cátodos para sputtering de molibdeno y aleaciones de molibdeno de alta precisión para una amplia gama de aplicaciones.

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Ficha técnica del cátodo de molibdeno para sputtering

Referencia:HMST15
Material:Mo puro361MoTZM (Mo364), Mo-Lanthanoxid (ML)
Pureza:99.95%-99.99%
Densidad:10,22 g/cm3
Forma:Plano, giratorio o personalizado
Vinculación:Desvinculación o vinculación

Cátodos para sputtering de molibdeno

Molibdeno es un metal gris plateado con un punto de fusión de 2623 ℃ y una densidad de 10,2 g/cm3. Es uno de los metales comerciales con menor coeficiente de dilatación térmica. Cátodos de molibdeno para sputtering están fabricados con molibdeno o aleaciones de molibdeno de gran pureza, conservando las propiedades de los materiales de partida. HM puede suministrar cátodos para sputtering de molibdeno de alta calidad con tecnología avanzada, garantizando una alta pureza, alta densidad y un tamaño medio de grano pequeño.

  • Cátodos circulares de molibdeno para sputtering
    Cátodos circulares de molibdeno para sputtering
  • Blanco rotatorio para sputtering de molibdeno
    Blanco rotatorio para sputtering de molibdeno
  • Cátodos para sputtering de molibdeno a medida
    Cátodos para sputtering de molibdeno a medida

Composición química del material para sputtering de molibdeno

Material MoImpurezas, (≤%）
AlCaFeMgNiSiCNOLa2O3
Mo1Bal.0.0020.0020.0100.0020.0050.010.010.0030.008–
Mo2Bal.0.0050.0040.0150.0050.0050.010.020.0030.020–
MoLaBal.0.0020.0020.0150.0050.0050.010.020.005–0.1~1.8
Nota: El contenido de O de la aleación MoLa puede probarse según los requisitos del cliente.

Especificaciones de los cátodos para sputtering de molibdeno

Tipo de materialMolibdenoCoeficiente de dilatación térmica4,8 x 10-6/K
SímboloMoDensidad teórica (g/cc)10.2
Peso atómico95.96Ratio Z0.257
Número atómico42Pulverización catódicaDC
Color/AparienciaGris, metalizadoDensidad de potencia máxima (vatios/pulgada cuadrada)150*
Conductividad térmica139 W/m.KTipo de bonoIndio, elastómero
Punto de fusión (°C)2,617ComentariosPelículas suaves, duras.

Dimensiones de los cátodos para sputtering de molibdeno

Cátodos para sputtering circularDiámetro1.0″
2.0″
3.0″
4.0″
5.0″
6.0″
hasta 21″.
Cátodos rectangulares para sputteringAnchura x Longitud5″ x 12″
5""x 15″
5″ x 20″
5″ x 22″
6″ x 20″
Espesor0.125″, 0.25″

Proceso de producción de cátodos para sputtering de molibdeno

Generalmente se prepara mediante el método pulvimetalúrgico, la pureza del polvo de molibdeno debe ser superior a 99,95%. El proceso específico es el siguiente:

  • Ponga el molibdeno en polvo en el horno de tratamiento térmico al vacío para la pregasificación, a continuación introducir hidrógeno y continuar calentando para la desgasificación.
  • El polvo de molibdeno desgasificado se sinteriza una vez mediante prensado en caliente al vacío.
  • El producto sinterizado primario pasa por una prensa isostática caliente para completar la sinterización secundaria.
  • Tras la sinterización secundaria, toda la superficie del producto se rectifica mediante mecanizado para obtener el producto final.

Características de los cátodos para sputtering de molibdeno

  • Alta pureza: Pureza de hasta 99,99%
  • Alta densidad: Densidad próxima a la densidad teórica de 10,22 g/cm3
  • Microestructura uniforme: Garantizar una erosión uniforme durante el proceso de sputtering
  • Granulometría media pequeña: Garantizar la uniformidad del objetivo

Aplicaciones de cátodos para sputtering de molibdeno

  • Fabricación de semiconductores: Los cátodos de molibdeno para sputtering se utilizan para depositar capas conductoras y de apantallamiento, especialmente en la producción de circuitos integrados y dispositivos microelectrónicos.
  • Pantallas planas: Los cátodos de molibdeno para sputtering se utilizan para formar electrodos y materiales de cableado en pantallas como las TFT-LCD (pantallas de cristal líquido con transistor de película fina) y los OLED (diodos orgánicos emisores de luz).
  • Células solares de capa fina: Los cátodos de molibdeno para sputtering se utilizan en la capa de electrodo posterior de las células solares de capa fina de CIGS (seleniuro de cobre, indio y galio) para mejorar la eficiencia y la estabilidad de las células.
  • Equipos médicos de diagnóstico por imagen: Los cátodos para sputtering de molibdeno se utilizan en tubos de rayos X para generar rayos X de alta calidad y garantizar la claridad y estabilidad de las imágenes.
  • Revestimiento de vidrio: Los cátodos de molibdeno para sputtering se utilizan para recubrir superficies de vidrio con el fin de mejorar la resistencia al desgaste y a la corrosión del vidrio.

Embalaje de cátodos para sputtering de molibdeno

El cátodo para sputtering de molibdeno se coloca cuidadosamente en cajas de madera o cartón con soporte adicional de materiales blandos para evitar cualquier desplazamiento durante el transporte. Este método de embalaje garantiza la integridad de los productos durante todo el proceso de entrega.

Embalaje metálico

Propiedades del molibdeno

ArtículoValor
Número atómico42
Estructura cristalinaCúbico centrado en el cuerpo
Estructura electrónicaKr 4d⁵ 5s¹
Valencias indicadas2, 3, 4, 5, 6
Peso atómico( amu )95.94
Sección transversal de absorción de neutrones térmicos( Barns )2.65
Función de trabajo fotoeléctrico( eV )4.2
Distribución de isótopos naturales( Nº de masa /% )95/ 15.9
Distribución de isótopos naturales( Nº de masa /% )96/ 16.7
Distribución de isótopos naturales( Nº de masa /% )98/ 24.1
Distribución de isótopos naturales( Nº de masa /% )97/ 9.6
Distribución de isótopos naturales( Nº de masa /% )92/ 14.8
Distribución de isótopos naturales( Nº de masa /% )94/ 9.3
Distribución de isótopos naturales( Nº de masa /% )100/ 9.6
Radio atómico - Goldschmidt( nm )0.14
Potencial de ionización( No./eV )2/ 16.15
Potencial de ionización( No./eV )5/ 61.2
Potencial de ionización( No./eV )Jun-68
Potencial de ionización( No./eV )1/ 7.10
Potencial de ionización( No./eV )3/ 27.2
Potencial de ionización( No./eV )4/ 46.4
ArtículoValor
Estado del material / TempleRecocido (blando)
Estado del material / TempleNo recocido (duro)
Relación de Poisson0.293
Relación de Poisson0.293
Módulo de masa ( GPa )261.2
Módulo de masa ( GPa )261.2
Módulo de tracción( GPa )324.8
Módulo de tracción( GPa )324.8
Dureza - Vickers( kgf mm-² )250
Dureza - Vickers( kgf mm-² )200
Resistencia a la tracción( MPa )485-550
Resistencia a la tracción( MPa )620-690
Límite elástico( MPa )550
Límite elástico( MPa )415-450
ArtículoValor
Resistividad eléctrica( µOhmcm )5.7@20@20°C
Temperatura crítica de superconductividad( K )0.915
Coeficiente de temperatura( K-¹ )0.00435@0-100°C
Emf térmica contra Pt (frío 0C - caliente 100C)( mV )1.45
ArtículoValor
Punto de ebullición( °C)4612
Densidad( gcm-³ )10.22@20°C
ArtículoValor
Punto de fusión( °C )2617
Calor latente de evaporación( J g-¹ )6153
Calor latente de fusión( J g-¹ )290
Calor específico( J K-¹ kg-¹ )251@25°C
Conductividad térmica( W m-¹ K-¹ )138@0-100°C
Coeficiente de dilatación térmica( x10-⁶ K-¹ )5.1@0-100°C

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Para personalizar su cátodo para sputtering de molibdeno, facilítenos los siguientes datos:

  1. Diámetro (para los cátodos para sputtering circulares)
  2. Anchura × Longitud (para los cátodos rectangulares para sputtering)
  3. Thcikness (para los cátodos para sputtering)
  4. Pureza del material
  5. Placa de apoyo (Si se requiere servicio de pegado, especifique el material y las dimensiones de la placa de respaldo.）
  6. Cantidad de los productos que necesita
  7. Alternativamente, puede proporcionar un dibujo con sus especificaciones.

Una vez que tengamos estos datos, podremos facilitarle un presupuesto en 24 horas.

Disponemos en stock de una amplia variedad de productos de molibdeno y aleaciones de molibdeno, para los que generalmente no se requiere un pedido mínimo. Sin embargo, para los pedidos personalizados, solemos fijar un valor mínimo de pedido de $200. El plazo de entrega de los artículos en stock suele ser de 1 a 2 semanas, mientras que el de los pedidos personalizados suele ser de 3 a 4 semanas, dependiendo de las características específicas del pedido.

El cumplimiento del DFARS (Defense Federal Acquisition Regulation Supplement) se refiere principalmente al aprovisionamiento de materiales para aplicaciones relacionadas con la defensa en Estados Unidos. Según el DFARS, determinados materiales utilizados en defensa deben proceder de Estados Unidos o de países que cumplan los requisitos.

Si tiene materiales de molibdeno específicos que estén sujetos al DFARS, háganoslo saber con antelación y se lo confirmaremos.

En Heeger Materials Inc. nos tomamos muy en serio esta responsabilidad. Nos adherimos a todas las leyes y reglamentos aplicables, incluida la Sección 1502 de la Ley Dodd-Frank. Nuestra empresa opera con un estricto código ético y se compromete a asociarse únicamente con proveedores que compartan nuestra dedicación al abastecimiento responsable. Apoyamos las iniciativas y programas destinados a promover cadenas de suministro "libres de conflictos" y trabajamos con diligencia para garantizar que nuestros productos cumplen estas normas.

Heeger Materials Inc, establecida en 2016 en Colorado, EE. UU., es un proveedor y fabricante especializado de tantalio y aleaciones de tántalo. Con una amplia experiencia en suministro y exportación, ofrecemos precios competitivos y soluciones personalizadas adaptadas a requisitos específicos, garantizando una calidad sobresaliente y la satisfacción del cliente. Como proveedor profesional de metales refractarios, aleaciones especiales, polvos esféricos y diversos materiales avanzados, atendemos las necesidades de investigación, desarrollo y producción industrial a gran escala de los sectores científico e industrial.

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Cátodos para sputtering Productos

Heeger Metal ofrece una amplia selección de cátodos para sputtering de alto rendimiento fabricados con materiales como titanio, cobre, aluminio y metales de tierras raras. Nuestros cátodos para sputtering personalizados están diseñados con precisión para satisfacer las demandas de industrias como la fabricación de semiconductores, la fotovoltaica y la electrónica. Con una pureza y consistencia superiores, nuestros cátodos para sputtering ofrecen un rendimiento excepcional en la deposición de películas, lo que los hace ideales para aplicaciones de recubrimiento de películas finas, sputtering y PVD (deposición física de vapor).

Otros productos de molibdeno

Ofrecemos una amplia gama de productos de molibdeno y aleaciones de molibdeno, desde polvos hasta piezas acabadas, con opciones de personalización disponibles. Consulte la lista de nuestros productos habituales.

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