Cible de pulvérisation de palladium

Pureté : ≥99.95%, ou personnalisée

Forme : Disque, rectangulaire, tube, ou personnalisée

Dimensions sur mesure et dimensions standard en stock
Délai d'exécution rapide
Prix compétitif

La cible de pulvérisation de palladium est fabriquée à partir de palladium de haute pureté, largement utilisé dans les technologies de dépôt de couches minces. En tant que fournisseur et fabricant de premier plan de produits en palladium de première qualité, Heeger Metal s'appuie sur une technologie avancée pour fournir des cibles de pulvérisation de palladium de haute qualité pour diverses applications.

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Fiche technique des cibles de pulvérisation de palladium

Code de référence :	HTST17
CAS :	7440-05-3
La pureté :	≥99.95%, ou sur mesure
Densité :	12,023 g/cm³
Point de fusion :	1554℃
Point d'ébullition :	2970℃
Forme :	Disque, Rectangulaire, Tube, ou personnalisé
Collage :	Liaison ou déconnexion

Description de la cible de pulvérisation du palladium

Le palladium (Pd) a la capacité unique d'absorber et de libérer de l'hydrogène, ce qui en fait un choix idéal pour les systèmes d'hydrogénation et de purification. La cible de pulvérisation au palladium est fabriquée à partir de palladium métallique de haute pureté. Elle est largement utilisée dans les technologies de dépôt de films, en particulier dans des domaines tels que les semi-conducteurs, les revêtements optiques, les écrans plats et les cellules solaires. Dans le processus de pulvérisation magnétron, la cible de pulvérisation de palladium est utilisée pour déposer un film mince uniforme sur le substrat. Heeger Metal peut fournir des cibles de pulvérisation de palladium de haute précision dans diverses spécifications pour répondre aux applications industrielles et de recherche, garantissant ainsi des performances optimales et une bonne rentabilité.

Spécifications des cibles de pulvérisation de palladium

Type de matériau	Palladium
Symbole	Pd
Poids atomique	106.42
Numéro atomique	46
Couleur/apparence	Blanc argenté métallisé
Conductivité thermique	72 W/m.K
Point de fusion (°C)	1,554
Coefficient de dilatation thermique	11,8 x 10-6/K
Densité théorique (g/cc)	12.02
Rapport Z	0.357
Pulvérisation	DC
Densité de puissance maximale (Watts/pouce carré)	100*
Type d'obligation	Indium, Elastomère
Commentaires	Alliages avec des métaux réfractaires.

Dimensions du stock de cibles de pulvérisation de palladium

Cibles de pulvérisation circulaire	Diamètre	1.0″ 2.0″ 3.0″ 4.0″ 5.0″ 6.0″ jusqu'à 21″.
Cibles de pulvérisation rectangulaires	Largeur x Longueur	5″ x 12″ 5""x 15″ 5″ x 20″ 5″ x 22″ 6″ x 20″
Épaisseur		0.125″, 0.25″

Processus de fabrication des cibles de pulvérisation du palladium

Préparation du matériel: Sélectionner une matière première de palladium de haute pureté (généralement ≥99,95%).
Fusion par induction sous vide: Un processus de fusion de haute précision utilisant l'induction sous vide pour garantir une composition uniforme de l'alliage et éliminer les contaminants.
Recuit: Un processus de traitement thermique pour soulager les contraintes internes, améliorer les propriétés du matériau et atteindre la dureté et la ductilité souhaitées.
Roulant: Le matériau passe à travers des rouleaux pour en réduire l'épaisseur, en augmenter la longueur et en affiner la structure en vue d'un traitement ultérieur.
Estampillage: L'utilisation de presses mécaniques pour façonner ou découper le matériau dans des formes spécifiques, en garantissant des dimensions et une cohérence précises.
Essais métallographiques: Analyse détaillée de la microstructure du matériau afin de garantir la qualité et l'intégrité de l'alliage avant tout traitement ultérieur.
Usinage: Les processus d'usinage de précision (tels que le tournage, le fraisage ou la rectification) pour obtenir les formes et les tolérances souhaitées.
Contrôle dimensionnel: Mesurer et vérifier les dimensions du produit pour s'assurer qu'elles sont conformes aux spécifications requises.
Nettoyage: Nettoyage approfondi du matériau afin d'éliminer tout résidu, huile ou contaminant provenant des processus de fabrication.
Inspection finale: Un processus d'inspection complet pour s'assurer que le produit répond à toutes les normes de qualité et de fonctionnement.

Applications des cibles de pulvérisation de palladium

Industrie électronique: Les cibles de pulvérisation de palladium sont largement utilisées dans le dépôt de couches minces, en particulier dans la fabrication de semi-conducteurs, pour créer des couches d'électrodes dans les circuits intégrés, les condensateurs et les capteurs.
Revêtements optiques: Les cibles de pulvérisation de palladium sont utilisées pour produire des couches minces optiques à haute réflexion, qui sont couramment utilisées dans les systèmes laser, les lentilles optiques et les écrans.
Cellules solaires: Les cibles de pulvérisation de palladium sont utilisées comme matériaux d'électrode dans les cellules solaires, contribuant à améliorer leur efficacité.
Écrans plats: Les cibles de pulvérisation de palladium sont utilisées dans la production de couches minces conductrices dans les écrans plats, assurant la performance et la stabilité des écrans.
Matériaux magnétiques: Les cibles de pulvérisation au palladium sont utilisées dans le dépôt de films minces pour les matériaux magnétiques, qui sont utilisés dans les disques durs et les dispositifs d'enregistrement magnétique.
Industrie chimique: Les cibles de pulvérisation de palladium sont utilisées comme catalyseurs dans les réactions de synthèse organique, en particulier dans les processus d'hydrogénation et de déshydrogénation.

Emballage des cibles de pulvérisation de palladium

Les cibles de pulvérisation de palladium sont soigneusement placées dans des caisses en bois ou des cartons avec des matériaux souples supplémentaires pour les soutenir et éviter qu'elles ne se déplacent pendant le transport. Cette méthode d'emballage garantit l'intégrité des produits tout au long du processus de livraison.

Propriétés de Palladium

Élément	Valeur
Numéro atomique	46
Structure cristalline	Cubique centré sur le visage
Structure électronique	Kr 4d¹⁰
Valences présentées	2, 3, 4
Poids atomique( amu )	106.42
Section efficace d'absorption des neutrons thermiques( Barns )	6
Travail photo-électrique( eV )	5
Distribution des isotopes naturels( No. de masse /% )	108/ 26.7
Distribution des isotopes naturels( No. de masse /% )	110/ 11.8
Distribution des isotopes naturels( No. de masse /% )	104/ 11.0
Distribution des isotopes naturels( No. de masse /% )	102/ 1.0
Distribution des isotopes naturels( No. de masse /% )	105/ 22.2
Distribution des isotopes naturels( No. de masse /% )	106/ 27.3
Rayon atomique - Goldschmidt( nm )	0.137
Potentiel d'ionisation( No./eV )	1/ 8.3
Potentiel d'ionisation( No./eV )	2/ 19.4
Potentiel d'ionisation( No./eV )	3/ 32.9

Élément	Valeur
État des matériaux	Douceur
État des matériaux	Dur
Rapport de Poisson	0.39
Rapport de Poisson	0.39
Module volumique( GPa )	187
Module volumique( GPa )	187
Module de traction( GPa )	121
Module de traction( GPa )	121
Dureté - Vickers( kgf mm-² )	40
Dureté - Vickers( kgf mm-² )	100
Résistance à la traction( MPa )	140-195
Résistance à la traction( MPa )	325
Limite d'élasticité( MPa )	205
Limite d'élasticité( MPa )	34.5

Élément	Valeur
Résistivité électrique( µOhmcm )	10.8@20@20
Coefficient de température( K-¹ )	0.0042@0-100
Emf thermique contre Pt (froid 0C - chaud 100C)( mV )	-0.57

Élément	Valeur
Point d'ébullition( C )	3140
Densité( gcm-³ )	12@20°C

Élément	Valeur
Point de fusion( C )	1554
Chaleur latente d'évaporation( J g-¹ )	3398
Chaleur latente de fusion( J g-¹ )	157
Chaleur spécifique( J K-¹ kg-¹ )	244@25
Conductivité thermique( W m-¹ K-¹ )	71.8@0-100°C
Coefficient de dilatation thermique( x10-⁶ K-¹ )	11@0-100

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Pour personnaliser votre cible de pulvérisation de palladium, veuillez fournir les détails suivants :

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Épaisseur (pour les cibles de pulvérisation)
Plaque d'appui (Si un service de collage est requis, veuillez spécifier le matériau et les dimensions de la plaque de support.）
La pureté (Préciser la pureté du matériau.)
Quantité des produits dont vous avez besoin
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Nous avons en stock une grande variété de produits à base de palladium et pour ceux-ci, il n'y a généralement pas de minimum de commande. Toutefois, pour les commandes personnalisées, nous fixons généralement une valeur minimale de $200. Le délai de livraison des articles en stock est généralement de 1 à 2 semaines, tandis que celui des commandes personnalisées est de 3 à 4 semaines, en fonction des spécificités de la commande.

La conformité au DFARS (Defense Federal Acquisition Regulation Supplement) concerne principalement l'approvisionnement en matériaux pour des applications liées à la défense aux États-Unis. Selon le DFARS, certains matériaux utilisés pour la défense doivent provenir des États-Unis ou de pays qualifiés.

Si vous avez des matériaux en platine spécifiques qui sont soumis au DFARS, veuillez nous en informer à l'avance et nous vous confirmerons.

Chez Heeger Metal, nous prenons cette responsabilité au sérieux. Nous respectons toutes les lois et réglementations applicables, y compris la section 1502 de la loi Dodd-Frank. Notre entreprise applique un code d'éthique strict et s'engage à ne collaborer qu'avec des fournisseurs qui partagent notre engagement en faveur d'un approvisionnement responsable. Nous soutenons les initiatives et les programmes visant à promouvoir des chaînes d'approvisionnement "sans conflit" et travaillons avec diligence pour nous assurer que nos produits répondent à ces normes.

Pureté standard : 99,95% et 99,99%, avec 99,999% (5N) sur demande.

Circulaire (1-12″ de diamètre)
Rectangulaire (jusqu'à 300 mm de longueur)
Géométries personnalisées

≥99,95% densité théorique (12,02 g/cm³) via le traitement HIP.

Heeger Metal, établi en 2016 dans le Colorado, aux États-Unis, est un fournisseur spécialisé et un fabricant de produits à base de palladium. Avec une vaste expertise dans l'approvisionnement et l'exportation, nous offrons des prix compétitifs et des solutions personnalisées adaptées à des exigences spécifiques, garantissant une qualité exceptionnelle et la satisfaction du client. En tant que fournisseur professionnel de métaux réfractaires, d'alliages spéciaux, de poudres sphériques et de divers matériaux avancés, nous répondons aux besoins de recherche, de développement et de production industrielle à grande échelle des secteurs scientifique et industriel.

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Cibles de pulvérisation cathodique Produits

Heeger Metal propose une large sélection de cibles de pulvérisation haute performance fabriquées à partir de matériaux tels que le titane, le cuivre, l'aluminium et les métaux des terres rares. Nos cibles de pulvérisation personnalisées sont conçues avec précision pour répondre aux exigences d'industries telles que la fabrication de semi-conducteurs, la photovoltaïque et l'électronique. D'une pureté et d'une consistance supérieures, nos cibles de pulvérisation offrent des performances exceptionnelles en matière de dépôt de film, ce qui les rend idéales pour les applications de revêtement de couches minces, de pulvérisation et de dépôt physique en phase vapeur (PVD).

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