Niob-Sputtering-Target
Niob Sputterig Target
Reinheit: 99,5%-99,99%
Material: R04200, R04210
Das Niob-Sputter-Target besteht aus hochreinem Niob-Metall und besitzt eine geringe Korngröße. Diese Eigenschaften ermöglichen die Bildung von gleichmäßigen und dichten Schichten. Als führender Anbieter und Hersteller von hochwertigen Niobprodukten nutzt Heeger Materials fortschrittliche Bearbeitungszentren, um hochpräzise Niob-Sputtertargets für eine Vielzahl von Anwendungen zu liefern.
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Datenblatt Niob-Sputtering
| Referenz: | HMST16 |
|---|---|
| Material: | R04200, R04210 |
| Reinheit: | 99.5%-99.99% |
| Die Dichte: | 8,57 g/cm3 |
| Die Form: | Flach, rotierend oder kundenspezifisch |
| Bindung: | Entbinden oder Verbinden |
Niob-Sputtering-Target
Niobium ist ein seltenes, silbrig-graues Übergangsmetall mit ausgezeichneter Korrosionsbeständigkeit, elektrischer Leitfähigkeit und Hochtemperaturstabilität. Niob-Sputtering-Target kann in der Regel eine Reinheit von mehr als 99,95% erreichen und weist eine geringe Korngröße auf, was die Qualität der Beschichtung gewährleistet. Niob-Sputtering-Targets werden häufig in der Halbleiterherstellung, bei Dünnfilmbeschichtungen, elektronischen Bauteilen usw. eingesetzt. HM kann je nach den spezifischen Anforderungen Klebedienstleistungen anbieten.
Niob Sputtering Target_Runde Form Niobium Sputtering Target_Spezialform Niob-Zerstäubungstarget_Rotary Type
Niob Sputtering Target Material Chemische Zusammensetzung
| Material | Hauptelement (%) | Verunreinigungen (≤%) | ||||||||||||
|---|---|---|---|---|---|---|---|---|---|---|---|---|---|---|
| Nb | Fe | Si | Ni | W | Mo | Ti | Ta | Zr | Hf | O | C | H | N | |
| RO4200 | Bal. | 0.0040 | 0.0040 | 0.0020 | 0.0050 | 0.0050 | 0.0020 | 0.0700 | 0.0200 | 0.0200 | 0.0150 | 0.0040 | 0.0015 | 0.0030 |
| RO4210 | Bal. | 0.0100 | 0.0100 | 0.0050 | 0.0200 | 0.0100 | 0.0040 | 0.1000 | 0.0200 | 0.0200 | 0.0200 | 0.0100 | 0.0015 | 0.0100 |
Spezifikationen für Niob-Sputtering-Targets
| Material Typ | Niobium | Wärmeausdehnungskoeffizient | 7.3 x 10-6/K |
|---|---|---|---|
| Symbol | Nb | Theoretische Dichte (g/cc) | 8.57 |
| Atomares Gewicht | 92.90638 | Z-Verhältnis | 0.492 |
| Ordnungszahl | 41 | Sputter | DC |
| Farbe/Erscheinungsbild | Grau, Metallisch | Maximale Leistungsdichte (Watt/Quadratzoll) | 100* |
| Wärmeleitfähigkeit | 54 W/m.K | Art der Anleihe | Indium, Elastomer |
| Schmelzpunkt (°C) | 2,468 | Kommentare | Angriffe W Quelle. |
Niobium Sputtering Target Stock Abmessungen
| Zirkulare Sputtering-Targets | Durchmesser | 1.0″ 2.0″ 3.0″ 4.0″ 5.0″ 6.0″ bis zu 21″. |
|---|---|---|
| Rechteckige Sputtering-Targets | Breite x Länge | 5″ x 12″ 5””x 15″ 5″ x 20″ 5″ x 22″ 6″ x 20″ |
| Dicke | 0.125″, 0.25″ | |
Verfahren zur Herstellung von Niob-Sputter-Targets
In der Regel werden sie durch ein pulvermetallurgisches Verfahren hergestellt, wobei der Reinheitsgrad der Niobium-Pulver sollte über 99,95% liegen. Das spezifische Verfahren ist wie folgt:
- Das Niobpulver wird zur Vorbegasung in den Vakuum-Wärmebehandlungsofen gegeben, dann wird Wasserstoff eingeleitet und zur Entgasung weiter erhitzt.
- Das entgaste Niobpulver wird einmal durch Vakuum-Heißpressen gesintert.
- Das primäre Sinterprodukt wird zum Abschluss der sekundären Sinterung durch eine heißisostatische Presse geführt.
- Nach der sekundären Sinterung wird die gesamte Oberfläche des Produkts durch maschinelle Bearbeitung geschliffen, um das Endprodukt zu erhalten.
Niobium Sputtering Target Anwendungen
- Flachbildschirme und Flüssigkristallanzeigen: Niob-Sputter-Targets werden für die Herstellung hochwertiger Displays verwendet, die klare Bilder und hohen Kontrast liefern.
- Optische Linsen: In optischen Geräten werden Niob-Sputter-Targets zur Beschichtung verwendet, um die Lichtdurchlässigkeit und Haltbarkeit zu verbessern.
- Solarzellen: Niob-Sputter-Targets werden auch für die Herstellung von Solarzellen verwendet, um die photovoltaische Umwandlungseffizienz zu verbessern.
- Glasbeschichtung: Niob-Sputtertargets werden für die Oberflächenbeschichtung von Energiesparglas mit Antireflexions- und Wärmedämmeigenschaften verwendet.
Verpackung von Niob-Sputter-Targets
Das Niob-Sputtering-Target wird sorgfältig in Holzkisten oder Kartons verpackt, die zusätzlich mit weichen Materialien gestützt werden, um ein Verrutschen während des Transports zu verhindern. Diese Verpackungsmethode garantiert die Unversehrtheit der Produkte während des gesamten Lieferprozesses.
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Andere Niobiumprodukte
Heeger Metal bietet ein umfassendes Sortiment an Produkten aus Niob und Nioblegierungen an, darunter Pulver und Fertigteile, die auch kundenspezifisch angepasst werden können. Diese Werkstoffe sind für ihre außergewöhnliche Festigkeit, Korrosionsbeständigkeit und Hochtemperaturstabilität bekannt und eignen sich ideal für Anwendungen in der Luft- und Raumfahrt, der Elektronik und der chemischen Verarbeitung. Unser hochreines Niob gewährleistet zuverlässige Leistung und Haltbarkeit in den anspruchsvollsten Umgebungen.
Sputtering Targets Produkte
Heeger Metal bietet eine große Auswahl an Hochleistungs-Sputtertargets aus Materialien wie Titan, Kupfer, Aluminium und Seltenerdmetallen. Unsere kundenspezifischen Sputtertargets sind präzisionsgefertigt, um den Anforderungen von Branchen wie der Halbleiterherstellung, Photovoltaik und Elektronik gerecht zu werden. Dank ihrer überragenden Reinheit und Konsistenz bieten unsere Sputtertargets eine außergewöhnliche Leistung bei der Schichtabscheidung und sind damit ideal für die Dünnfilmbeschichtung, das Sputtern und PVD-Anwendungen (Physical Vapor Deposition).
