Gold Sputtering Target
Gold Sputtering Target
Reinheit: ≥99.95%, oder kundenspezifisch
Goldsputtertargets werden mit präzisen Techniken aus hochreinem Goldmetall hergestellt und sind für Dünnschichtabscheidungsprozesse konzipiert. Es ist in verschiedenen Größen und Formen erhältlich und eignet sich für unterschiedliche Sputtering-Systeme. Wir sind ein führender Anbieter und Hersteller von hochwertigen Goldprodukten, Heeger Metall setzt fortschrittliche Technologien ein, um hochwertige Goldsputtertargets für verschiedene Anwendungen zu liefern.
Oder senden Sie uns eine E-Mail an max@heegermaterials.com.Datenblatt Gold Sputtering Target
Referenz-Code: | HTST288 |
CAS: | 7440-57-5 |
Reinheit: | ≥99.95%, oder kundenspezifisch |
Die Dichte: | 19,283 g/cm3 |
Schmelzpunkt: | 1064℃ |
Siedepunkt: | 2970℃ |
Die Form: | Scheibe, Rechteckig, Rohr, oder kundenspezifisch |
Verstehen: | Kleben oder Lösen von Verbindungen |
Gold Sputtering Target Beschreibung
Gold (Au) hat eine hervorragende Leitfähigkeit, chemische Stabilität und Formbarkeit, was es für verschiedene Anwendungen unschätzbar macht. Gold Sputtering Target wird aus hochreinem Goldmetall hergestellt und ist für Dünnschicht-Beschichtungsprozesse konzipiert. Mit seiner stabilen Leistung und gleichbleibenden Qualität gewährleistet unser Goldsputtertarget glatte, gleichmäßige Beschichtungen für Solarzellen, Sensoren und Präzisionsinstrumente. Heeger Metal kann hochwertige Goldsputtertargets in verschiedenen Spezifikationen und maßgeschneiderte Lösungen für Industrie- und Forschungsanwendungen liefern, die optimale Leistung und Kosteneffizienz gewährleisten.
Gold Sputtering Target Spezifikationen
Symbol | Au |
Atomares Gewicht | 196.966569 |
Ordnungszahl | 79 |
Farbe/Erscheinungsbild | Gold, Metallisch |
Wärmeleitfähigkeit | 320 W/m.K |
Schmelzpunkt (°C) | 1,064 |
Wärmeausdehnungskoeffizient | 14,2 x 10-6/K |
Theoretische Dichte (g/cc) | 19.32 |
Z-Verhältnis | 0.381 |
Sputter | DC |
Maximale Leistungsdichte (Watt/Quadratzoll) | 100* |
Art der Anleihe | Indium, Elastomer |
Kommentare | Die Filme sind weich, nicht sehr haftend. |
Gold Sputtering Target Lager Abmessungen
Zirkulare Sputtering-Targets | Durchmesser | 1.0″ 2.0″ 3.0″ 4.0″ 5.0″ 6.0″ bis zu 21″. |
Rechteckige Sputtering-Targets | Breite x Länge | 5″ x 12″ 5""x 15″ 5″ x 20″ 5″ x 22″ 6″ x 20″ |
Dicke | 0.125″, 0.25″ |
Gold Sputtering Target Anwendungen
- Halbleiterindustrie: Goldsputtertargets werden für die Herstellung von mikroelektronischen Bauteilen wie integrierten Schaltkreisen, Sensoren und Steckverbindern verwendet und bieten eine hervorragende Leitfähigkeit und Zuverlässigkeit.
- Dünnfilmbeschichtungen: Wird häufig zur Herstellung dünner Goldschichten für optische Beschichtungen verwendet, die das Reflexionsvermögen und die Haltbarkeit verbessern.
- Solarzellen: Bei der Herstellung von Dünnschichtsolarzellen wird Gold gesputtert, um den Wirkungsgrad und die Leistung zu verbessern.
- Optische Geräte: Zur Herstellung reflektierender Beschichtungen für optische Linsen, Spiegel und andere Geräte, die eine hohe Lichtdurchlässigkeit und Reflexion gewährleisten.
- Biomedizinische Anwendungen: Goldsputtertargets werden aufgrund ihrer Biokompatibilität und Nichtreaktivität bei der Herstellung von biokompatiblen Beschichtungen für medizinische Geräte wie Implantate und Sensoren verwendet.
- Display-Technologie: Dünne Goldschichten werden bei der Herstellung fortschrittlicher Display-Technologien verwendet, darunter Flachbildschirme und Touchscreens.
- Sensoren: Goldbeschichtungen werden aufgrund ihrer hervorragenden leitenden Eigenschaften auf Sensoren aufgebracht und gewährleisten eine hohe Empfindlichkeit und Genauigkeit bei Anwendungen wie Gassensoren, Biosensoren und chemischen Sensoren.
Gold Sputtering Target Verpackung
Gold Sputtering Target wird sorgfältig in Holzkisten oder Kartons mit zusätzlichen weichen Materialien verpackt, um ein Verrutschen während des Transports zu verhindern. Diese Verpackungsmethode garantiert die Unversehrtheit der Produkte während des gesamten Liefervorgangs.
Gold Eigenschaften
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Sputtering Targets Produkte
Heeger Metal bietet eine große Auswahl an Hochleistungs-Sputtertargets aus Materialien wie Titan, Kupfer, Aluminium und Seltenerdmetallen. Unsere kundenspezifischen Sputtertargets sind präzisionsgefertigt, um den Anforderungen von Branchen wie der Halbleiterherstellung, Photovoltaik und Elektronik gerecht zu werden. Dank ihrer überragenden Reinheit und Konsistenz bieten unsere Sputtertargets eine außergewöhnliche Leistung bei der Schichtabscheidung und sind damit ideal für die Dünnfilmbeschichtung, das Sputtern und PVD-Anwendungen (Physical Vapor Deposition).