Niob-Sputtering-Target

Niob-Sputtering-Target

Niob Sputterig Target

Reinheit: 99,5%-99,99%

Material: R04200, R04210

  • Kundenspezifische Größen und Standardgrößen auf Lager
  • Schnelle Vorlaufzeit
  • Konkurrenzfähiger Preis
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Das Niob-Sputter-Target besteht aus hochreinem Niob-Metall, das eine geringe Korngröße aufweist. Diese Eigenschaften ermöglichen die Bildung von gleichmäßigen und dichten Schichten. Als führender Anbieter und Hersteller von hochwertigen Niobprodukten nutzt Heeger Materials fortschrittliche Bearbeitungszentren, um hochpräzise Niob-Sputtertargets für eine Vielzahl von Anwendungen zu liefern.

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Datenblatt Niob-Sputtering

Referenz:HMST16
Material:R04200, R04210
Reinheit:99.5%-99.99%
Die Dichte:8,57 g/cm3
Die Form:Flach, rotierend oder kundenspezifisch
Bindung:Entbinden oder Verbinden

Niob-Sputtering-Target

Niobium ist ein seltenes, silbrig-graues Übergangsmetall mit ausgezeichneter Korrosionsbeständigkeit, elektrischer Leitfähigkeit und Hochtemperaturstabilität. Niob-Sputtering-Target kann in der Regel eine Reinheit von mehr als 99,95% erreichen und weist eine geringe Korngröße auf, was die Qualität der Beschichtung gewährleistet. Niob-Sputtering-Targets werden häufig in der Halbleiterherstellung, bei Dünnfilmbeschichtungen, elektronischen Bauteilen usw. eingesetzt. HM kann je nach den spezifischen Anforderungen Dienstleistungen im Bereich Bonding anbieten.

  • Niob Sputtering Target_Runde Form
    Niob Sputtering Target_Runde Form
  • Niobium Sputtering Target_Spezialform
    Niobium Sputtering Target_Spezialform
  • Niob-Zerstäubungstarget_Rotary Type
    Niob-Zerstäubungstarget_Rotary Type

Niob Sputtering Target Material Chemische Zusammensetzung

MaterialHauptelement (%)Verunreinigungen (≤%)
NbFeSiNiWMoTiTaZrHfOCHN
RO4200Bal.0.00400.00400.00200.00500.00500.00200.07000.02000.02000.01500.00400.00150.0030
RO4210Bal.0.01000.01000.00500.02000.01000.00400.10000.02000.02000.02000.01000.00150.0100

Spezifikationen für Niob-Sputtering-Targets

Material TypNiobiumWärmeausdehnungskoeffizient7.3 x 10-6/K
SymbolNbTheoretische Dichte (g/cc)8.57
Atomares Gewicht92.90638Z-Verhältnis0.492
Ordnungszahl41SputterDC
Farbe/ErscheinungsbildGrau, MetallischMaximale Leistungsdichte (Watt/Quadratzoll)100*
Wärmeleitfähigkeit54 W/m.KArt der AnleiheIndium, Elastomer
Schmelzpunkt (°C)2,468KommentareAngriffe W Quelle.

Niobium Sputtering Target Stock Abmessungen

Zirkulare Sputtering-TargetsDurchmesser1.0″
2.0″
3.0″
4.0″
5.0″
6.0″
bis zu 21″.
Rechteckige Sputtering-TargetsBreite x Länge5″ x 12″
5""x 15″
5″ x 20″
5″ x 22″
6″ x 20″
Dicke0.125″, 0.25″

Verfahren zur Herstellung von Niob-Sputter-Targets

In der Regel werden sie durch ein pulvermetallurgisches Verfahren hergestellt, wobei der Reinheitsgrad der Niobium-Pulver sollte über 99,95% liegen. Das spezifische Verfahren ist wie folgt:

  • Legen Sie das Niobpulver zur Vorbegasung in den Vakuum-Wärmebehandlungsofen, führen Sie dann Wasserstoff ein und heizen Sie zur Entgasung weiter.
  • Das entgaste Niobpulver wird einmal durch Vakuum-Heißpressen gesintert.
  • Das primäre Sinterprodukt wird zum Abschluss der sekundären Sinterung durch eine heißisostatische Presse geführt.
  • Nach der sekundären Sinterung wird die gesamte Oberfläche des Produkts durch maschinelle Bearbeitung geschliffen, um das Endprodukt zu erhalten.

Niobium Sputtering Target Anwendungen

  • Flachbildschirme und Flüssigkristallanzeigen: Niob-Sputter-Targets werden für die Herstellung hochwertiger Displays verwendet, die klare Bilder und hohen Kontrast liefern.
  • Optische Linsen: In optischen Geräten werden Niob-Sputter-Targets zur Beschichtung verwendet, um die Lichtdurchlässigkeit und Haltbarkeit zu verbessern.
  • Solarzellen: Niob-Sputter-Targets werden auch für die Herstellung von Solarzellen verwendet, um die photovoltaische Umwandlungseffizienz zu verbessern.
  • Glasbeschichtung: Niob-Sputtertargets werden für die Oberflächenbeschichtung von Energiesparglas mit Antireflexions- und Wärmedämmeigenschaften verwendet.

Verpackung von Niob-Sputter-Targets

Das Niobium Sputtering Target wird sorgfältig in Holzkisten oder Kartons verpackt, die zusätzlich mit weichen Materialien gestützt werden, um ein Verrutschen während des Transports zu verhindern. Diese Verpackungsmethode garantiert die Unversehrtheit der Produkte während des gesamten Lieferprozesses.

Metall-Verpackung

Niobium Eigenschaften

ArtikelWert
Ordnungszahl41
KristallstrukturKörperzentriert kubisch
Elektronische StrukturKr 4d⁴ 5s¹
Gezeigte Valenzen2, 3, 4, 5
Atomgewicht (amu)92.9064
Thermischer Neutronenabsorptionsquerschnitt (Barns)1.15
Photoelektrische Arbeitsfunktion( eV )4.3
Atomradius - Goldschmidt( nm )0.147
Ionisierungspotential (Nr./eV)3/ 25.0
Ionisierungspotential (Nr./eV)2/ 14.3
Ionisierungspotential (Nr./eV)6/ 103
Ionisierungspotential (Nr./eV)1/ 6.88
Ionisierungspotential (Nr./eV)4/ 38.3
Ionisierungspotential (Nr./eV)5/ 50.5
ArtikelWert
Materialzustand / ZustandGeglüht (weich)
Materialzustand / ZustandUngeglüht (hart)
Poissonsche Zahl0.397
Poissonsche Zahl0.397
Elastizitätsmodul (GPa)170.3
Elastizitätsmodul (GPa)170.3
Zugspannungsmodul( GPa )104.9
Zugspannungsmodul( GPa )104.9
Izod-Zähigkeit( J m-¹ )10-120
Härte - Vickers( kgf mm-² )115
Härte - Vickers( kgf mm-² )160
Zugfestigkeit( MPa )330
Zugfestigkeit( MPa )585
Streckgrenze( MPa )550
Streckgrenze( MPa )240
ArtikelWert
Elektrischer Widerstand (µOhmcm)16@20@20°C
Kritische Temperatur der Supraleitung( K )9.25
Temperaturkoeffizient( K-¹ )0.0026@0-100°C
ArtikelWert
Siedepunkt( °C )4742
Dichte( gcm-³ )8.57@20°C
ArtikelWert
Schmelzpunkt( °C )2468
Latente Verdampfungswärme ( J g-¹ )7360
Latente Schmelzwärme ( J g-¹ )290
Spezifische Wärme( J K-¹ kg-¹ )268@25°C
Wärmeleitfähigkeit( W m-¹ K-¹ )53.7@0-100°C
Wärmeausdehnungskoeffizient( x10-⁶ K-¹ )7.2@0-100°C

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Um Ihr Niob-Sputtering-Target individuell zu gestalten, geben Sie bitte die folgenden Details an:

  1. Durchmesser (für die kreisförmigen Sputtertargets)
  2. Breite × Länge (für die rechteckigen Sputtertargets)
  3. Dicke (für die Sputtertargets)
  4. Reinheit des Materials
  5. Gegenhalteplatte (Falls eine Verklebung erforderlich ist, geben Sie bitte das Material und die Abmessungen der Trägerplatte an.）
  6. Menge der von Ihnen benötigten Produkte
  7. Alternativ können Sie auch eine Zeichnung mit Ihren Spezifikationen.

Sobald wir diese Angaben haben, können wir Ihnen innerhalb von 24 Stunden ein Angebot unterbreiten.

Wir haben eine Vielzahl von Produkten aus Niob und Nioblegierungen auf Lager, für die in der Regel keine Mindestbestellmenge erforderlich ist. Für kundenspezifische Aufträge setzen wir jedoch in der Regel einen Mindestbestellwert von $200 fest. Die Vorlaufzeit für Lagerartikel beträgt in der Regel 1-2 Wochen, während Sonderanfertigungen in der Regel 3-4 Wochen dauern, je nach den Besonderheiten des Auftrags.

Bei der Einhaltung der DFARS (Defense Federal Acquisition Regulation Supplement) geht es in erster Linie um die Beschaffung von Materialien für verteidigungsrelevante Anwendungen in den Vereinigten Staaten. Gemäß DFARS müssen bestimmte Materialien, die im Verteidigungsbereich verwendet werden, aus den Vereinigten Staaten oder qualifizierten Ländern bezogen werden.

Wenn Sie bestimmte Niob-Materialien haben, die unter die DFARS fallen, teilen Sie uns dies bitte im Voraus mit, damit wir es bestätigen können.

Bei Heeger Materials Inc. nehmen wir diese Verantwortung ernst. Wir halten uns an alle geltenden Gesetze und Vorschriften, einschließlich Abschnitt 1502 des Dodd-Frank Act. Unser Unternehmen arbeitet nach einem strengen Ethikkodex und verpflichtet sich, nur mit Lieferanten zusammenzuarbeiten, die unser Engagement für eine verantwortungsvolle Beschaffung teilen. Wir unterstützen die Initiativen und Programme zur Förderung "konfliktfreier" Lieferketten und arbeiten sorgfältig daran, dass unsere Produkte diese Standards erfüllen.

Heeger Materials Inc. wurde 2016 in Colorado, USA, gegründet und ist ein spezialisierter Lieferant und Hersteller von Tantal und Tantal-Legierungen. Dank unserer umfassenden Erfahrung im Bereich der Lieferung und des Exports bieten wir wettbewerbsfähige Preise und maßgeschneiderte Lösungen für spezifische Anforderungen, die hervorragende Qualität und Kundenzufriedenheit gewährleisten. Als professioneller Anbieter von Refraktärmetallen, Speziallegierungen, kugelförmigen Pulvern und verschiedenen fortschrittlichen Werkstoffen bedienen wir den Bedarf von Wissenschaft und Industrie in den Bereichen Forschung, Entwicklung und industrielle Großproduktion.

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Heeger Metal bietet eine umfassende Palette von Erzeugnisse aus Niob und Nioblegierungeneinschließlich Pulver und fertige Teile, wobei kundenspezifische Anpassungen möglich sind. Diese Materialien sind für ihre außergewöhnliche Festigkeit, Korrosionsbeständigkeit und Hochtemperaturstabilität bekannt und eignen sich ideal für Anwendungen in der Luft- und Raumfahrt, der Elektronik und der chemischen Verarbeitung. Unser hochreines Niobium sorgt für zuverlässige Leistung und Langlebigkeit auch in den anspruchsvollsten Umgebungen.

Sputtering Targets Produkte

Heeger Metal bietet eine große Auswahl an Hochleistungs-Sputtertargets aus Materialien wie Titan, Kupfer, Aluminium und Seltenerdmetallen. Unsere kundenspezifischen Sputtertargets sind präzisionsgefertigt, um den Anforderungen von Branchen wie der Halbleiterherstellung, Photovoltaik und Elektronik gerecht zu werden. Dank ihrer überragenden Reinheit und Konsistenz bieten unsere Sputtertargets eine außergewöhnliche Leistung bei der Schichtabscheidung und sind damit ideal für die Dünnfilmbeschichtung, das Sputtern und PVD-Anwendungen (Physical Vapor Deposition).

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