Titan-Sputtering-Target

Titan-Sputtering-Target

Titan-Sputtering-Target

Material: Gr.1, Gr.2, Gr.3, Gr.7, Gr.9, Gr.12, Gr.16, etc.

Reinheit: 99,95%-99,995%

  • Kundenspezifische Größen und Standardgrößen auf Lager
  • Schnelle Vorlaufzeit
  • Konkurrenzfähiger Preis
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Titanium Sputtering Target ist eines der am häufigsten verwendeten Targetmaterialien, das aus hochreinem Titan hergestellt wird. Es bietet überlegene Leistung und Zuverlässigkeit für verschiedene Anwendungen der Dünnschichtabscheidung. Als führender Anbieter und Hersteller von hochwertigen Titanprodukten nutzt Heeger Materials fortschrittliche Technologien, um hochreine Sputtertargets aus Titan und Titanlegierungen für verschiedene Anwendungen zu liefern.

Oder senden Sie uns eine E-Mail an max@heegermaterials.com.

Datenblatt Titan Sputtering Target

Referenz:HMST319
Material:Gr.1, Gr.2, Gr.3, Gr.7, Gr.9, Gr.12, Gr.16, usw.
Reinheit:99.95%-99.995%
Durchschnittliche Korngröße:≤100 μm
Die Dichte:4,5 g/cm3
Schmelzpunkt:1660 ℃
Die Form:Flach, rotierend oder kundenspezifisch
Bindung:Unbonding oder Bonding

Titan-Sputtering-Target

Titan (Ti), ein silbernes Übergangsmetall mit einer geringen Dichte von 4,54 g/cm3Es zeichnet sich durch geringes Gewicht, hohe Festigkeit und Korrosionsbeständigkeit aus. Das Titan Sputtering Target wird aus hochreinem Titanpulverund gewährleistet eine hervorragende Konsistenz und Gleichmäßigkeit während des Sputtering-Prozesses. Es ist eines der Barrierefolienmaterialien, die üblicherweise in ultragroßen integrierten Schaltkreisen verwendet werden. HM kann kundenspezifische Lösungen in Bezug auf Reinheit, Größe und Dichte je nach den spezifischen Anforderungen liefern.

Titan Sputtering Target Material Chemische Zusammensetzung

TypElement (%)
NCHFeOAlVMoNiPdTi
GR.1≤0.03≤0.08≤0.015≤0.2≤0.18     Restbetrag
GR.2≤0.03≤0.08≤0.015≤0.3≤0.25     Restbetrag
GR.3≤0.05≤0.08≤0.015≤0.3≤0.35     Restbetrag
GR.7≤0.03≤0.08≤0.015≤0.3≤0.25    0.12-0.25Restbetrag
GR.9≤0.02≤0.08≤0.015≤0.25≤0.152.5-3.32.0-3.0   Restbetrag
GR.12≤0.03≤0.08≤0.015≤0.3≤0.25  0.2-0.40.6-0.9 Restbetrag
GR.16≤0.03≤0.08≤0.015≤0.3≤0.25    0.04-0.08

Spezifikationen für Titan-Sputtering-Targets

Material TypTitanWärmeausdehnungskoeffizient8,6 x 10-6/K
SymbolTiTheoretische Dichte (g/cc)4.5
Atomares Gewicht47.867Z-Verhältnis0.628
Ordnungszahl22SputterDC
Farbe/ErscheinungsbildSilbrig MetallischMaximale Leistungsdichte (Watt/Quadratzoll)50*
Wärmeleitfähigkeit21,9 W/m.KArt der AnleiheIndium, Elastomer
Schmelzpunkt (°C)1,660KommentareLegierungen mit W/Ta/Mo; entwickeln beim ersten Erhitzen Gas.

Titanium Sputtering Target Stock Abmessungen

Zirkulare Sputtering-TargetsDurchmesser1.0"
2.0"
3.0"
4.0"
5.0"
6.0"
bis zu 21"
Rechteckige Sputtering-TargetsBreite x Länge5" x 12"
5" x 15"
5" x 20"
5" x 22"
6" x 20"
Dicke0.125", 0.25"

Titan Sputtering Target Mikrostrukturbild

Das Mikrostrukturbild von 100 μm Korngröße
Das Mikrostrukturbild_100 μm Korngröße

Vorteile von Titan-Sputtering-Targets

  • Hohe Reinheit und Dichte
  • Niedrige Partikel
  • Gleichmäßige Schichtdickenverteilung
  • Hohe Effizienz bei der Nutzung

Verfahren zur Herstellung von Titan-Sputter-Targets

Die Reinheit des Titanpulvers sollte über 99,95% liegen, da es in der Regel nach dem pulvermetallurgischen Verfahren hergestellt wird. Der spezifische Prozess ist wie folgt:

  • Legen Sie das Titanpulver zur Vorbegasung in den Vakuum-Wärmebehandlungsofen, führen Sie dann Wasserstoff ein und heizen Sie zur Entgasung weiter.
  • Das entgaste Titanpulver wird einmal durch Vakuum-Heißpressen gesintert.
  • Das primäre Sinterprodukt wird zum Abschluss der sekundären Sinterung durch eine heißisostatische Presse geführt.
  • Nach der sekundären Sinterung wird die gesamte Oberfläche des Produkts durch maschinelle Bearbeitung geschliffen, um das Endprodukt zu erhalten.

Titan Sputtering Target Anwendungen

  • Das Titan-Sputter-Target kann als Barriereschichtmaterial für ultra-große integrierte Schaltungen verwendet werden.
  • Das Titan-Sputtering-Target ist ideal für die Abscheidung von Dünnschichten für Flachbildschirme.
  • Das Titan-Sputter-Target wird üblicherweise bei der physikalischen Gasphasenabscheidung (PVD) und beim Magnetron-Sputtern zur Herstellung von optischen Dünnschichten, Antireflexschichten usw. verwendet.
  • Das Titan-Sputter-Target trägt dazu bei, dass die Komponenten außergewöhnlich leicht, dünn, klein und dicht gepackt sind, wenn sie zur Herstellung von Verbindungen in LSI, VLSI und ULSI gesputtert werden.

Titan Sputtering Target Verpackung

Das Titanium Sputtering Target wird sorgfältig in Holzkisten oder Kartons verpackt, die zusätzlich mit weichen Materialien gestützt werden, um ein Verrutschen während des Transports zu verhindern. Diese Verpackungsmethode garantiert die Unversehrtheit der Produkte während des gesamten Liefervorgangs.

Metall-Verpackung

Eigenschaften von Titan

ArtikelWert
Ordnungszahl22
KristallstrukturSechseckig dicht gepackt
Elektronische StrukturAr 3d² 4s²
Gezeigte Valenzen2,3,4
Atomgewicht (amu)47.88
Thermischer Neutronenabsorptionsquerschnitt (Barns)6.1
Photoelektrische Arbeitsfunktion( eV )4.1
Natürliche Isotopenverteilung (Massen-Nr./%)50/ 5.3
Natürliche Isotopenverteilung (Massen-Nr./%)49/ 5.5
Natürliche Isotopenverteilung (Massen-Nr./%)46/ 8.0
Natürliche Isotopenverteilung (Massen-Nr./%)48/ 73.7
Natürliche Isotopenverteilung (Massen-Nr./%)47/ 7.5
Atomradius - Goldschmidt( nm )0.147
Ionisierungspotential (Nr./eV)3/ 27.5
Ionisierungspotential (Nr./eV)4/ 43.3
Ionisierungspotential (Nr./eV)5/ 99.2
Ionisierungspotential (Nr./eV)1/ 6.82
Ionisierungspotential (Nr./eV)2/ 13.6
Ionisierungspotential (Nr./eV)6/ 119
ArtikelWert
Materieller ZustandPolykristallin
Materieller ZustandGeglüht
Poissonsche Zahl0.361
Poissonsche Zahl0.361
Poissonsche Zahl
Elastizitätsmodul (GPa)108.4
Elastizitätsmodul (GPa)
Elastizitätsmodul (GPa)108.4
Zugspannungsmodul( GPa )
Zugspannungsmodul( GPa )120.2
Zugspannungsmodul( GPa )120.2
Izod-Zähigkeit( J m-¹ )61
Izod-Zähigkeit( J m-¹ )61
Härte - Vickers( kgf mm-² )60
Härte - Vickers( kgf mm-² )60
Zugfestigkeit( MPa )230-460
Zugfestigkeit( MPa )230-460
Streckgrenze( MPa )140-250
Streckgrenze( MPa )140-250
ArtikelWert
Elektrischer Widerstand (µOhmcm)54@20@20°C
Kritische Temperatur der Supraleitung( K )0.4
Temperaturkoeffizient( K-¹ )0.0038@0-100°C
ArtikelWert
Siedepunkt( °C )3287
Dichte( gcm-³ )4.5@20°C
ArtikelWert
Schmelzpunkt( °C )1660
Latente Verdampfungswärme ( J g-¹ )8893
Latente Schmelzwärme ( J g-¹ )365
Spezifische Wärme( J K-¹ kg-¹ )523@25°C
Wärmeleitfähigkeit( W m-¹ K-¹ )21.9@0-100°C
Wärmeausdehnungskoeffizient( x10-⁶ K-¹ )8.9@0-100°C

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Wir werden das prüfen und uns innerhalb von 24 Stunden bei Ihnen melden.

Um Ihr Titan-Sputtering-Target individuell zu gestalten, geben Sie bitte die folgenden Details an:

  1. Durchmesser (für die kreisförmigen Sputtertargets)
  2. Breite × Länge (für die rechteckigen Sputtertargets)
  3. Dicke (für die Sputtertargets)
  4. Reinheit des Materials
  5. Gegenhalteplatte (Falls eine Verklebung erforderlich ist, geben Sie bitte das Material und die Abmessungen der Trägerplatte an.)
  6. Menge der von Ihnen benötigten Produkte
  7. Alternativ können Sie auch eine Zeichnung mit Ihren Spezifikationen.

Sobald wir diese Angaben haben, können wir Ihnen innerhalb von 24 Stunden ein Angebot unterbreiten.

Wir haben eine Vielzahl von Produkten aus Titan und Titanlegierungen auf Lager, für die im Allgemeinen keine Mindestbestellmenge erforderlich ist. Für kundenspezifische Aufträge setzen wir jedoch in der Regel einen Mindestbestellwert von $200 fest. Die Vorlaufzeit für Lagerartikel beträgt in der Regel 1-2 Wochen, während Sonderanfertigungen in der Regel 3-4 Wochen dauern, je nach den Besonderheiten des Auftrags.

Bei der Einhaltung der DFARS (Defense Federal Acquisition Regulation Supplement) geht es in erster Linie um die Beschaffung von Materialien für verteidigungsrelevante Anwendungen in den Vereinigten Staaten. Gemäß DFARS müssen bestimmte Materialien, die im Verteidigungsbereich verwendet werden, aus den Vereinigten Staaten oder qualifizierten Ländern bezogen werden.

Wenn Sie über bestimmte Titanwerkstoffe verfügen, die unter die DFARS fallen, teilen Sie uns dies bitte im Voraus mit, damit wir es bestätigen können.

Bei Heeger Materials Inc. nehmen wir diese Verantwortung ernst. Wir halten uns an alle geltenden Gesetze und Vorschriften, einschließlich Abschnitt 1502 des Dodd-Frank Act. Unser Unternehmen arbeitet nach einem strengen Ethikkodex und verpflichtet sich, nur mit Lieferanten zusammenzuarbeiten, die unser Engagement für eine verantwortungsvolle Beschaffung teilen. Wir unterstützen die Initiativen und Programme zur Förderung "konfliktfreier" Lieferketten und arbeiten sorgfältig daran, dass unsere Produkte diese Standards erfüllen.

Heeger Materials Inc. wurde 2016 in Colorado, USA, gegründet und ist ein spezialisierter Lieferant und Hersteller von Tantal und Tantal-Legierungen. Dank unserer umfassenden Erfahrung im Bereich der Lieferung und des Exports bieten wir wettbewerbsfähige Preise und maßgeschneiderte Lösungen für spezifische Anforderungen, die hervorragende Qualität und Kundenzufriedenheit gewährleisten. Als professioneller Anbieter von Refraktärmetallen, Speziallegierungen, kugelförmigen Pulvern und verschiedenen fortschrittlichen Werkstoffen bedienen wir den Bedarf von Wissenschaft und Industrie in den Bereichen Forschung, Entwicklung und industrielle Großproduktion.

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Sputtering Targets Produkte

Heeger Metal bietet eine große Auswahl an Hochleistungs-Sputtertargets aus Materialien wie Titan, Kupfer, Aluminium und Seltenerdmetallen. Unsere kundenspezifischen Sputtertargets sind präzisionsgefertigt, um den Anforderungen von Branchen wie der Halbleiterherstellung, Photovoltaik und Elektronik gerecht zu werden. Dank ihrer überragenden Reinheit und Konsistenz bieten unsere Sputtertargets eine außergewöhnliche Leistung bei der Schichtabscheidung und sind damit ideal für die Dünnfilmbeschichtung, das Sputtern und PVD-Anwendungen (Physical Vapor Deposition).

Andere Titanprodukte

Heeger Metal bietet ein umfassendes Sortiment an Produkten aus Titan und Titanlegierungen an, darunter Pulver und Fertigteile, für die individuelle Anpassungen möglich sind. Diese Werkstoffe sind für ihre außergewöhnliche Festigkeit, Korrosionsbeständigkeit und Hochtemperaturstabilität bekannt und eignen sich perfekt für Anwendungen in der Luft- und Raumfahrt, der Elektronik und der chemischen Verarbeitung.

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