Wolfram Sputtering Target

Wolfram Sputtering Target

Wolfram Sputtering Target

Material: Reines Wolfram

Reinheit: 99%-99,999%

  • Kundenspezifische Größen und Standardgrößen auf Lager
  • Schnelle Vorlaufzeit
  • Konkurrenzfähiger Preis
5 Stern Bewertung
5 Stern Bewertung
5 Stern Bewertung
5 Stern Bewertung
5 Stern Bewertung

Wolfram Sputtering Target ist von hoher Reinheit gemacht Wolframpulvervon bis zu 99,999%. Es besitzt die Vorteile eines hohen Schmelzpunkts, hoher Dichte, Korrosionsbeständigkeit und guter thermischer Stabilität. Als führender Anbieter und Hersteller von hochwertigen Wolframprodukten nutzt Heeger Materials fortschrittliche Bearbeitungszentren, um hochpräzise Sputtertargets, Verdampfungsquellen und andere Abscheidungsmaterialien für ein breites Spektrum von Anwendungen zu liefern.

Oder senden Sie uns eine E-Mail an max@heegermaterials.com.

Wolfram Sputtering Target Datenblatt

Referenz:HMST24
Material:Wolfram
Reinheit:99%, 99.9%, 99.95%, 99.99%, 99.999%
Die Form:Scheibe, rechteckig, rotierend oder kundenspezifisch
Bindung:Unbonding, oder Bonding

Wolfram Sputtering Target

Wolfram Sputtering Target ist ein hochleistungsfähiges Abscheidungsmaterial, das in der Halbleiterindustrie, bei der chemischen Gasphasenabscheidung (CVD), der physikalischen Gasphasenabscheidung (PVD) und bei optischen Anwendungen weit verbreitet ist. HM kann kundenspezifische Lösungen und Klebedienstleistungen anbieten, um spezifische Anforderungen zu erfüllen.

Wolfram Sputtering Target Material Chemische Zusammensetzung

W (>%)Chemischer Gehalt (<%)
99.999
W1
FeCaSeiSnAlNiZnSbPunktKTaNa
0.00010.000050.0000050.0000050.000050.000010.000050.000050.000030.0000050.00010.00005
CrPbAlsMgTiBiMoCdCuBaCoMn
0.0000050.000010.000050.000050.0000050.000010.000010.0000050.0000070.000010.0000050.000005
99.99
W2
FeCaSeiSnAlNiZnSbPunktKONa
0.00010.000450.00010.00010.00010.00010.00010.00010.00010.00050.00400.0009
CrPbAlsMgTiBiMoCdCuBaCoMn
0.00010.00010.00010.00010.00010.00010.00020.00010.00010.00010.00010.0001
99.95
W3
FeCaPSnAlNiNSbSiOPbAls
0.0050.0030.0010.00010.0020.0030.0030.0010.0030.0030.00010.002
MgCBiMo        
0.0020.0050.00010.001        

Wolfram Sputtering Target Spezifikationen

Material TypWolframWärmeausdehnungskoeffizient4.5 x 10-6/K
SymbolWTheoretische Dichte (g/cc)19.25
Atomares Gewicht183.84Z-Verhältnis0.163
Ordnungszahl74SputterDC
Farbe/ErscheinungsbildGraues Weiß, glänzend, metallischMaximale Leistungsdichte (Watt/Quadratzoll)100*
Wärmeleitfähigkeit174 W/m.KArt der AnleiheIndium, Elastomer
Schmelzpunkt (°C)3,410KommentareBildet flüchtige Oxide. Filme sind hart und haftend.

Wolfram Sputtering Target Stock Abmessungen

Zirkulare Sputtering-TargetsDurchmesser1.0″
2.0″
3.0″
4.0″
5.0″
6.0″
bis zu 21″.
Rechteckige Sputtering-TargetsBreite x Länge5″ x 12″
5""x 15″
5″ x 20″
5″ x 22″
6″ x 20″
Dicke0.125″, 0.25″

Wolfram Sputtering Target Vorteile

  • Hochreine, gesinterte und gegossene Wolfram-Sputtertargets bis zu 99,95% und darüber hinaus.
  • Rapid Prototyping, Pulvermetallurgie und Direktpressen.
  • Hohe Dichte, die Dichte der Wolfram Sputtern Ziel nach dem Gießen kann mehr als 19,1 g / cm3.
  • Durch die breite Anwendung des pulvermetallurgischen Verfahrens sind die Kosten für Wolframtargets niedriger als für andere Targetmaterialien wie Titan.
  • Einheitliche Zusammensetzung und Struktur, verbessern die Ablenkungskraft des Wolfram Ziel.
  • Feine Partikelgröße, Korngleichmäßigkeit, andere Achsen, hohe Konzentration und Beschichtungsproduktqualität sind höher.

Wolfram Sputtering Targets Produktionsprozess

In der Regel werden sie durch ein pulvermetallurgisches Verfahren hergestellt, wobei der Reinheitsgrad der Wolframpulver sollte über 99.95%, und die Partikelgröße sollte zwischen 3,2-4,2 μm liegen. Das spezifische Verfahren ist wie folgt:

  • Legen Sie das Wolframpulver in den Vakuum-Wärmebehandlungsofen zur Vorbegasung, führen Sie dann Wasserstoff ein und heizen Sie weiter zur Entgasung.
  • Das entgaste Wolframpulver wird einmal durch Vakuum-Heißpressen gesintert.
  • Das primäre Sinterprodukt wird zum Abschluss der sekundären Sinterung durch eine heißisostatische Presse geführt.
  • Nach der sekundären Sinterung wird die gesamte Oberfläche des Produkts durch maschinelle Bearbeitung geschliffen, um das Endprodukt zu erhalten.

Wolfram Sputtering Target Anwendungen

  • Herstellung von Halbleitern: Bei der Herstellung von integrierten Schaltkreisen und mikroelektronischen Bauelementen werden Wolfram-Sputter-Targets zur Abscheidung von leitenden Schichten oder Barriereschichten im PVD-Verfahren (Physical Vapor Deposition) verwendet.
  • Fotovoltaik-Industrie: Wolfram-Sputter-Targets werden bei der Herstellung von Solarzellen verwendet, um hocheffiziente photovoltaische Umwandlungsschichten durch Sputtering-Beschichtung zu erzeugen und so die Effizienz und Stabilität von Solarzellen zu verbessern.
  • Hartbeschichtungen und Werkzeugbau: Die Härte und Verschleißfestigkeit von Wolfram machen es zu einem leistungsstarken Beschichtungsmaterial. Wolfram-Sputter-Targets werden zur Herstellung harter Beschichtungen für Metallschneidwerkzeuge, Formen usw. verwendet, um deren Haltbarkeit und Verschleißfestigkeit zu verbessern.
  • Militär und Luft- und Raumfahrt: Die hohe Dichte und die hohen Festigkeitseigenschaften von Wolfram-Sputter-Targets machen sie wichtig für die Herstellung von militärischer Schutzausrüstung und Geräten für die Luft- und Raumfahrt.
  • Elektronische Komponenten: Die hohe Wärmeleitfähigkeit und elektrische Leitfähigkeit des Wolfram-Sputter-Targets machen es zu einem wichtigen Material für die Wärmeableitung und elektromagnetische Abschirmung elektronischer Geräte.

Wolfram Sputtering Target Verpackung

Das Tungsten Sputtering Target wird sorgfältig in Holzkisten oder Kartons verpackt, die zusätzlich mit weichen Materialien gestützt werden, um ein Verrutschen während des Transports zu verhindern. Diese Verpackungsmethode garantiert die Unversehrtheit der Produkte während des gesamten Lieferprozesses.

Metall-Verpackung

Wolfram-Eigenschaften

ArtikelWert
Ordnungszahl74
KristallstrukturKörperzentriert kubisch
Elektronische StrukturXe 4f¹⁴ 5d⁴ 6s²
Gezeigte Valenzen2,3,4,5,6
Atomgewicht (amu)183.85
Thermischer Neutronenabsorptionsquerschnitt (Barns)18.5
Photoelektrische Arbeitsfunktion( eV )4.55
Natürliche Isotopenverteilung (Massen-Nr./%)183/ 14.3
Natürliche Isotopenverteilung (Massen-Nr./%)182/ 26.3
Natürliche Isotopenverteilung (Massen-Nr./%)186/ 28.6
Natürliche Isotopenverteilung (Massen-Nr./%)180/ 0.1
Natürliche Isotopenverteilung (Massen-Nr./%)184/ 30.7
Atomradius - Goldschmidt( nm )0.141
Ionisierungspotential (Nr./eV)1/ 7.98
Ionisierungspotential (Nr./eV)2/ 17.7
ArtikelWert
Materieller ZustandGeglüht (weich)
Materieller ZustandUngeglüht (hart)
Poissonsche Zahl0.28
Poissonsche Zahl0.28
Elastizitätsmodul (GPa)311
Elastizitätsmodul (GPa)311
Zugspannungsmodul( GPa )411
Zugspannungsmodul( GPa )411
Härte - Vickers( kgf mm-² )360
Härte - Vickers( kgf mm-² )500
Zugfestigkeit( MPa )550-620
Zugfestigkeit( MPa )1920
Streckgrenze( MPa )550
ArtikelWert
Elektrischer Widerstand (µOhmcm)5.4@20@20°C
Kritische Temperatur der Supraleitung( K )0.0154
Temperaturkoeffizient( K-¹ )0.0048@0-100°C
Thermospannung gegen Pt (kalt 0C - heiß 100C)( mV )1.12
ArtikelWert
Siedepunkt( °C )5660
Dichte( gcm-³ )19.3@20°C
ArtikelWert
Schmelzpunkt( °C )3410
Latente Verdampfungswärme ( J g-¹ )4009
Latente Schmelzwärme ( J g-¹ )192
Spezifische Wärme( J K-¹ kg-¹ )133@25°C
Wärmeleitfähigkeit( W m-¹ K-¹ )173@0-100°C
Wärmeausdehnungskoeffizient( x10-⁶ K-¹ )4.5@0-100°C

Angebot einholen

Wir werden das prüfen und uns innerhalb von 24 Stunden bei Ihnen melden.

Um Ihr Wolfram-Sputter-Target zu personalisieren, geben Sie bitte die folgenden Details an:

  1. Durchmesser (für die kreisförmigen Sputtertargets)
  2. Breite × Länge (für die rechteckigen Sputtertargets)
  3. Dicke (für die Sputtertargets)
  4. Reinheit des Materials
  5. Gegenhalteplatte (Falls eine Verklebung erforderlich ist, geben Sie bitte das Material und die Abmessungen der Trägerplatte an.)
  6. Menge der von Ihnen benötigten Produkte
  7. Alternativ können Sie auch eine Zeichnung mit Ihren Spezifikationen.

Sobald wir diese Angaben haben, können wir Ihnen innerhalb von 24 Stunden ein Angebot unterbreiten.

Wir haben eine Vielzahl von Produkten aus Wolfram und Wolframlegierungen auf Lager, für die in der Regel keine Mindestbestellmenge erforderlich ist. Allerdings für kundenspezifische Aufträge, setzen wir in der Regel einen Mindestbestellwert von $200. Die Vorlaufzeit für Lagerartikel beträgt in der Regel 1-2 Wochen, während kundenspezifische Aufträge in der Regel 3-4 Wochen dauern, je nach den Besonderheiten der Bestellung.

Bei der Einhaltung der DFARS (Defense Federal Acquisition Regulation Supplement) geht es in erster Linie um die Beschaffung von Materialien für verteidigungsrelevante Anwendungen in den Vereinigten Staaten. Gemäß DFARS müssen bestimmte Materialien, die im Verteidigungsbereich verwendet werden, aus den Vereinigten Staaten oder qualifizierten Ländern bezogen werden.

Wenn Sie bestimmte Wolfram-Materialien haben, die unter die DFARS fallen, teilen Sie uns dies bitte im Voraus mit, damit wir es bestätigen können.

Bei Heeger Materials Inc. nehmen wir diese Verantwortung ernst. Wir halten uns an alle geltenden Gesetze und Vorschriften, einschließlich Abschnitt 1502 des Dodd-Frank Act. Unser Unternehmen arbeitet nach einem strengen Ethikkodex und verpflichtet sich, nur mit Lieferanten zusammenzuarbeiten, die unser Engagement für eine verantwortungsvolle Beschaffung teilen. Wir unterstützen die Initiativen und Programme zur Förderung "konfliktfreier" Lieferketten und arbeiten sorgfältig daran, dass unsere Produkte diese Standards erfüllen.

Heeger Materials Inc. wurde 2016 in Colorado, USA, gegründet und ist ein spezialisierter Lieferant und Hersteller von Wolfram und Wolframlegierungen. Mit umfangreichem Fachwissen im Bereich Lieferung und Export bieten wir wettbewerbsfähige Preise und maßgeschneiderte Lösungen, die auf spezifische Anforderungen zugeschnitten sind und hervorragende Qualität und Kundenzufriedenheit gewährleisten. Als professioneller Anbieter von Refraktärmetallen, Speziallegierungen, kugelförmigen Pulvern und verschiedenen hochentwickelten Werkstoffen bedienen wir den Bedarf von Wissenschaft und Industrie in den Bereichen Forschung, Entwicklung und industrielle Großproduktion.

Anfrage-Formular

Andere Wolframprodukte

Heeger Metal bietet eine breite Palette von Erzeugnisse aus Wolfram und Wolframlegierungenvon Pulvern bis hin zu fertigen Komponenten, wobei kundenspezifische Anpassungen möglich sind. Diese Werkstoffe sind für ihre hervorragende Festigkeit, ihren hohen Schmelzpunkt und ihre ausgezeichnete Verschleiß- und Korrosionsbeständigkeit bekannt und eignen sich ideal für die Luft- und Raumfahrt, die Elektronik und industrielle Anwendungen. Unser hochreines Wolfram sorgt für außergewöhnliche Haltbarkeit und Leistung selbst unter extremsten Bedingungen.

Sputtering Targets Produkte

Heeger Metal bietet eine große Auswahl an Hochleistungs-Sputtertargets aus Materialien wie Titan, Kupfer, Aluminium und Seltenerdmetallen. Unsere kundenspezifischen Sputtertargets sind präzisionsgefertigt, um den Anforderungen von Branchen wie der Halbleiterherstellung, Photovoltaik und Elektronik gerecht zu werden. Dank ihrer überragenden Reinheit und Konsistenz bieten unsere Sputtertargets eine außergewöhnliche Leistung bei der Schichtabscheidung und sind damit ideal für die Dünnfilmbeschichtung, das Sputtern und PVD-Anwendungen (Physical Vapor Deposition).

Scheibenprodukte

Heeger Metal bietet eine breite Palette von Metall- und Legierungsscheiben an. Unsere präzisionsgefertigten Scheiben sind ideal für Anwendungen in der Luft- und Raumfahrt, der Elektronik und der Industrie und bieten eine hervorragende Festigkeit, Haltbarkeit und Wärmeleitfähigkeit. Ganz gleich, ob Sie kundenspezifische Metallscheiben oder Standardscheiben aus Metalllegierungen benötigen, unsere Produkte gewährleisten hohe Leistung und außergewöhnliche Qualität.

Verwandte Produkte