Sauerstoffarmes Tantal-Pulver

Sauerstoffarmes Tantalpulver HM

Sauerstoffarmes Tantal-Pulver

Reinheit: ≥99.95%

Partikelgröße: -100 Mesh, -200 Mesh, -300 Mesh, -500 Mesh, oder kundenspezifisch

  • Kundenspezifische Größen und Standardgrößen auf Lager
  • Schnelle Vorlaufzeit
  • Konkurrenzfähiger Preis

Sauerstoffarmes Tantalpulver ist ein hochwertiges Material mit einem Reinheitsgrad von ≥99,95% (Sauerstoffgehalt von nur 200ppm) und einer Partikelgröße von -500 Mesh bis -100 Mesh (je nach spezifischen Anforderungen). Als führender Anbieter und Hersteller von hochwertigen Tantalprodukten nutzt Heeger Metal fortschrittliche Technologien, um sauerstoffarmes Tantalpulver für verschiedene Anwendungen zu liefern.

Oder senden Sie uns eine E-Mail an sales@heegermaterials.com.

Datenblatt sauerstoffarmes Tantal-Pulver

Reinheit: ≥99.95%
Partikelgröße: -100 Maschen, -200 Maschen, -300 Maschen, -500 Maschen oder kundenspezifisch
Morphologie: Unregelmäßig oder kugelförmig

Sauerstoffarmes Tantal-Pulver

Tantalpulver mit niedrigem Sauerstoffgehalt hat eine ultrahohe Reinheit ≥99,95% und einen extrem niedrigen Sauerstoffgehalt (bis zu 200ppm). Es bietet eine hervorragende Korrosionsbeständigkeit, Hochtemperaturleistung und elektrische Leitfähigkeit. Es findet breite Anwendung bei der Herstellung von hochleistungsfähigen Tantalkondensatoren und korrosionsbeständigen Hochtemperaturkomponenten. Um den unterschiedlichen Anwendungsanforderungen gerecht zu werden, haben wir außerdem eine umfassende Palette von Hochleistungspulverprodukten entwickelt, darunter hochreines Tantalpulver, sauerstoffarmes Niobiumpulver (Sauerstoffgehalt von bis zu 400ppm), Tantal-Wolfram-Legierungspulver, C103 Niob-Legierungspulver, Nb521-Niob-Legierungspulver, etc. HM kann qualitativ hochwertiges, sauerstoffarmes Tantalpulver in verschiedenen Partikelgrößen anbieten, die auf die spezifischen Anforderungen der verschiedenen Anwendungen zugeschnitten sind.

Sauerstoffarmes Tantalpulver Spezifikationen

Kategorie Sauerstoffarmes Tantal-Pulver
Klasse FTD-01 FTD-02 FTD-03 FTD-04
Gehalt an Verunreinigungen (≤%) Nb 0.0060 0.0060 0.0060 0.0060
O 0.0200 0.0300 0.0400 0.0500
N 0.0050 0.0050 0.0050 0.0050
C 0.0050 0.0050 0.0050 0.0050
Fe 0.0030 0.0030 0.0030 0.0030
Si 0.0020 0.0020 0.0020 0.0020
Ni 0.0020 0.0020 0.0020 0.0020
Cr 0.0020 0.0020 0.0020 0.0020
W 0.0020 0.0020 0.0020 0.0020
Mo 0.0010 0.0010 0.0010 0.0010
Ti 0.0005 0.0005 0.0005 0.0005
Mn 0.0005 0.0005 0.0005 0.0005
Cu 0.0005 0.0005 0.0005 0.0005
Al 0.0005 0.0005 0.0005 0.0005
Screening -100 Maschen -200 Maschen -300 Maschen -500 Maschen
Übergroßes Material ist kleiner als 5%.

Sauerstoffarmes Tantalpulver Anwendungen

  • Elektronik: Tantalpulver mit niedrigem Sauerstoffgehalt wird hauptsächlich zur Herstellung von Hochleistungskondensatoren aus Tantal verwendet, insbesondere in elektronischen Geräten, die eine höhere Stabilität und eine längere Lebensdauer erfordern. Der niedrige Sauerstoffgehalt trägt zur Verbesserung der Leistung und Haltbarkeit der Kondensatoren bei.
  • Luft- und Raumfahrt: In der Luft- und Raumfahrtindustrie wird sauerstoffarmes Tantalpulver zur Herstellung von Hochtemperaturlegierungen und hitzebeständigen Bauteilen verwendet, um die langfristige Stabilität und Zuverlässigkeit von Luft- und Raumfahrtteilen bei extrem hohen Temperaturen zu gewährleisten.
  • Chemische Industrie: Tantalpulver mit niedrigem Sauerstoffgehalt wird zur Herstellung von Schlüsselkomponenten in chemischen Anlagen wie Reaktoren, Pumpen und Rohrleitungen verwendet, insbesondere für den Einsatz in Hochtemperatur- und korrosiven Umgebungen.
  • 3D-Druck und medizinische Implantate: Sauerstoffarmes Tantalpulver wird im medizinischen Bereich zur Herstellung hochwertiger biokompatibler Implantate verwendet, insbesondere für orthopädische und zahnmedizinische Implantate, die eine ausgezeichnete Biokompatibilität aufweisen.
  • Präzisionsfertigung: Tantalpulver mit niedrigem Sauerstoffgehalt wird auch bei der Herstellung von Präzisionsbauteilen verwendet, insbesondere bei Spezialwerkstoffen, die eine hohe Festigkeit und Korrosionsbeständigkeit erfordern.

Verpackungen für sauerstoffarmes Tantal-Pulver

Die Produkte aus sauerstoffarmem Tantalpulver werden sorgfältig in Holzkisten oder Kartons verpackt, die zusätzlich durch weiche Materialien gestützt werden, um ein Verrutschen während des Transports zu verhindern. Diese Verpackungsmethode garantiert die Unversehrtheit der Produkte während des gesamten Lieferprozesses.

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Wir haben eine Vielzahl von Tantalprodukten auf Lager, für die im Allgemeinen keine Mindestbestellmenge erforderlich ist. Für kundenspezifische Bestellungen setzen wir jedoch in der Regel einen Mindestbestellwert von $200 fest. Die Vorlaufzeit für Lagerartikel beträgt in der Regel 1-2 Wochen, während kundenspezifische Aufträge in der Regel 3-4 Wochen dauern, je nach den Besonderheiten des Auftrags.

Bei der Einhaltung der DFARS (Defense Federal Acquisition Regulation Supplement) geht es in erster Linie um die Beschaffung von Materialien für verteidigungsrelevante Anwendungen in den Vereinigten Staaten. Gemäß DFARS müssen bestimmte Materialien, die im Verteidigungsbereich verwendet werden, aus den Vereinigten Staaten oder qualifizierten Ländern bezogen werden. Wenn Sie über bestimmte Nitinol-Legierungsmaterialien verfügen, die unter die DFARS fallen, teilen Sie uns dies bitte im Voraus mit, damit wir es bestätigen können.

Bei Heeger Metal nehmen wir diese Verantwortung ernst. Wir halten uns an alle geltenden Gesetze und Vorschriften, einschließlich Abschnitt 1502 des Dodd-Frank Act. Unser Unternehmen arbeitet nach einem strengen Ethikkodex und verpflichtet sich, nur mit Lieferanten zusammenzuarbeiten, die unser Engagement für eine verantwortungsvolle Beschaffung teilen. Wir unterstützen die Initiativen und Programme zur Förderung “konfliktfreier” Lieferketten und arbeiten sorgfältig daran, dass unsere Produkte diese Standards erfüllen.

Sauerstoffarmes Tantalpulver ist ein hochreines Tantalpulver mit kontrolliertem Sauerstoffgehalt (typischerweise <500ppm), das sich ideal für sauerstoffempfindliche Anwendungen wie Elektronik und additive Fertigung eignet.

Überschüssiger Sauerstoff erhöht den Leckstrom in Kondensatoren und die Sprödigkeit von Teilen aus additiver Fertigung (AM). Unser kontrollierter Sauerstoffgehalt verlängert die Lebensdauer der Produkte.

Heeger Metal wurde 2016 in Colorado, USA, gegründet und ist ein spezialisierter Anbieter und Hersteller von Tantal und Tantal-Legierungen. Mit umfangreichem Fachwissen im Bereich der Lieferung und des Exports bieten wir wettbewerbsfähige Preise und maßgeschneiderte Lösungen, die auf spezifische Anforderungen zugeschnitten sind und hervorragende Qualität und Kundenzufriedenheit gewährleisten. Als professioneller Anbieter von Refraktärmetallen, Speziallegierungen, kugelförmigen Pulvern und verschiedenen hochentwickelten Werkstoffen bedienen wir den Bedarf von Wissenschaft und Industrie in den Bereichen Forschung, Entwicklung und industrielle Großproduktion.

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Andere pulverförmige Produkte

Heeger Metal bietet ein umfassendes Sortiment an Metallpulvern, einschließlich sphärischer Pulver und Nanopulver. Unsere hochwertigen Metallpulver sind ideal für Anwendungen in den Bereichen 3D-Druck, Pulvermetallurgie, Elektronik und fortschrittliche Fertigung. Diese Pulver bieten eine hervorragende Konsistenz, Fließfähigkeit und Partikelgrößenverteilung und gewährleisten eine hervorragende Leistung in verschiedenen industriellen Prozessen. Ob Sie nun kundenspezifische Metallpulver oder Standardlegierungspulver benötigen, unsere Produkte erfüllen die höchsten Qualitätsstandards für Präzision und Zuverlässigkeit.

Andere Tantalprodukte

Heeger Metal bietet ein umfassendes Sortiment an Tantal und Tantallegierungen, die für ihre hervorragende Korrosionsbeständigkeit, ihren hohen Schmelzpunkt und ihre Stabilität in rauen Umgebungen bekannt sind. Diese Eigenschaften machen sie ideal für anspruchsvolle Anwendungen in der Luft- und Raumfahrt, in der Elektronik und in der chemischen Verarbeitungsindustrie. Unsere hochreinen Tantalwerkstoffe bieten außergewöhnliche Leistung und Zuverlässigkeit unter schwierigen Bedingungen.

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