Tantal Sputtering Target

Tantal Sputtering Target 2

Tantal Sputtering Target

Reinheit: 99,9%, 99,95%, 99,99%, 99,999%

Material: R05200, R05400

  • Kundenspezifische Größen und Standardgrößen auf Lager
  • Schnelle Vorlaufzeit
  • Konkurrenzfähiger Preis
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Tantal Sputtering Target wird aus hochreinem Tantalmaterial durch Druckverarbeitung hergestellt und bietet hohe chemische Reinheit, feine Korngröße, gute rekristallisierte Struktur und ausgezeichnete Konsistenz entlang aller drei Achsen. Als führender Anbieter und Hersteller von hochwertigen Tantalprodukten nutzt Heeger Materials fortschrittliche Bearbeitungszentren, um hochpräzise Tantal-Sputtering-Targets für eine Vielzahl von Anwendungen zu liefern.

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Oder senden Sie uns eine E-Mail an max@heegermaterials.com.

Datenblatt Tantal Sputtering Target

Referenz:HMST22
Abmessungen:Dicke: 0.125″-0.25″
Zirkulare Sputtering-Targets: 1.0″-21″ (Durchmesser), oder kundenspezifisch
Rechteckige Sputtering-Targets: 5″×12″, 5″×15″, 5″×20″, 5″×22″, 6″×20″, oder individuell
Material:R05200, R05400
Reinheit:99.9%, 99.95%, 99.99%, 99.999%
Formulare:Flache Zielscheibe, rotierende Zielscheibe oder benutzerdefinierte Formen
Bindung:Kleben oder Lösen von Verbindungen
  • Tantal-Sputtering-Target 7
  • Tantal-Sputtering-Target 5
  • Tantal-Sputtering-Target 6

Tantal (Ta) Spezifikationen

Tantal wird im Periodensystem als Übergangsmetall eingestuft und gilt als eines der hochschmelzenden Metalle mit hoher Korrosionsbeständigkeit. Aufgrund seiner hervorragenden Korrosionsbeständigkeit und thermischen Stabilität wird Tantal häufig in der Elektronik, der Luft- und Raumfahrt und der Chemietechnik verwendet, insbesondere bei der Herstellung von elektronischen Bauteilen, chemischen Reaktoren und Halbleitern.

Material TypTantalWärmeausdehnungskoeffizient6,3 x 10-6/K
SymbolTaTheoretische Dichte (g/cc)16.6
Atomares Gewicht180.94788Z-Verhältnis0.262
Ordnungszahl73SputterDC
Farbe/ErscheinungsbildGraublau, MetallicMaximale Leistungsdichte (Watt/Quadratzoll)50*
Wärmeleitfähigkeit57 W/m.KArt der AnleiheIndium, Elastomer
Schmelzpunkt (°C)3,017KommentareBildet gute Filme.

Tantal Sputtering Target Lager Abmessungen

Tantal-Sputter-Targets werden mit präzisen Toleranzen hergestellt, um spezifische Anwendungsanforderungen zu erfüllen. HM bietet auch Klebedienstleistungen an und ist in der Lage, Abmessungen und Formen auf der Grundlage von Kundenspezifikationen anzupassen. Die üblichen Abmessungen sind wie folgt:

Zirkulare Sputtering-TargetsDurchmesser1.0"
2.0"
3.0"
4.0"
5.0"
6.0"
bis zu 21"
Rechteckige Sputtering-TargetsBreite x Länge5" x 12"
5" x 15"
5" x 20"
5" x 22"
6" x 20"
Dicke0.125", 0.25"

Tantal Sputtering Target Material Chemische Zusammensetzung

ElementR05200 (%,Max)R05400 (%,Max)
C0.010.01
O0.0150.03
N0.010.01
H0.00150.0015
Fe0.010.01
Mo0.020.02
Nb0.10.1
Ni0.010.01
Si0.0050.005
Ti0.010.01
W0.050.05

Herstellungsverfahren für Tantal-Sputter-Targets

Das Herstellungsverfahren umfasst das Sintern von hochreinem Tantal-Pulver zu Blöcken und schmelzen diese mittels eines Hochvakuum-Elektronenstrahls zu Ingots. Diese Blöcke werden wiederholt plastisch verformt und geglüht, um Targetrohlinge mit gleichmäßiger Kornstruktur zu erzeugen, die dann auf Rückplatten geschweißt und zum Endprodukt für die Halbleiterzerstäubung bearbeitet werden. Hier ist der typische Produktionsprozess dargestellt:

  • Sintern
  • Vakuum-Elektronenstrahlschmelzen
  • Plastische Verformung
  • Glühen
  • Metallographische Inspektion
  • Bearbeitung
  • Prüfung der Abmessungen
  • Reinigung
  • Abschließende Inspektion

Tantal Sputtering Target Anwendungen

Das Tantal-Sputter-Target, das oft als Blank-Target bezeichnet wird, wird zunächst auf eine Kupferplatte gelötet. Es wird dann in Halbleiter- oder optischen Sputterverfahren verwendet, bei denen Tantalatome als Oxide auf einem Substrat abgeschieden werden, um eine Sputterschicht zu bilden. Zu den wichtigsten Anwendungen gehören:

  • Elektronik und Halbleiter: Tantal-Targets werden häufig als Sperrschichten bei der Herstellung integrierter Schaltkreise (IC) verwendet, insbesondere in der Kupferverbindungstechnik. Der hohe Schmelzpunkt und der geringe Widerstand von Tantal machen es zu einer idealen Wahl für diese Anwendungen.

  • Korrosionsschutzbeschichtungen: Aufgrund seiner außergewöhnlichen Korrosionsbeständigkeit wird Tantal häufig zur Beschichtung von chemischen Anlagen und Metalloberflächen verwendet, die rauen Umgebungen ausgesetzt sind, und trägt so zur Verlängerung der Lebensdauer dieser Materialien bei.

  • Dünne Schichten für Optik und Photonik: Tantal-Targets werden verwendet, um dünne Schichten mit spezifischen optischen Eigenschaften für den Einsatz in verschiedenen optischen Geräten, Displays und Sensoren herzustellen.

  • Medizinische Geräte: Aufgrund seiner hervorragenden Biokompatibilität wird Tantal zur Beschichtung medizinischer Implantate wie Knochenplatten und Gelenkprothesen verwendet, wodurch das Risiko einer Abstoßung durch den Körper verringert wird.

Tantal und Tantal-Legierung

  • R05200, unlegiertes Tantal, Elektronenstrahl-Ofen-Vakuum-Lichtbogen-Schmelze, oder beides
  • R05400, unlegiertes Tantal, pulvermetallurgische Verfestigung.
  • R05255, Tantal-Legierung, 90 % Tantal, 10 % Wolfram, Elektronenstrahl-Ofen oder Vakuum-Lichtbogen-Schmelze, oder beides.
  • R05252, Tantal-Legierung, 97,5 % Tantal, 2,5 % Wolfram, Elektronenstrahl-Ofen oder Vakuum-Lichtbogen-Schmelze, oder beides.
  • R05240, Tantal-Legierung, 60 % Tantal, 40 % Niob, Elektronenstrahlofen oder Vakuum-Lichtbogenschmelze.

Tantal Sputtering Target Verpackung

Das Tantal-Sputtering-Target wird sorgfältig in Holzkisten oder Kartons verpackt, die zusätzlich mit weichen Materialien gestützt werden, um ein Verrutschen während des Transports zu verhindern. Diese Verpackungsmethode garantiert die Unversehrtheit der Produkte während des gesamten Lieferprozesses.

Metall-Verpackung

Tantal-Eigenschaften

ArtikelWert
Ordnungszahl73
KristallstrukturKörperzentriert kubisch
Elektronische StrukturXe 4f¹⁴ 5d³ 6s²
Gezeigte Valenzen2,3,4,5
Atomgewicht (amu)180.9479
Thermischer Neutronenabsorptionsquerschnitt (Barns)22
Photoelektrische Arbeitsfunktion( eV )4.1
Natürliche Isotopenverteilung (Massen-Nr./%)180/ 0.012
Natürliche Isotopenverteilung (Massen-Nr./%)181/ 99.988
Atomradius - Goldschmidt( nm )0.147
Ionisierungspotential (Nr./eV)1/ 7.88
Ionisierungspotential (Nr./eV)2/ 16.2
ArtikelWert
Materieller ZustandUngeglüht (hart)
Materieller ZustandGeglüht (weich)
Poissonsche Zahl0.342
Poissonsche Zahl0.342
Elastizitätsmodul (GPa)196.3
Elastizitätsmodul (GPa)196.3
Zugspannungsmodul( GPa )185.7
Zugspannungsmodul( GPa )185.7
Härte - Vickers( kgf mm-² )200
Härte - Vickers( kgf mm-² )90
Zugfestigkeit( MPa )760
Zugfestigkeit( MPa )172-207
Streckgrenze( MPa )705
Streckgrenze( MPa )310-380
ArtikelWert
Elektrischer Widerstand (µOhmcm)13.5@20@20°C
Kritische Temperatur der Supraleitung( K )4.47
Temperaturkoeffizient( K-¹ )0.0035@0-100°C
Thermospannung gegen Pt (kalt 0C - heiß 100C)( mV )0.33
ArtikelWert
Siedepunkt( °C )5425
Dichte( gcm-³ )16.6@20°C
ElementWert
Schmelzpunkt( °C )2996
Latente Verdampfungswärme ( J g-¹ )4165
Latente Schmelzwärme ( J g-¹ )174
Spezifische Wärme( J K-¹ kg-¹ )140@25°C
Wärmeleitfähigkeit( W m-¹ K-¹ )57.5@0-100
Wärmeausdehnungskoeffizient( x10-⁶ K-¹ )6.5@0-100°C

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Wir werden das prüfen und uns innerhalb von 24 Stunden bei Ihnen melden.

Um Ihr Tantal-Sputtering-Target zu individualisieren, geben Sie bitte die folgenden Details an:

  1. Durchmesser (für die kreisförmigen Sputtertargets)
  2. Breite × Länge (für die rechteckigen Sputtertargets)
  3. Dicke (für die Sputtertargets)
  4. Reinheit des Materials
  5. Gegenhalteplatte (Falls eine Verklebung erforderlich ist, geben Sie bitte das Material und die Abmessungen der Trägerplatte an.）
  6. Menge der von Ihnen benötigten Produkte
  7. Alternativ können Sie auch eine Zeichnung mit Ihren Spezifikationen.

Sobald wir diese Angaben haben, können wir Ihnen innerhalb von 24 Stunden ein Angebot unterbreiten.

Wir haben eine Vielzahl von Tantal- und Tantallegierungsprodukten auf Lager, für die in der Regel keine Mindestbestellmenge erforderlich ist. Für kundenspezifische Aufträge setzen wir jedoch in der Regel einen Mindestbestellwert von $200 fest. Die Vorlaufzeit für Lagerartikel beträgt in der Regel 1-2 Wochen, während Sonderanfertigungen in der Regel 3-4 Wochen dauern, je nach den Besonderheiten des Auftrags.

Bei der Einhaltung der DFARS (Defense Federal Acquisition Regulation Supplement) geht es in erster Linie um die Beschaffung von Materialien für verteidigungsrelevante Anwendungen in den Vereinigten Staaten. Gemäß DFARS müssen bestimmte Materialien, die im Verteidigungsbereich verwendet werden, aus den Vereinigten Staaten oder qualifizierten Ländern bezogen werden.

Wenn Sie bestimmte Tantalmaterialien haben, die den DFARS unterliegen, teilen Sie uns dies bitte im Voraus mit, damit wir es bestätigen können.

Bei Heeger Materials Inc. nehmen wir diese Verantwortung ernst. Wir halten uns an alle geltenden Gesetze und Vorschriften, einschließlich Abschnitt 1502 des Dodd-Frank Act. Unser Unternehmen arbeitet nach einem strengen Ethikkodex und verpflichtet sich, nur mit Lieferanten zusammenzuarbeiten, die unser Engagement für eine verantwortungsvolle Beschaffung teilen. Wir unterstützen die Initiativen und Programme zur Förderung "konfliktfreier" Lieferketten und arbeiten sorgfältig daran, dass unsere Produkte diese Standards erfüllen.

Heeger Materials Inc. wurde 2016 in Colorado, USA, gegründet und ist ein spezialisierter Lieferant und Hersteller von Tantal und Tantal-Legierungen. Mit umfangreichem Fachwissen im Bereich der Lieferung und des Exports bieten wir wettbewerbsfähige Preise und maßgeschneiderte Lösungen, die auf spezifische Anforderungen zugeschnitten sind und hervorragende Qualität und Kundenzufriedenheit gewährleisten. Als professioneller Anbieter von Refraktärmetallen, Speziallegierungen, kugelförmigen Pulvern und verschiedenen hochentwickelten Werkstoffen bedienen wir den Bedarf von Wissenschaft und Industrie in den Bereichen Forschung, Entwicklung und industrielle Großproduktion.

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Heeger Metal bietet eine umfassende Palette von Erzeugnisse aus Tantal und TantallegierungenSie sind bekannt für ihre hervorragende Korrosionsbeständigkeit, ihren hohen Schmelzpunkt und ihre Stabilität in rauen Umgebungen. Diese Eigenschaften machen sie ideal für anspruchsvolle Anwendungen in der Luft- und Raumfahrt, der Elektronik und der chemischen Industrie. Unser hochreine Tantalwerkstoffe bieten außergewöhnliche Leistung und Zuverlässigkeit unter schwierigen Bedingungen.

Sputtering Targets Produkte

Heeger Metal bietet eine große Auswahl an Hochleistungs-Sputtertargets aus Materialien wie Titan, Kupfer, Aluminium und Seltenerdmetallen. Unsere kundenspezifischen Sputtertargets sind präzisionsgefertigt, um den Anforderungen von Branchen wie der Halbleiterherstellung, Photovoltaik und Elektronik gerecht zu werden. Dank ihrer überragenden Reinheit und Konsistenz bieten unsere Sputtertargets eine außergewöhnliche Leistung bei der Schichtabscheidung und sind damit ideal für die Dünnfilmbeschichtung, das Sputtern und PVD-Anwendungen (Physical Vapor Deposition).

Scheibenprodukte

Heeger Metal bietet eine breite Palette von Metall- und Legierungsscheiben an. Unsere präzisionsgefertigten Scheiben sind ideal für Anwendungen in der Luft- und Raumfahrt, der Elektronik und der Industrie und bieten eine hervorragende Festigkeit, Haltbarkeit und Wärmeleitfähigkeit. Ganz gleich, ob Sie kundenspezifische Metallscheiben oder Standardscheiben aus Metalllegierungen benötigen, unsere Produkte gewährleisten hohe Leistung und außergewöhnliche Qualität.

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