Zirkonium Sputtering Target

Zirkonium Sputtering Target

Zirkonium Sputtering Target

Material: Zr702, Zr704, Zr705

Reinheit: 99.95%-99.99%

  • Kundenspezifische Größen und Standardgrößen auf Lager
  • Schnelle Vorlaufzeit
  • Konkurrenzfähiger Preis
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Zirkonium-Sputter-Targets werden aus hochleistungsfähigem Zirkonium-Metall oder -Legierungen in einer Vielzahl von Spezifikationen hergestellt und finden breite Anwendung in der Halbleiterindustrie, der chemischen Gasphasenabscheidung (CVD), der physikalischen Gasphasenabscheidung (PVD) und in optischen Anwendungen. Als führender Anbieter und Hersteller von hochwertigen Zirkoniumprodukten nutzt Heeger Materials fortschrittliche Technologien, um hochpräzise Zirkonium-Sputtertargets für eine Vielzahl von Anwendungen zu liefern.

Oder senden Sie uns eine E-Mail an max@heegermaterials.com.

Datenblatt Zirkonium Sputtering Target

Referenz:HMST28
Material:Zr702, Zr704, Zr705
Reinheit:99.5%-99.99%
Die Form:Flach, rotierend oder kundenspezifisch
Bindung:Unbonding oder Bonding

Zirkonium Sputtering Target

Zirkonium (Zr) Sputtering Target wird aufgrund seines hohen Schmelzpunkts, seiner ausgezeichneten chemischen Stabilität und seiner hervorragenden Korrosionsbeständigkeit häufig für die Dünnschichtabscheidung verwendet. HM kann hochwertige Zirkonium-Sputter-Targets in verschiedenen Spezifikationen mit unterschiedlicher Reinheit, Größe und Dichte liefern.

Zirkonium Sputtering Target Materialzusammensetzung

MaterialChemische Zusammensetzung
Zr+HfSnFeCrNiHfNb
Zr 702~99.5%/<0,05%<0,05%/1~2.5%/
Zr 704~97.5%1~2%0.1~0.2%0.1~0.2%/<4.5%/
Zr 705~95.5%1~2%<0,05%<0,01%/<4.5%2~3%
Zircaloy-2~98%1.2~1.7%0.07~0.2%0.05~0.15%0.03~0.08%<200ppm
(für die Atomindustrie)
/
Zircaloy-4~98%1.2~1.7%0.07~0.2%0.05~0.15%<0,007%<200ppm
(für die Atomindustrie)
/

Spezifikationen für Zirkonium-Sputtering-Targets

Material TypZirkoniumTheoretische Dichte (g/cc)6.49
SymbolZrZ-Verhältnis0.6
Atomares Gewicht91.224SputterDC
Ordnungszahl40Maximale Leistungsdichte
(Watt/Quadratzoll)
50*
Farbe/ErscheinungsbildSilberweiß, Metallisch
Wärmeleitfähigkeit22,7 W/m.KArt der AnleiheIndium, Elastomer
Schmelzpunkt (°C)1,852KommentareLegierungen mit W. Filme oxidieren leicht.
Wärmeausdehnungskoeffizient5,7 x 10-6/K 

Zirkonium Sputtering Target Stock Abmessungen

Zirkulare Sputtering-TargetsDurchmesser1.0"
2.0"
3.0"
4.0"
5.0"
6.0"
bis zu 21"
Rechteckige Sputtering-TargetsBreite x Länge5" x 12"
5" x 15"
5" x 20"
5" x 22"
6" x 20"
Dicke0.125", 0.25"

Vorteile des Zirkonium Sputtering Targets

  • Hoher Schmelzpunkt: Mit einem Schmelzpunkt von 1852°C verfügt Zirkonium über eine ausgezeichnete thermische Stabilität. In Hochtemperaturumgebungen sind Sputtertargets aus Zirkonium resistent gegen Schmelzen oder Verformung und gewährleisten eine reibungslose Dünnschichtabscheidung und andere Prozesse, was die Produktqualität und Prozessstabilität verbessert.
  • Chemische Beständigkeit: Sputtertargets aus Zirkonium sind sehr widerstandsfähig gegen die Erosion verschiedener Chemikalien und bieten eine außergewöhnliche Stabilität in anspruchsvollen Umgebungen.
  • Korrosionsbeständigkeit: Zirkonium weist eine hervorragende Korrosionsbeständigkeit in sauren und salzhaltigen Umgebungen auf, wodurch sich die Lebensdauer des Materials erheblich verlängert.
  • Dichte und Härte: Mit einer Dichte von etwa 6,51 g/cm³ bietet Zirkonium eine ausgezeichnete mechanische Stabilität. Es besitzt auch eine gute Härte, die es gegen Abrieb und mechanische Stöße widerstandsfähig macht.
  • Wärmeleitfähigkeit: Zirkonium hat eine hohe Wärmeleitfähigkeit von ca. 22 W/m-K, wodurch die Wärme während des Gebrauchs effizient abgeleitet wird, was zu einer besseren Leistung und Langlebigkeit beiträgt.

Verfahren zur Herstellung von Zirkoniumsputtertargets

Die Herstellung von Zirkonium-Sputter-Targets ist ein komplexer Prozess, der in jeder Phase eine strenge Kontrolle der Parameter und der Qualität erfordert, um eine optimale Leistung zu gewährleisten. Er umfasst hauptsächlich die folgenden Schritte:

  • Vorbereitung des Rohmaterials: Die Auswahl hochreiner Zirkoniummaterialien ist der erste Schritt zur Herstellung hochwertiger Zirkonium-Sputter-Targets.
  • Schmelzen: In einem Lichtbogen- oder Induktionsofen werden die Rohstoffe bei hohen Temperaturen geschmolzen, um metallisches Zirkonium herzustellen. Eine strenge Kontrolle der Ofentemperatur, der Atmosphäre und des Schutzgasstroms ist unerlässlich, um Oxidation und Verunreinigungen zu vermeiden und die Reinheit und Gleichmäßigkeit der Schmelze zu gewährleisten.
  • Gießen: Nach dem Schmelzen wird das Zirkoniummetall durch Formen in Barren gegossen. Der Gießprozess muss in einer hochreinen Inertgasumgebung durchgeführt werden, um Oxidation und Verunreinigungen zu vermeiden.
  • Rollender: Die Besetzung Zirkoniumbarren wird gewalzt, um die gewünschte Dicke und Form zu erreichen. Wiederholtes Erhitzen und Abkühlen verbessert die Dichte und Gleichmäßigkeit des Materials, während die präzise Steuerung von Temperatur und Walzkraft Fehler wie Risse und Verformungen verhindert.
  • Oberflächenbehandlung: Zirkonium-Sputter-Targets werden einer Oberflächenbehandlung unterzogen, um Oxidschichten und Verunreinigungen zu entfernen. Dabei kommen Methoden wie das chemische Polieren, bei dem Verunreinigungen durch chemische Reaktionen entfernt werden, und das mechanische Polieren zum Einsatz, bei dem die Oberflächengüte und Ebenheit durch Schleifmittel verbessert wird.
  • Qualitätskontrolle: Hochentwickelte Prüfgeräte und -techniken bewerten die Reinheit, Zusammensetzung, Dichte, Gleichmäßigkeit, das Aussehen und die Maßhaltigkeit des Zielmaterials, um sicherzustellen, dass es den Produktionsstandards und Kundenanforderungen entspricht.

Zirkonium Sputtering Target Anwendungen

  • Mikroelektronik und Halbleiterherstellung: Durch Magnetronsputtern abgeschiedene Zirkoniumschichten werden in Halbleiterbauelementen verwendet, um die Leistung und Stabilität zu verbessern und beispielsweise den Leckstrom in Hochfrequenz- und Hochleistungsbauelementen zu verringern.
  • Bereich Optik und Photovoltaik: Zirkoniumschichten, die durch Magnetronsputtern abgeschieden werden, verbessern die Antireflexionseigenschaften und die Lichtdurchlässigkeit in optischen Geräten, wodurch die Abbildungsqualität verbessert wird. Photovoltaische Geräte wie Solarzellen steigern den Umwandlungswirkungsgrad und gewährleisten eine genaue Lichterkennung unter verschiedenen Bedingungen.
  • Harte Beschichtungen: Dünne Zirkoniumschichten auf Werkzeugen und mechanischen Teilen verbessern die Verschleiß- und Korrosionsbeständigkeit, erhöhen die Leistung und verlängern die Lebensdauer in verschleißintensiven Bereichen wie Schneidwerkzeugen, Bohrern und Pumpen. Dies reduziert die Wartung, senkt die Kosten und erhöht die Haltbarkeit und Zuverlässigkeit.
  • Dekorative Beschichtungen: Zirkoniumdünnschichten, die in verschiedenen Farben und Glanzgraden erhältlich sind, werden für die Oberflächendekoration in der Architektur, bei Möbeln und in der Elektronik verwendet. Sie verbessern die Ästhetik und bieten gleichzeitig zusätzlichen Schutz vor Verschleiß und Korrosion auf Oberflächen wie Glas, Paneelen und Elektronik.

Zirkonium Sputtering Target Verpackung

Das Zirkonium-Sputtering-Target wird sorgfältig in Holzkisten oder Kartons verpackt, die zusätzlich mit weichen Materialien gestützt werden, um ein Verrutschen während des Transports zu verhindern. Diese Verpackungsmethode garantiert die Unversehrtheit der Produkte während des gesamten Liefervorgangs.

Metall-Verpackung

Eigenschaften von Zirkonium

ArtikelWert
Ordnungszahl40
KristallstrukturSechseckig dicht gepackt
Elektronische StrukturKr 4d² 5s²
Gezeigte Valenzen2,3,4
Atomgewicht (amu)91.22
Thermischer Neutronenabsorptionsquerschnitt (Barns)0.182
Photoelektrische Arbeitsfunktion( eV )3.8
Natürliche Isotopenverteilung (Massen-Nr./%)96/ 2.8
Natürliche Isotopenverteilung (Massen-Nr./%)92/ 17.1
Natürliche Isotopenverteilung (Massen-Nr./%)91/ 11.2
Natürliche Isotopenverteilung (Massen-Nr./%)94/ 17.5
Natürliche Isotopenverteilung (Massen-Nr./%)90/ 51.4
Atomradius - Goldschmidt( nm )0.16
Ionisierungspotential (Nr./eV)4/ 34.34
Ionisierungspotential (Nr./eV)Jun-99
Ionisierungspotential (Nr./eV)2/ 13.13
Ionisierungspotential (Nr./eV)1/ 6.84
Ionisierungspotential (Nr./eV)5/ 81.5
Ionisierungspotential (Nr./eV)3/ 22.99
ArtikelWert
Materieller ZustandPolykristallin
Materieller ZustandWeich
Poissonsche Zahl0.38
Poissonsche Zahl0.38
Elastizitätsmodul (GPa)89.8
Elastizitätsmodul (GPa)89.8
Zugspannungsmodul( GPa )98
Zugspannungsmodul( GPa )98
Härte - Vickers( kgf mm-² )85-100
Zugfestigkeit( MPa )350-390
Streckgrenze( MPa )250-310
ArtikelWert
Elektrischer Widerstand (µOhmcm)44@20@20°C
Kritische Temperatur der Supraleitung( K )0.61
Temperaturkoeffizient( K-¹ )0.0044@0-100°C
Thermospannung gegen Pt (kalt 0C - heiß 100C)( mV )1.17
ArtikelWert
Siedepunkt( °C )4377
Dichte( gcm-³ )6.49@20°C
ElementWert
Schmelzpunkt( °C )1852
Latente Verdampfungswärme ( J g-¹ )6360
Latente Schmelzwärme ( J g-¹ )211
Spezifische Wärme( J K-¹ kg-¹ )281@25°C
Wärmeleitfähigkeit( W m-¹ K-¹ )22.7@0-100°C
Wärmeausdehnungskoeffizient( x10-⁶ K-¹ )5.9@0-100°C

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Wir werden das prüfen und uns innerhalb von 24 Stunden bei Ihnen melden.

Um Ihr Zirkonium-Sputtering-Target individuell zu gestalten, geben Sie bitte die folgenden Details an:

  1. Durchmesser (für die kreisförmigen Sputtertargets)
  2. Breite × Länge (für die rechteckigen Sputtertargets)
  3. Dicke (für die Sputtertargets)
  4. Reinheit des Materials
  5. Gegenhalteplatte (Falls eine Verklebung erforderlich ist, geben Sie bitte das Material und die Abmessungen der Trägerplatte an.)
  6. Menge der von Ihnen benötigten Produkte
  7. Alternativ können Sie auch eine Zeichnung mit Ihren Spezifikationen.

Sobald wir diese Angaben haben, können wir Ihnen innerhalb von 24 Stunden ein Angebot unterbreiten.

Wir haben eine Vielzahl von Produkten aus Zirkonium und Zirkoniumlegierungen auf Lager, für die im Allgemeinen keine Mindestbestellmenge erforderlich ist. Für kundenspezifische Aufträge setzen wir jedoch in der Regel einen Mindestbestellwert von $200 fest. Die Vorlaufzeit für Lagerartikel beträgt in der Regel 1-2 Wochen, während Sonderanfertigungen in der Regel 3-4 Wochen dauern, je nach den Besonderheiten des Auftrags.

Bei der Einhaltung der DFARS (Defense Federal Acquisition Regulation Supplement) geht es in erster Linie um die Beschaffung von Materialien für verteidigungsrelevante Anwendungen in den Vereinigten Staaten. Gemäß DFARS müssen bestimmte Materialien, die im Verteidigungsbereich verwendet werden, aus den Vereinigten Staaten oder qualifizierten Ländern bezogen werden.

Wenn Sie bestimmte Molybdän-Materialien haben, die unter die DFARS fallen, teilen Sie uns dies bitte im Voraus mit, damit wir es bestätigen können.

Bei Heeger Materials Inc. nehmen wir diese Verantwortung ernst. Wir halten uns an alle geltenden Gesetze und Vorschriften, einschließlich Abschnitt 1502 des Dodd-Frank Act. Unser Unternehmen arbeitet nach einem strengen Ethikkodex und verpflichtet sich, nur mit Lieferanten zusammenzuarbeiten, die unser Engagement für eine verantwortungsvolle Beschaffung teilen. Wir unterstützen die Initiativen und Programme zur Förderung "konfliktfreier" Lieferketten und arbeiten sorgfältig daran, dass unsere Produkte diese Standards erfüllen.

Heeger Materials Inc. wurde 2016 in Colorado, USA, gegründet und ist ein spezialisierter Lieferant und Hersteller von Tantal und Tantal-Legierungen. Dank unserer umfassenden Erfahrung im Bereich der Lieferung und des Exports bieten wir wettbewerbsfähige Preise und maßgeschneiderte Lösungen für spezifische Anforderungen, die hervorragende Qualität und Kundenzufriedenheit gewährleisten. Als professioneller Anbieter von Refraktärmetallen, Speziallegierungen, kugelförmigen Pulvern und verschiedenen fortschrittlichen Werkstoffen bedienen wir den Bedarf von Wissenschaft und Industrie in den Bereichen Forschung, Entwicklung und industrielle Großproduktion.

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Sputtering Targets Produkte

Heeger Metal bietet eine große Auswahl an Hochleistungs-Sputtertargets aus Materialien wie Titan, Kupfer, Aluminium und Seltenerdmetallen. Unsere kundenspezifischen Sputtertargets sind präzisionsgefertigt, um den Anforderungen von Branchen wie der Halbleiterherstellung, Photovoltaik und Elektronik gerecht zu werden. Dank ihrer überragenden Reinheit und Konsistenz bieten unsere Sputtertargets eine außergewöhnliche Leistung bei der Schichtabscheidung und sind damit ideal für die Dünnfilmbeschichtung, das Sputtern und PVD-Anwendungen (Physical Vapor Deposition).

Andere Zirkonium/Hafnium-Produkte

Heeger Metal bietet eine große Auswahl an Zirkonium- und Hafniumprodukten, die für ihre hervorragende Korrosionsbeständigkeit, hohe Temperaturstabilität und bemerkenswerte Festigkeit in extremen Umgebungen bekannt sind. Diese Eigenschaften machen sie ideal für kritische Anwendungen in Branchen wie der Luft- und Raumfahrt, der Kernkraft und der chemischen Verarbeitung. Unsere hochreinen Zirkonium- und Hafniumwerkstoffe gewährleisten selbst unter schwierigsten Bedingungen eine hervorragende Leistung und Haltbarkeit.

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