Cátodos para sputtering de niobio

Cátodos para sputtering de niobio

Niobium Sputterig Target

Purity: 99.5%-99.99%

Material: R04200, R04210

  • Tamaños personalizados y estándar en stock
  • Plazo de entrega rápido
  • Precio competitivo

Niobium Sputtering Target is made of high-purity niobium metal material, possessing small grain size. These properties enables the formation of uniform and dense films. As a leading supplier and manufacturer of premium niobium products, Heeger Materials leverages advanced machining centers to deliver high-precision niobium sputtering targets for wide ranges of applications.

O envíenos un correo electrónico a max@heegermaterials.com.

Niobium Sputtering Data Sheet

Referencia:HMST16
Material:R04200, R04210
Pureza:99.5%-99.99%
Densidad:8.57 g/cm3
Forma:Plano, giratorio o personalizado
Vinculación:Unbongidng or Bonding

Cátodos para sputtering de niobio

Niobio is a rare, silvery-gray transition metal with excellent corrosion resistance, electric conductivity, and high-temperature stability. Cátodos para sputtering de niobio can usually reach a purity of more than 99.95% and have a small grain size, which ensures the quality of the coating. Niobium Sputtering Target is commonly applied in semiconductor manufacturing, thin film coatings, electronic components, etc. HM can offer bonding services according to specific requirements.

Niobium Sputtering Target Material Chemical Composition

MaterialElemento principal (%)Impurezas (≤%)
NbFeSiNiWMoTiTaZrHfOCHN
RO4200Bal.0.00400.00400.00200.00500.00500.00200.07000.02000.02000.01500.00400.00150.0030
RO4210Bal.0.01000.01000.00500.02000.01000.00400.10000.02000.02000.02000.01000.00150.0100

Niobium Sputtering Target Specifications

Tipo de materialNiobioCoeficiente de dilatación térmica7.3 x 10-6/K
SímboloNbDensidad teórica (g/cc)8.57
Peso atómico92.90638Ratio Z0.492
Número atómico41Pulverización catódicaDC
Color/AparienciaGray, MetallicDensidad de potencia máxima (vatios/pulgada cuadrada)100*
Conductividad térmica54 W/m.KTipo de bonoIndio, elastómero
Punto de fusión (°C)2,468ComentariosAttacks W source.

Niobium Sputtering Target Stock Dimensions

Cátodos para sputtering circularDiámetro1.0″
2.0″
3.0″
4.0″
5.0″
6.0″
up to 21″
Cátodos rectangulares para sputteringAnchura x Longitud5″ x 12″
5””x 15″
5″ x 20″
5″ x 22″
6″ x 20″
Espesor0.125″, 0.25″

Niobium Sputtering Target Production Process

Generalmente preparado por el método pulvimetalúrgico, la pureza de niobium powder should be above 99.95%. The specific process is as follows:

  • Put the niobium powder in the vacuum heat treatment furnace for pre-gassing, then introduce hydrogen and continue heating for degassing.
  • The degassed niobium powder is sintered once by vacuum hot pressing.
  • El producto sinterizado primario pasa por una prensa isostática caliente para completar la sinterización secundaria.
  • Tras la sinterización secundaria, toda la superficie del producto se rectifica mediante mecanizado para obtener el producto final.

Niobium Sputtering Target Applications

  • Flat Panel Displays and Liquid Crystal Displays: Niobium sputtering targets are used to manufacture high-quality displays that provide clear images and high contrast.
  • Optical Lenses: In optical devices, niobium sputtering targets are used for coating to improve light transmission and durability.
  • Células solares: Niobium sputtering targets are also used to produce solar cells to improve photovoltaic conversion efficiency.
  • Glass Coating: Niobium sputtering targets are used in the surface coating of energy-saving glass with anti-reflective and heat-insulating properties.

Niobium Sputtering Target Packaging

The Niobium Sputtering Target is carefully placed in wooden cases or cartons with additional support from soft materials to prevent any shifting during transportation. This packaging method guarantees the integrity of the products throughout the delivery process.

Propiedades del niobio

ArtículoValor
Número atómico41
Estructura cristalinaCúbico centrado en el cuerpo
Estructura electrónicaKr 4d⁴ 5s¹
Valencias indicadas2, 3, 4, 5
Peso atómico( amu )92.9064
Sección transversal de absorción de neutrones térmicos( Barns )1.15
Función de trabajo fotoeléctrico( eV )4.3
Radio atómico - Goldschmidt( nm )0.147
Potencial de ionización( No./eV )3/ 25.0
Potencial de ionización( No./eV )2/ 14.3
Potencial de ionización( No./eV )6/ 103
Potencial de ionización( No./eV )1/ 6.88
Potencial de ionización( No./eV )4/ 38.3
Potencial de ionización( No./eV )5/ 50.5
ArtículoValor
Estado del material / TempleRecocido (blando)
Estado del material / TempleNo recocido (duro)
Relación de Poisson0.397
Relación de Poisson0.397
Módulo de masa ( GPa )170.3
Módulo de masa ( GPa )170.3
Módulo de tracción( GPa )104.9
Módulo de tracción( GPa )104.9
Tenacidad Izod( J m-¹ )10-120
Dureza - Vickers( kgf mm-² )115
Dureza - Vickers( kgf mm-² )160
Resistencia a la tracción( MPa )330
Resistencia a la tracción( MPa )585
Límite elástico( MPa )550
Límite elástico( MPa )240
ArtículoValor
Resistividad eléctrica( µOhmcm )16@20@20°C
Temperatura crítica de superconductividad( K )9.25
Coeficiente de temperatura( K-¹ )0.0026@0-100°C
ArtículoValor
Punto de ebullición( °C )4742
Densidad( gcm-³ )8.57@20°C
ArtículoValor
Punto de fusión( °C )2468
Calor latente de evaporación( J g-¹ )7360
Calor latente de fusión( J g-¹ )290
Calor específico( J K-¹ kg-¹ )268@25°C
Conductividad térmica( W m-¹ K-¹ )53.7@0-100°C
Coeficiente de dilatación térmica( x10-⁶ K-¹ )7.2@0-100°C

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Disponemos de una amplia variedad de productos de niobio y aleaciones de niobio en stock y, por lo general, no se requiere un pedido mínimo. Sin embargo, para los pedidos personalizados, solemos fijar un valor mínimo de pedido de $200. El plazo de entrega de los artículos en stock suele ser de 1 a 2 semanas, mientras que el de los pedidos personalizados suele ser de 3 a 4 semanas, dependiendo de las características específicas del pedido.

El cumplimiento del DFARS (Defense Federal Acquisition Regulation Supplement) se refiere principalmente al aprovisionamiento de materiales para aplicaciones relacionadas con la defensa en Estados Unidos. Según el DFARS, determinados materiales utilizados en defensa deben proceder de Estados Unidos o de países que cumplan los requisitos. Si tiene materiales de niobio específicos que estén sujetos al DFARS, háganoslo saber con antelación y se lo confirmaremos.

En Heeger Materials Inc. nos tomamos muy en serio esta responsabilidad. Nos adherimos a todas las leyes y reglamentos aplicables, incluida la Sección 1502 de la Ley Dodd-Frank. Nuestra empresa opera con un estricto código ético y se compromete a asociarse únicamente con proveedores que compartan nuestra dedicación al abastecimiento responsable. Apoyamos las iniciativas y programas destinados a promover cadenas de suministro “libres de conflictos” y trabajamos con diligencia para garantizar que nuestros productos cumplen estas normas.

Heeger Materials Inc, establecida en 2016 en Colorado, EE. UU., es un proveedor y fabricante especializado de tantalio y aleaciones de tántalo. Con una amplia experiencia en suministro y exportación, ofrecemos precios competitivos y soluciones personalizadas adaptadas a requisitos específicos, garantizando una calidad sobresaliente y la satisfacción del cliente. Como proveedor profesional de metales refractarios, aleaciones especiales, polvos esféricos y diversos materiales avanzados, atendemos las necesidades de investigación, desarrollo y producción industrial a gran escala de los sectores científico e industrial.

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Otros productos de niobio

Heeger Metal ofrece una amplia gama de productos de niobio y aleaciones de niobio, incluidos polvos y piezas acabadas, con opciones de personalización disponibles. Conocidos por su excepcional fuerza, resistencia a la corrosión y estabilidad a altas temperaturas, estos materiales son ideales para aplicaciones aeroespaciales, electrónicas y de procesamiento químico. Nuestro niobio de gran pureza garantiza un rendimiento y una durabilidad fiables en los entornos más exigentes.

Cátodos para sputtering Productos

Heeger Metal ofrece una amplia selección de cátodos para sputtering de alto rendimiento fabricados con materiales como titanio, cobre, aluminio y metales de tierras raras. Nuestros cátodos para sputtering personalizados están diseñados con precisión para satisfacer las demandas de industrias como la fabricación de semiconductores, la fotovoltaica y la electrónica. Con una pureza y consistencia superiores, nuestros cátodos para sputtering ofrecen un rendimiento excepcional en la deposición de películas, lo que los hace ideales para aplicaciones de recubrimiento de películas finas, sputtering y PVD (deposición física de vapor).

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