Blanco para sputtering de oro

Blanco para sputtering de oro

Blanco para sputtering de oro

Pureza: ≥99,95%, o personalizada

  • Tamaños personalizados y estándar en stock
  • Plazo de entrega rápido
  • Precio competitivo
Clasificación por estrellas 5
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Clasificación por estrellas 5
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Gold Sputtering Target is made of high-purity gold metal through precise techniques and is designed for thin-film deposition processes. It is available in various sizes and forms to suit different sputtering systems. As a leading supplier and manufacturer of premium gold products, Heeger Metal leverages advanced technology to deliver high-quality gold sputtering targets for various applications.

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O envíenos un correo electrónico a max@heegermaterials.com.

Gold Sputtering Target Data Sheet

Código de referencia:HTST288
CAS:7440-57-5
Pureza:≥99.95%, o personalizado
Densidad:19,283 g/cm3
Punto de fusión:1064℃
Punto de ebullición:2970℃
Forma:Disco, rectangular, tubo o personalizado
Boding:Vinculación o desvinculación

Gold Sputtering Target Description

El oro (Au) tiene una excelente conductividad, estabilidad química y maleabilidad, lo que lo hace muy valioso para diversas aplicaciones. Blanco para sputtering de oro is made of high-purity gold metal, designed for thin-film deposition processes. With its stable performance and consistent quality, our gold sputtering target ensures smooth, uniform coatings for solar cells, sensors, and precision instruments. Heeger Metal can supply high-quality gold sputtering targets in various specifications and customized solutions to suit industrial and research applications, ensuring optimal performance and cost-effectiveness.

  • Blanco para sputtering de oro

Gold Sputtering Target Specifications

SímboloAu
Peso atómico196.966569
Número atómico79
Color/AparienciaGold, Metallic
Conductividad térmica320 W/m.K
Punto de fusión (°C)1,064
Coeficiente de dilatación térmica14.2 x 10-6/K
Densidad teórica (g/cc)19.32
Ratio Z0.381
Pulverización catódicaDC
Densidad de potencia máxima
(vatios/pulgada cuadrada)		100*
Tipo de bonoIndio, elastómero
ComentariosFilms soft; not very adherent.

Gold Sputtering Target Stock Dimensions

Cátodos para sputtering circularDiámetro1.0″
2.0″
3.0″
4.0″
5.0″
6.0″
hasta 21″.
Cátodos rectangulares para sputteringAnchura x Longitud5″ x 12″
5""x 15″
5″ x 20″
5″ x 22″
6″ x 20″
Espesor0.125″, 0.25″

Gold Sputtering Target Applications

  • Industria de semiconductores: Gold sputtering targets are used to produce microelectronic components, including integrated circuits, sensors, and connectors, providing excellent conductivity and reliability.
  • Thin-Film Coatings: Commonly used in producing thin gold films for optical coatings, enhancing reflectivity and durability.
  • Células solares: Gold sputtering is employed in making thin-film solar cells to improve efficiency and performance.
  • Optical Devices: Used to create reflective coatings for optical lenses, mirrors, and other devices, ensuring high-quality light transmission and reflection.
  • Aplicaciones biomédicas: Gold sputtering targets are used in the manufacturing of bio-compatible coatings for medical devices, such as implants and sensors, due to their biocompatibility and non-reactivity.
  • Display Technology: Gold thin films are utilized in manufacturing advanced display technologies, including flat-panel displays and touch screens.
  • Sensores: Gold coatings are applied to sensors for their excellent conductive properties, ensuring high sensitivity and accuracy in applications such as gas sensors, biosensors, and chemical sensors.

Gold Sputtering Target Packaging

Gold Sputtering Target is carefully placed in wooden cases or cartons with additional soft materials to support and prevent shifting during transportation. This packaging method guarantees the integrity of the products throughout the delivery process.

Embalaje metálico

Propiedades de oro

ElementoValor
Número atómico79
Estructura cristalinaCúbico centrado en la cara
Estructura electrónicaXe 4f¹⁴ 5d¹⁰ 6s¹
Valencias indicadas1,3
Peso atómico( amu )196.9665
Sección transversal de absorción de neutrones térmicos( Barns )98.8
Función de trabajo fotoeléctrico( eV )4.8
Radio atómico - Goldschmidt( nm )0.144
Potencial de ionización( No./eV )1/ 9.22
Potencial de ionización( No./eV )2/ 20.5
ElementoValor
Estado del materialSuave
Estado del materialDuro
Relación de Poisson0.42
Relación de Poisson0.42
Módulo de masa ( GPa )171
Módulo de masa ( GPa )171
Módulo de tracción( GPa )78.5
Módulo de tracción( GPa )78.5
Dureza - Vickers( kgf mm-² )20-30
Dureza - Vickers( kgf mm-² )60
Resistencia a la tracción( MPa )130
Resistencia a la tracción( MPa )220
Límite elástico( MPa )205
Límite elástico( MPa )–
ElementoValor
Resistividad eléctrica( µOhmcm )2.20@20@20°C
Coeficiente de temperatura( K-¹ )0.004@0-100°C
Emf térmica contra Pt (frío 0C - caliente 100C)( mV )0.74
ElementoValor
Punto de ebullición( C )3080
Densidad( gcm-³ )19.3@20°C
ElementoValor
Punto de fusión(℃)1064.4
Calor latente de evaporación( J g-¹ )1738
Calor latente de fusión( J g-¹ )64.9
Calor específico( J K-¹ kg-¹ )129@25°C
Conductividad térmica( W m-¹ K-¹ )318@0-100°C
Coeficiente de dilatación térmica( x10-⁶ K-¹ )14.1@0-100°C

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To customize your gold sputtering target, please provide the following details:

  1. Diámetro (para los cátodos para sputtering circulares)
  2. Anchura × Longitud (para los cátodos rectangulares para sputtering)
  3. Espesor (para los cátodos para sputtering)
  4. Placa de apoyo (Si se requiere servicio de pegado, especifique el material y las dimensiones de la placa de respaldo.）
  5. Pureza (Especifique la pureza del material requerido).
  6. Cantidad de los productos que necesita
  7. Alternativamente, puede proporcionar un dibujo con sus especificaciones.

Una vez que tengamos estos datos, podremos facilitarle un presupuesto en 24 horas.

Disponemos de una amplia variedad de productos de oro en stock, para los que no suele haber un pedido mínimo. Sin embargo, para los pedidos personalizados, solemos fijar un valor mínimo de pedido de $200. El plazo de entrega de los artículos en stock suele ser de 1 a 2 semanas, mientras que el de los pedidos personalizados suele ser de 3 a 4 semanas, dependiendo de las características específicas del pedido.

El cumplimiento del DFARS (Defense Federal Acquisition Regulation Supplement) se refiere principalmente al aprovisionamiento de materiales para aplicaciones relacionadas con la defensa en Estados Unidos. Según el DFARS, determinados materiales utilizados en defensa deben proceder de Estados Unidos o de países que cumplan los requisitos.

Si tiene materiales de platino específicos que estén sujetos al DFARS, háganoslo saber con antelación y se lo confirmaremos.

En Heeger Metal, nos tomamos muy en serio esta responsabilidad. Cumplimos todas las leyes y normativas aplicables, incluida la Sección 1502 de la Ley Dodd-Frank. Nuestra empresa opera con un estricto código ético y se compromete a asociarse únicamente con proveedores que compartan nuestra dedicación al abastecimiento responsable. Apoyamos las iniciativas y programas destinados a promover cadenas de suministro "libres de conflictos" y trabajamos con diligencia para garantizar que nuestros productos cumplen estas normas.

A gold sputtering target is a high-purity gold disc or plate used in deposition processes to create thin gold coatings for electronics, optics, and medical devices.

High-quality gold sputtering targets typically have 99.99% (4N) to 99.999% (5N) purity to ensure minimal impurities during sputtering.

Gold sputtering targets are primarily used in semiconductor chips, solar cells, MEMS, and biomedical sensors for conductive/reflective layers.

Heeger Metal, fundada en 2016 en Colorado (Estados Unidos), es un proveedor y fabricante especializado en productos de oro. Con una amplia experiencia en suministro y exportación, ofrecemos precios competitivos y soluciones personalizadas adaptadas a requisitos específicos, garantizando una calidad excepcional y la satisfacción del cliente. Como proveedor profesional de metales refractarios, aleaciones especiales, polvos esféricos y diversos materiales avanzados, atendemos las necesidades de investigación, desarrollo y producción industrial a gran escala de los sectores científico e industrial.

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Cátodos para sputtering Productos

Heeger Metal ofrece una amplia selección de cátodos para sputtering de alto rendimiento fabricados con materiales como titanio, cobre, aluminio y metales de tierras raras. Nuestros cátodos para sputtering personalizados están diseñados con precisión para satisfacer las demandas de industrias como la fabricación de semiconductores, la fotovoltaica y la electrónica. Con una pureza y consistencia superiores, nuestros cátodos para sputtering ofrecen un rendimiento excepcional en la deposición de películas, lo que los hace ideales para aplicaciones de recubrimiento de películas finas, sputtering y PVD (deposición física de vapor).

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