Blanco de titanio para sputtering

Blanco de titanio para sputtering

Blanco de titanio para sputtering

Material: Gr.1, Gr.2, Gr.3, Gr.7, Gr.9, Gr.12, Gr.16, etc.

Pureza: 99,95%-99,995%

  • Tamaños personalizados y estándar en stock
  • Plazo de entrega rápido
  • Precio competitivo
Clasificación por estrellas 5
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El cátodo de titanio para sputtering es uno de los materiales más utilizados, fabricado a partir de titanio de gran pureza. Ofrece un rendimiento y una fiabilidad superiores para diversas aplicaciones de deposición de película fina. Como proveedor y fabricante líder de productos de titanio de primera calidad, Heeger Materials aprovecha la tecnología avanzada para ofrecer cátodos para sputtering de titanio y aleaciones de titanio de gran pureza para diversas aplicaciones.

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Ficha técnica del cátodo de titanio para sputtering

Referencia:HMST319
Material:Gr.1, Gr.2, Gr.3, Gr.7, Gr.9, Gr.12, Gr.16, etc.
Pureza:99.95%-99.995%
Granulometría media:≤100 μm
Densidad:4,5 g/cm3
Punto de fusión:1660 ℃
Forma:Plano, giratorio o personalizado
Vinculación:Desvinculación o vinculación

Blanco de titanio para sputtering

El titanio (Ti), un metal de transición plateado con una baja densidad de 4,54 g/cm3El cátodo de titanio para sputtering se caracteriza por su ligereza, alta resistencia y resistencia a la corrosión. El cátodo de titanio para sputtering está fabricado con titanio de gran pureza. polvo de titanioLa película de barrera es uno de los materiales de barrera más utilizados en los chips de circuitos integrados a gran escala. Es uno de los materiales de película de barrera más utilizados en chips de circuitos integrados de escala ultra grande. HM puede suministrar soluciones personalizadas de pureza, tamaño y densidad según requisitos específicos.

  • Cilindro de titanio para sputtering
    Cilindro de titanio para sputtering
  • Cátodos rectangulares para sputtering de titanio
    Cátodos rectangulares para sputtering de titanio
  • Blanco rotatorio para sputtering de titanio
    Blanco rotatorio para sputtering de titanio

Composición química del material para sputtering de titanio

TipoElemento (%)
NCHFeOAlVMoNiPdTi
GR.1≤0.03≤0.08≤0.015≤0.2≤0.18     Residual
GR.2≤0.03≤0.08≤0.015≤0.3≤0.25     Residual
GR.3≤0.05≤0.08≤0.015≤0.3≤0.35     Residual
GR.7≤0.03≤0.08≤0.015≤0.3≤0.25    0.12-0.25Residual
GR.9≤0.02≤0.08≤0.015≤0.25≤0.152.5-3.32.0-3.0   Residual
GR.12≤0.03≤0.08≤0.015≤0.3≤0.25  0.2-0.40.6-0.9 Residual
GR.16≤0.03≤0.08≤0.015≤0.3≤0.25    0.04-0.08

Especificaciones del cátodo de titanio para sputtering

Tipo de materialTitanioCoeficiente de dilatación térmica8,6 x 10-6/K
SímboloTiDensidad teórica (g/cc)4.5
Peso atómico47.867Ratio Z0.628
Número atómico22Pulverización catódicaDC
Color/AparienciaPlateado metálicoDensidad de potencia máxima (vatios/pulgada cuadrada)50*
Conductividad térmica21,9 W/m.KTipo de bonoIndio, elastómero
Punto de fusión (°C)1,660ComentariosAleaciones con W/Ta/Mo; evolucionan a gas en el primer calentamiento.

Dimensiones de los cátodos para sputtering de titanio

Cátodos para sputtering circularDiámetro1.0"
2.0"
3.0"
4.0"
5.0"
6.0"
hasta 21
Cátodos rectangulares para sputteringAnchura x Longitud5" x 12"
5" x 15"
5" x 20"
5" x 22"
6" x 20"
Espesor0.125", 0.25"

Imagen de la microestructura del cátodo para sputtering de titanio

La imagen de la microestructura de 100 μm de tamaño de grano.
Imagen de la microestructura_100 μm de tamaño de grano

Ventajas del cátodo de titanio para sputtering

  • Alta pureza y densidad
  • Partícula baja
  • Distribución uniforme del espesor de la película
  • Alta eficiencia en el uso

Proceso de producción de cátodos para sputtering de titanio

Generalmente se prepara mediante el método pulvimetalúrgico, la pureza del polvo de titanio debe ser superior a 99,95%. El proceso específico es el siguiente:

  • Introducir el polvo de titanio en el horno de tratamiento térmico al vacío para su pregasificación, a continuación introducir hidrógeno y continuar calentando para su desgasificación.
  • El polvo de titanio desgasificado se sinteriza una vez mediante prensado en caliente al vacío.
  • El producto sinterizado primario pasa por una prensa isostática caliente para completar la sinterización secundaria.
  • Tras la sinterización secundaria, toda la superficie del producto se rectifica mediante mecanizado para obtener el producto final.

Aplicaciones de cátodos de titanio para sputtering

  • El cátodo de titanio para sputtering puede utilizarse como material de película de barrera para chips de circuitos integrados de escala ultra grande.
  • El cátodo de titanio para sputtering es ideal para depositar película fina para pantallas planas.
  • Los cátodos para sputtering de titanio se utilizan habitualmente en las técnicas de deposición física de vapor (PVD) y sputtering de magnetrón para producir películas finas ópticas, películas antirreflectantes, etc.
  • Los cátodos para sputtering de titanio ayudan a fabricar componentes excepcionalmente ligeros, finos, pequeños y densamente empaquetados, cuando se utilizan para crear interconexiones en LSI, VLSI y ULSI.

Embalaje de cátodos para sputtering de titanio

El cátodo para sputtering de titanio se coloca cuidadosamente en cajas de madera o cartón con soporte adicional de materiales blandos para evitar cualquier desplazamiento durante el transporte. Este método de embalaje garantiza la integridad de los productos durante todo el proceso de entrega.

Embalaje metálico

Propiedades del titanio

ArtículoValor
Número atómico22
Estructura cristalinaHexagonal compacto
Estructura electrónicaAr 3d² 4s²
Valencias indicadas2,3,4
Peso atómico( amu )47.88
Sección transversal de absorción de neutrones térmicos( Barns )6.1
Función de trabajo fotoeléctrico( eV )4.1
Distribución de isótopos naturales( Nº de masa /% )50/ 5.3
Distribución de isótopos naturales( Nº de masa /% )49/ 5.5
Distribución de isótopos naturales( Nº de masa /% )46/ 8.0
Distribución de isótopos naturales( Nº de masa /% )48/ 73.7
Distribución de isótopos naturales( Nº de masa /% )47/ 7.5
Radio atómico - Goldschmidt( nm )0.147
Potencial de ionización( No./eV )3/ 27.5
Potencial de ionización( No./eV )4/ 43.3
Potencial de ionización( No./eV )5/ 99.2
Potencial de ionización( No./eV )1/ 6.82
Potencial de ionización( No./eV )2/ 13.6
Potencial de ionización( No./eV )6/ 119
ArtículoValor
Estado del materialPolicristalino
Estado del materialRecocido
Relación de Poisson0.361
Relación de Poisson0.361
Relación de Poisson–
Módulo de masa ( GPa )108.4
Módulo de masa ( GPa )–
Módulo de masa ( GPa )108.4
Módulo de tracción( GPa )–
Módulo de tracción( GPa )120.2
Módulo de tracción( GPa )120.2
Tenacidad Izod( J m-¹ )61
Tenacidad Izod( J m-¹ )61
Dureza - Vickers( kgf mm-² )60
Dureza - Vickers( kgf mm-² )60
Resistencia a la tracción( MPa )230-460
Resistencia a la tracción( MPa )230-460
Límite elástico( MPa )140-250
Límite elástico( MPa )140-250
ArtículoValor
Resistividad eléctrica( µOhmcm )54@20@20°C
Temperatura crítica de superconductividad( K )0.4
Coeficiente de temperatura( K-¹ )0.0038@0-100°C
ArtículoValor
Punto de ebullición( °C )3287
Densidad( gcm-³ )4.5@20°C
ArtículoValor
Punto de fusión( °C )1660
Calor latente de evaporación( J g-¹ )8893
Calor latente de fusión( J g-¹ )365
Calor específico( J K-¹ kg-¹ )523@25°C
Conductividad térmica( W m-¹ K-¹ )21.9@0-100°C
Coeficiente de dilatación térmica( x10-⁶ K-¹ )8.9@0-100°C

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Para personalizar su cátodo para sputtering de titanio, facilítenos los siguientes datos:

  1. Diámetro (para los cátodos para sputtering circulares)
  2. Anchura × Longitud (para los cátodos rectangulares para sputtering)
  3. Thcikness (para los cátodos para sputtering)
  4. Pureza del material
  5. Placa de apoyo (Si se requiere servicio de pegado, especifique el material y las dimensiones de la placa de respaldo.）
  6. Cantidad de los productos que necesita
  7. Alternativamente, puede proporcionar un dibujo con sus especificaciones.

Una vez que tengamos estos datos, podremos facilitarle un presupuesto en 24 horas.

Disponemos de una amplia variedad de productos de titanio y aleaciones de titanio en stock, para los que no suele ser necesario un pedido mínimo. Sin embargo, para los pedidos personalizados, solemos fijar un valor mínimo de pedido de $200. El plazo de entrega de los artículos en stock suele ser de 1 a 2 semanas, mientras que el de los pedidos personalizados suele ser de 3 a 4 semanas, dependiendo de las características específicas del pedido.

El cumplimiento del DFARS (Defense Federal Acquisition Regulation Supplement) se refiere principalmente al aprovisionamiento de materiales para aplicaciones relacionadas con la defensa en Estados Unidos. Según el DFARS, determinados materiales utilizados en defensa deben proceder de Estados Unidos o de países que cumplan los requisitos.

Si tiene materiales de titanio específicos que estén sujetos al DFARS, háganoslo saber con antelación y se lo confirmaremos.

En Heeger Materials Inc. nos tomamos muy en serio esta responsabilidad. Nos adherimos a todas las leyes y reglamentos aplicables, incluida la Sección 1502 de la Ley Dodd-Frank. Nuestra empresa opera con un estricto código ético y se compromete a asociarse únicamente con proveedores que compartan nuestra dedicación al abastecimiento responsable. Apoyamos las iniciativas y programas destinados a promover cadenas de suministro "libres de conflictos" y trabajamos con diligencia para garantizar que nuestros productos cumplen estas normas.

Heeger Materials Inc, establecida en 2016 en Colorado, EE. UU., es un proveedor y fabricante especializado de tantalio y aleaciones de tántalo. Con una amplia experiencia en suministro y exportación, ofrecemos precios competitivos y soluciones personalizadas adaptadas a requisitos específicos, garantizando una calidad sobresaliente y la satisfacción del cliente. Como proveedor profesional de metales refractarios, aleaciones especiales, polvos esféricos y diversos materiales avanzados, atendemos las necesidades de investigación, desarrollo y producción industrial a gran escala de los sectores científico e industrial.

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Cátodos para sputtering Productos

Heeger Metal ofrece una amplia selección de cátodos para sputtering de alto rendimiento fabricados con materiales como titanio, cobre, aluminio y metales de tierras raras. Nuestros cátodos para sputtering personalizados están diseñados con precisión para satisfacer las demandas de industrias como la fabricación de semiconductores, la fotovoltaica y la electrónica. Con una pureza y consistencia superiores, nuestros cátodos para sputtering ofrecen un rendimiento excepcional en la deposición de películas, lo que los hace ideales para aplicaciones de recubrimiento de películas finas, sputtering y PVD (deposición física de vapor).

Otros productos de titanio

Heeger Metal ofrece una amplia gama de productos de titanio y aleaciones de titanio, incluidos polvos y piezas acabadas, con opciones de personalización disponibles. Conocidos por su excepcional resistencia, resistencia a la corrosión y estabilidad a altas temperaturas, estos materiales son perfectos para aplicaciones aeroespaciales, electrónicas y de procesamiento químico.

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