Cátodos de tungsteno para sputtering

Cátodos de tungsteno para sputtering

Cátodos de tungsteno para sputtering

Material: Pure Tungsten

Pureza: 99%-99,999%

  • Tamaños personalizados y estándar en stock
  • Plazo de entrega rápido
  • Precio competitivo
Clasificación por estrellas 5
Clasificación por estrellas 5
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Clasificación por estrellas 5
Clasificación por estrellas 5

Tungsten Sputtering Target is made of high-purity polvo de tungsteno, as high as 99.999%. It possesses the advantages of high melting point, high density, corrosion resistance, and good thermal stability. As a leading supplier and manufacturer of premium tungsten products, Heeger Materials leverages advanced machining centers to deliver high-precision sputtering targets, evaporation sources, and other deposition materials for wide ranges of applications.

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Tungsten Sputtering Target Data Sheet

Referencia:HMST24
Material:Tungsteno
Pureza:99%, 99.9%, 99.95%, 99.99%, 99.999%
Forma:Disc, Rectangular, Rotary, or Customized
Bonding:Unbonding, or Bonding

Cátodos de tungsteno para sputtering

Cátodos de tungsteno para sputtering is a high-performance deposition material, widely used in semiconductors, chemical vapor deposition (CVD), physical vapor deposition (PVD), and optical applications. HM can offer customized solutions and bonding services to meet specific requirements.

  • Tungsten Sputtering Target 1
  • Tungsten Sputtering Target 2
  • Tungsten Sputtering Target 3

Tungsten Sputtering Target Material Chemical Composition

W (>%)Contenido químico (<%)
99.999
W1		FeCaSeaSnAlNiZnSbPtKTaNa
0.00010.000050.0000050.0000050.000050.000010.000050.000050.000030.0000050.00010.00005
CrPbEnMgTiBiMoCdCuBaCoMn
0.0000050.000010.000050.000050.0000050.000010.000010.0000050.0000070.000010.0000050.000005
99.99
W2		FeCaSeaSnAlNiZnSbPtKONa
0.00010.000450.00010.00010.00010.00010.00010.00010.00010.00050.00400.0009
CrPbEnMgTiBiMoCdCuBaCoMn
0.00010.00010.00010.00010.00010.00010.00020.00010.00010.00010.00010.0001
99.95
W3		FeCaPSnAlNiNSbSiOPbEn
0.0050.0030.0010.00010.0020.0030.0030.0010.0030.0030.00010.002
MgCBiMo        
0.0020.0050.00010.001        

Tungsten Sputtering Target Specifications

Material TypeTungstenoCoefficient of Thermal Expansion4.5 x 10-6/K
SymbolWTheoretical Density (g/cc)19.25
Atomic Weight183.84Z Ratio0.163
Atomic Number74SputterDC
Color/AppearanceGrayish White, Lustrous, MetallicMax Power Density (Watts/Square Inch)100*
Thermal Conductivity174 W/m.KType of BondIndium, Elastomer
Punto de fusión (°C)3,410CommentsForms volatile oxides. Films are hard and adherent.

Tungsten Sputtering Target Stock Dimensions

Circular Sputtering TargetsDiámetro1.0″
2.0″
3.0″
4.0″
5.0″
6.0″
up to 21″
Rectangular Sputtering TargetsWidth x Length5″ x 12″
5””x 15″
5″ x 20″
5″ x 22″
6″ x 20″
Espesor0.125″, 0.25″

Tungsten Sputtering Target Advantages

  • High purity, sintered, and cast tungsten sputtering targets up to 99.95% and beyond.
  • Rapid prototyping, powder metallurgy, and direct pressing.
  • High density, the density of the tungsten sputtering target after casting can be more than 19.1g/cm3.
  • The wide application of the powder metallurgy method makes the cost of tungsten target lower than that of other target materials, such as titanium.
  • Uniform composition and structure, improve the deflection force of the tungsten target.
  • Fine particle size, grain uniformity, other axes, high concentration, and coating product quality are higher.

Tungsten Sputtering Targets Production Process

Generally prepared by powder metallurgy method, the purity of tungsten powder should be above 99.95%, and the particle size should be between 3.2-4.2 μm. The specific process is as follows:

  • Put the tungsten powder in the vacuum heat treatment furnace for pre-gassing, then introduce hydrogen and continue heating for degassing.
  • The degassed tungsten powder is sintered once by vacuum hot pressing.
  • The primary sintered product is passed through a hot isostatic press to complete the secondary sintering.
  • After the secondary sintering, the whole surface of the product is ground by machining to get the final product.

Tungsten Sputtering Target Applications

  • Semiconductor Manufacturing: In the manufacture of integrated circuits and microelectronic devices, tungsten sputtering targets are used to deposit conductive or barrier layers by Physical Vapor Deposition (PVD) technology.
  • Photovoltaic Industry: Tungsten sputtering targets are used to produce solar panels to form highly efficient photovoltaic conversion layers through sputtering coating, improving the efficiency and stability of solar cells.
  • Hard Coatings and Tool Manufacturing: Tungsten’s hardness and wear resistance make it a high-performance coating material. Tungsten sputtering targets are used to produce hard coatings for metal cutting tools, molds, etc. to improve their durability and wear resistance.
  • Military and Aerospace: The high density and high strength properties of tungsten sputtering targets make them important in manufacturing military protective equipment and aerospace devices.
  • Electronic Components: The high thermal conductivity and electrical conductivity of the tungsten sputtering target make it play an important role in the heat dissipation material and electromagnetic shielding material of electronic devices.

Tungsten Sputtering Target Packaging

The Tungsten Sputtering Target is carefully placed in wooden cases or cartons, with additional support from soft materials, to prevent shifting during transportation. This packaging method guarantees the integrity of the products throughout the delivery process.

Embalaje metálico

Propiedades del wolframio

ArtículoValor
Número atómico74
Estructura cristalinaCúbico centrado en el cuerpo
Estructura electrónicaXe 4f¹⁴ 5d⁴ 6s²
Valencias indicadas2,3,4,5,6
Peso atómico( amu )183.85
Sección transversal de absorción de neutrones térmicos( Barns )18.5
Función de trabajo fotoeléctrico( eV )4.55
Distribución de isótopos naturales( Nº de masa /% )183/ 14.3
Distribución de isótopos naturales( Nº de masa /% )182/ 26.3
Distribución de isótopos naturales( Nº de masa /% )186/ 28.6
Distribución de isótopos naturales( Nº de masa /% )180/ 0.1
Distribución de isótopos naturales( Nº de masa /% )184/ 30.7
Radio atómico - Goldschmidt( nm )0.141
Potencial de ionización( No./eV )1/ 7.98
Potencial de ionización( No./eV )2/ 17.7
ArtículoValor
Estado del materialRecocido (blando)
Estado del materialNo recocido (duro)
Relación de Poisson0.28
Relación de Poisson0.28
Módulo de masa ( GPa )311
Módulo de masa ( GPa )311
Módulo de tracción( GPa )411
Módulo de tracción( GPa )411
Dureza - Vickers( kgf mm-² )360
Dureza - Vickers( kgf mm-² )500
Resistencia a la tracción( MPa )550-620
Resistencia a la tracción( MPa )1920
Límite elástico( MPa )550
ArtículoValor
Resistividad eléctrica( µOhmcm )5.4@20@20°C
Temperatura crítica de superconductividad( K )0.0154
Coeficiente de temperatura( K-¹ )0.0048@0-100°C
Emf térmica contra Pt (frío 0C - caliente 100C)( mV )1.12
ArtículoValor
Punto de ebullición( °C )5660
Densidad( gcm-³ )19.3@20°C
ArtículoValor
Punto de fusión( °C )3410
Calor latente de evaporación( J g-¹ )4009
Calor latente de fusión( J g-¹ )192
Calor específico( J K-¹ kg-¹ )133@25°C
Conductividad térmica( W m-¹ K-¹ )173@0-100°C
Coeficiente de dilatación térmica( x10-⁶ K-¹ )4.5@0-100°C

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Lo comprobaremos y le responderemos en 24 horas.

To customize your tungsten sputtering target, please provide the following details:

  1. Diámetro (for the circular sputtering targets)
  2. Width × Length (for the rectangular sputtering targets)
  3. Thcikness (for the sputtering targets)
  4. Pureza del material
  5. Backing Plate (If bonding service is required, please specify the material and dimensions of the backing plate.）
  6. Cantidad de los productos que necesita
  7. Alternativamente, puede proporcionar un dibujo con sus especificaciones.

Una vez que tengamos estos datos, podremos facilitarle un presupuesto en 24 horas.

We carry a wide variety of tungsten and tungsten alloy products in stock, and for these, there is generally no minimum order requirement. However, for custom orders, we typically set a minimum order value of $200. The lead time for stock items is usually 1-2 weeks, while custom orders usually take 3-4 weeks, depending on the specifics of the order.

El cumplimiento del DFARS (Defense Federal Acquisition Regulation Supplement) se refiere principalmente al aprovisionamiento de materiales para aplicaciones relacionadas con la defensa en Estados Unidos. Según el DFARS, determinados materiales utilizados en defensa deben proceder de Estados Unidos o de países que cumplan los requisitos.

Si tiene materiales de tungsteno específicos que estén sujetos al DFARS, háganoslo saber con antelación y se lo confirmaremos.

En Heeger Materials Inc. nos tomamos muy en serio esta responsabilidad. Nos adherimos a todas las leyes y reglamentos aplicables, incluida la Sección 1502 de la Ley Dodd-Frank. Nuestra empresa opera con un estricto código ético y se compromete a asociarse únicamente con proveedores que compartan nuestra dedicación al abastecimiento responsable. Apoyamos las iniciativas y programas destinados a promover cadenas de suministro "libres de conflictos" y trabajamos con diligencia para garantizar que nuestros productos cumplen estas normas.

Heeger Materials Inc, fundada en 2016 en Colorado (EE. UU.), es un proveedor y fabricante especializado en tungsteno y aleaciones de tungsteno. Con una amplia experiencia en suministro y exportación, ofrecemos precios competitivos y soluciones personalizadas adaptadas a requisitos específicos, garantizando una calidad excepcional y la satisfacción del cliente. Como proveedor profesional de metales refractarios, aleaciones especiales, polvos esféricos y diversos materiales avanzados, atendemos las necesidades de investigación, desarrollo y producción industrial a gran escala de los sectores científico e industrial.

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Otros productos de tungsteno

Heeger Metal ofrece una amplia gama de productos de wolframio y aleaciones de wolframiodesde polvos hasta componentes acabados, con opciones de personalización disponibles. Conocidos por su extraordinaria resistencia, alto punto de fusión y excelente resistencia al desgaste y la corrosión, estos materiales son ideales para aplicaciones aeroespaciales, electrónicas e industriales. Nuestra tungsteno de gran pureza garantiza una durabilidad y un rendimiento excepcionales incluso en las condiciones más extremas.

Sputtering Targets Products

Heeger Metal offers a wide selection of high-performance sputtering targets made from materials like titanium, copper, aluminum, and rare earth metals. Our custom sputtering targets are precision-engineered to meet the demands of industries such as semiconductor manufacturing, photovoltaics, and electronics. With superior purity and consistency, our sputtering targets deliver exceptional film deposition performance, making them ideal for thin-film coating, sputtering, and PVD (Physical Vapor Deposition) applications.

Disc Products

Heeger Metal offers a wide range of metal and alloy disc products. Our precision-engineered discs are ideal for applications in aerospace, electronics, and industrial sectors, providing excellent strength, durability, and thermal conductivity. Whether you need custom metal discs or standard metal alloy discs, our products ensure high performance and exceptional quality.

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