Cátodos para sputtering de paladio

Pureza: ≥99,95%, o personalizada

Forma: Disco, Rectangular, Tubo, o personalizado

Tamaños personalizados y estándar en stock
Plazo de entrega rápido
Precio competitivo

Los cátodos para sputtering de paladio están hechos de metal de paladio de gran pureza, ampliamente aplicado en tecnologías de deposición de películas finas. Como proveedor y fabricante líder de productos de paladio de primera calidad, Heeger Metal aprovecha la tecnología avanzada para suministrar cátodos para sputtering de paladio de alta calidad para diversas aplicaciones.

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Hoja de datos de cátodos para sputtering de paladio

Código de referencia:	HTST17
CAS:	7440-05-3
Pureza:	≥99.95%, o personalizado
Densidad:	12,023 g/cm³
Punto de fusión:	1554℃
Punto de ebullición:	2970℃
Forma:	Disco, rectangular, tubo o personalizado
Vinculación:	Bongding o desvinculación

Descripción del cátodo para sputtering de paladio

El paladio (Pd) tiene la capacidad única de absorber y liberar hidrógeno, lo que lo convierte en una opción ideal para los sistemas de hidrogenación y purificación. El cátodo para sputtering de paladio está hecho de metal de paladio de gran pureza. Se utiliza ampliamente en tecnologías de deposición de películas, especialmente en campos como los semiconductores, los revestimientos ópticos, las pantallas planas y las células solares. En el proceso de pulverización catódica por magnetrón, el cátodo para pulverización catódica de paladio se utiliza para depositar una película fina uniforme sobre el sustrato. Heeger Metal puede suministrar cátodos para sputtering de paladio de alta precisión en diversas especificaciones para adaptarse a aplicaciones industriales y de investigación, garantizando un rendimiento y una rentabilidad óptimos.

Especificaciones del cátodo para sputtering de paladio

Tipo de material	Paladio
Símbolo	Pd
Peso atómico	106.42
Número atómico	46
Color/Apariencia	Blanco plateado metalizado
Conductividad térmica	72 W/m.K
Punto de fusión (°C)	1,554
Coeficiente de dilatación térmica	11,8 x 10-6/K
Densidad teórica (g/cc)	12.02
Ratio Z	0.357
Pulverización catódica	DC
Densidad de potencia máxima (vatios/pulgada cuadrada)	100*
Tipo de bono	Indio, elastómero
Comentarios	Aleaciones con metales refractarios.

Dimensiones de los cátodos para sputtering de paladio

Cátodos para sputtering circular	Diámetro	1.0″ 2.0″ 3.0″ 4.0″ 5.0″ 6.0″ hasta 21″.
Cátodos rectangulares para sputtering	Anchura x Longitud	5″ x 12″ 5""x 15″ 5″ x 20″ 5″ x 22″ 6″ x 20″
Espesor		0.125″, 0.25″

Procesos de fabricación de cátodos para sputtering de paladio

Preparación del material: Seleccionar materia prima de paladio de alta pureza (normalmente ≥99,95% de pureza).
Fusión por inducción en vacío: Un proceso de fusión de alta precisión que utiliza la inducción al vacío para garantizar una composición uniforme de la aleación y eliminar los contaminantes.
Recocido: Proceso de tratamiento térmico para aliviar las tensiones internas, mejorar las propiedades del material y conseguir la dureza y ductilidad deseadas.
Rodando: El material se hace pasar por rodillos para reducir el grosor, aumentar la longitud y refinar la estructura para su posterior procesamiento.
Estampación: Utilización de prensas mecánicas para moldear o cortar el material en formas específicas, garantizando unas dimensiones y una consistencia precisas.
Pruebas metalográficas: Análisis detallado de la microestructura del material para garantizar la calidad y la integridad de la aleación antes de su procesamiento posterior.
Mecanizado: Procesos de mecanizado de precisión (como torneado, fresado o rectificado) para conseguir las formas y tolerancias deseadas.
Control dimensional: Medir y verificar las dimensiones del producto para garantizar que cumplen las especificaciones exigidas.
Limpieza: Limpieza a fondo del material para eliminar cualquier residuo, aceite o contaminante que haya quedado de los procesos de fabricación.
Inspección final: Un exhaustivo proceso de inspección para garantizar que el producto cumple todas las normas de calidad y funcionamiento.

Aplicaciones de cátodos para sputtering de paladio

Industria electrónica: Los cátodos para sputtering de paladio se utilizan ampliamente en la deposición de películas finas, especialmente en la fabricación de semiconductores, para crear capas de electrodos en circuitos integrados, condensadores y sensores.
Revestimientos ópticos: Los cátodos para sputtering de paladio se utilizan para producir películas ópticas finas de alta reflexión, que se aplican comúnmente en sistemas láser, lentes ópticas y pantallas.
Células solares: Los cátodos para sputtering de paladio se utilizan como materiales de electrodos en células solares, contribuyendo a mejorar su eficiencia.
Pantallas planas: Los cátodos para sputtering de paladio se utilizan en la producción de películas delgadas conductoras en pantallas planas, garantizando el rendimiento y la estabilidad de las pantallas.
Materiales magnéticos: Los cátodos para sputtering de paladio se utilizan en la deposición de películas finas para materiales magnéticos, que se aplican en unidades de disco duro y dispositivos de grabación magnética.
Industria química: Los cátodos para sputtering de paladio se utilizan como catalizadores en reacciones de síntesis orgánica, especialmente en procesos de hidrogenación y deshidrogenación.

Embalaje de cátodos para sputtering de paladio

Los cátodos para sputtering de paladio se colocan cuidadosamente en cajas de madera o cartón con materiales blandos adicionales para sujetarlos y evitar que se desplacen durante el transporte. Este método de embalaje garantiza la integridad de los productos durante todo el proceso de entrega.

Propiedades del paladio

Elemento	Valor
Número atómico	46
Estructura cristalina	Cúbico centrado en la cara
Estructura electrónica	Kr 4d¹⁰
Valencias indicadas	2, 3, 4
Peso atómico( amu )	106.42
Sección transversal de absorción de neutrones térmicos( Barns )	6
Función de trabajo fotoeléctrico( eV )	5
Distribución de isótopos naturales( Nº de masa /% )	108/ 26.7
Distribución de isótopos naturales( Nº de masa /% )	110/ 11.8
Distribución de isótopos naturales( Nº de masa /% )	104/ 11.0
Distribución de isótopos naturales( Nº de masa /% )	102/ 1.0
Distribución de isótopos naturales( Nº de masa /% )	105/ 22.2
Distribución de isótopos naturales( Nº de masa /% )	106/ 27.3
Radio atómico - Goldschmidt( nm )	0.137
Potencial de ionización( No./eV )	1/ 8.3
Potencial de ionización( No./eV )	2/ 19.4
Potencial de ionización( No./eV )	3/ 32.9

Elemento	Valor
Estado del material	Suave
Estado del material	Duro
Relación de Poisson	0.39
Relación de Poisson	0.39
Módulo de masa ( GPa )	187
Módulo de masa ( GPa )	187
Módulo de tracción( GPa )	121
Módulo de tracción( GPa )	121
Dureza - Vickers( kgf mm-² )	40
Dureza - Vickers( kgf mm-² )	100
Resistencia a la tracción( MPa )	140-195
Resistencia a la tracción( MPa )	325
Límite elástico( MPa )	205
Límite elástico( MPa )	34.5

Elemento	Valor
Resistividad eléctrica( µOhmcm )	10.8@20@20
Coeficiente de temperatura( K-¹ )	0.0042@0-100
Emf térmica contra Pt (frío 0C - caliente 100C)( mV )	-0.57

Elemento	Valor
Punto de ebullición( C )	3140
Densidad( gcm-³ )	12@20°C

Elemento	Valor
Punto de fusión( C )	1554
Calor latente de evaporación( J g-¹ )	3398
Calor latente de fusión( J g-¹ )	157
Calor específico( J K-¹ kg-¹ )	244@25
Conductividad térmica( W m-¹ K-¹ )	71.8@0-100°C
Coeficiente de dilatación térmica( x10-⁶ K-¹ )	11@0-100

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Para personalizar su cátodo para sputtering de paladio, facilítenos los siguientes datos:

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Espesor (para los cátodos para sputtering)
Placa de apoyo (Si se requiere servicio de pegado, especifique el material y las dimensiones de la placa de respaldo.）
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Disponemos de una amplia variedad de productos de paladio en stock, para los que generalmente no se requiere un pedido mínimo. Sin embargo, para los pedidos personalizados, solemos fijar un valor mínimo de pedido de $200. El plazo de entrega de los artículos en stock suele ser de 1 a 2 semanas, mientras que el de los pedidos personalizados suele ser de 3 a 4 semanas, dependiendo de las características específicas del pedido.

El cumplimiento del DFARS (Defense Federal Acquisition Regulation Supplement) se refiere principalmente al aprovisionamiento de materiales para aplicaciones relacionadas con la defensa en Estados Unidos. Según el DFARS, determinados materiales utilizados en defensa deben proceder de Estados Unidos o de países que cumplan los requisitos.

Si tiene materiales de platino específicos que estén sujetos al DFARS, háganoslo saber con antelación y se lo confirmaremos.

En Heeger Metal, nos tomamos muy en serio esta responsabilidad. Cumplimos todas las leyes y normativas aplicables, incluida la Sección 1502 de la Ley Dodd-Frank. Nuestra empresa opera con un estricto código ético y se compromete a asociarse únicamente con proveedores que compartan nuestra dedicación al abastecimiento responsable. Apoyamos las iniciativas y programas destinados a promover cadenas de suministro "libres de conflictos" y trabajamos con diligencia para garantizar que nuestros productos cumplen estas normas.

Purezas estándar: 99.95%, y 99.99%, con 99.999% (5N) personalizado bajo demanda.

Circular (1-12″ de diámetro)
Rectangular (hasta 300 mm de longitud)
Geometrías personalizadas

≥99,95% densidad teórica (12,02 g/cm³) mediante procesamiento HIP.

Heeger Metal, fundada en 2016 en Colorado (Estados Unidos), es un proveedor y fabricante especializado en productos de paladio. Con una amplia experiencia en suministro y exportación, ofrecemos precios competitivos y soluciones personalizadas adaptadas a requisitos específicos, garantizando una calidad excepcional y la satisfacción del cliente. Como proveedor profesional de metales refractarios, aleaciones especiales, polvos esféricos y diversos materiales avanzados, atendemos las necesidades de investigación, desarrollo y producción industrial a gran escala de los sectores científico e industrial.

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Heeger Metal ofrece una amplia selección de cátodos para sputtering de alto rendimiento fabricados con materiales como titanio, cobre, aluminio y metales de tierras raras. Nuestros cátodos para sputtering personalizados están diseñados con precisión para satisfacer las demandas de industrias como la fabricación de semiconductores, la fotovoltaica y la electrónica. Con una pureza y consistencia superiores, nuestros cátodos para sputtering ofrecen un rendimiento excepcional en la deposición de películas, lo que los hace ideales para aplicaciones de recubrimiento de películas finas, sputtering y PVD (deposición física de vapor).

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