Blanco para sputtering de platino
Blanco para sputtering de platino
Pureza: ≥99,95% o ≥99,99%
Forma: Disco, Rectangular, Tubo, o personalizado
Los cátodos de platino para sputtering están fabricados con platino de gran pureza con Pt≥99.95% o Pt≥99.99%, diseñados para la deposición de películas finas en diversas aplicaciones avanzadas, como electrónica, óptica, energía solar y revestimientos. Como proveedor y fabricante líder de productos de platino de primera calidad, Heeger Metal aprovecha la tecnología avanzada para suministrar cátodos para sputtering de platino de alta calidad para diversas aplicaciones.
O envíenos un correo electrónico a max@heegermaterials.com.Ficha técnica del cátodo de platino para sputtering
Código de referencia: | HTST18 |
Pureza: | ≥99.95% o ≥99.99% |
Punto de fusión: | 1722℃ |
Punto de ebullición: | 3827℃ |
Densidad: | 21,45 g/cm3 |
Peso molecular: | 195,078 g/mol |
Forma: | Disco, rectangular, tubo o personalizado |
Vinculación: | Vinculación o desvinculación |
Descripción del cátodo para sputtering de platino
El platino (Pt) tiene una excelente conductividad, resistencia a la corrosión y estabilidad química, lo que lo convierte en una opción ideal para los procesos de sputtering que requieren precisión y fiabilidad. El cátodo de platino para sputtering está fabricado a partir de platino de gran pureza, con una pureza de 99,95% o 99,99%. Se produce con un estricto control de calidad, garantizando una alta consistencia, uniformidad y rendimiento en cada lote. Heeger Metal se especializa en la fabricación de cátodos de platino de alta calidad para sputtering con especificaciones personalizadas para múltiples aplicaciones industriales y de investigación, ofreciendo resultados superiores en la creación de películas finas de alto rendimiento.
Composición química de los cátodos de platino para sputtering
Producto | Blanco para sputtering de platino | ||
Pt (%) | 99.99 | 99.95 | |
Impurezas≤(%) | Pd | 0.003 | 0.01 |
Rh | 0.003 | 0.02 | |
Ir | 0.003 | 0.02 | |
Ru | 0.003 | 0.02 | |
Au | 0.003 | 0.01 | |
Ag | 0.001 | 0.005 | |
Cu | 0.001 | 0.005 | |
Fe | 0.001 | 0.005 | |
Ni | 0.001 | 0.005 | |
Al | 0.003 | 0.005 | |
Pb | 0.002 | 0.005 | |
Mn | 0.002 | 0.005 | |
Cr | 0.002 | 0.005 | |
Mg | 0.002 | 0.005 | |
Sn | 0.002 | 0.005 | |
Si | 0.003 | 0.005 | |
Zn | 0.002 | 0.005 | |
Bi | 0.002 | 0.005 | |
Impurezas totales ≤(%) | 0.01 | 0.05 |
Especificaciones del cátodo de platino para sputtering
Símbolo | Pt |
CAS | 7440-06-4 |
Pureza | 99.99% |
Peso atómico | 195.084 |
Número atómico | 78 |
Color/Apariencia | Gris metalizado |
Conductividad térmica | 72 W/m-K |
Punto de fusión (℃) | 1772 |
Coeficiente de dilatación térmica | 8.8×10-6/K |
Densidad teórica (g/cc) | 21.45 |
Ratio Z | 0.245 |
Pulverización catódica | DC |
Densidad de potencia máxima (vatios/pulgada cuadrada) | 100* |
Tipo de bono | Indio, elastómero |
Dimensiones de los cátodos de platino para sputtering
Cátodos para sputtering circular | Diámetro | 1.0″ 2.0″ 3.0″ 4.0″ 5.0″ 6.0″ hasta 21″. |
Cátodos rectangulares para sputtering | Anchura x Longitud | 5″ x 12″ 5""x 15″ 5″ x 20″ 5″ x 22″ 6″ x 20″ |
Espesor | 0.125″, 0.25″ |
Procesos de fabricación de cátodos de platino para sputtering
- Preparación del material: Seleccionar materia prima de platino de gran pureza (normalmente ≥99,95% de pureza).
- Fusión por inducción en vacío: Un proceso de fusión de alta precisión que utiliza la inducción al vacío para garantizar una composición uniforme de la aleación y eliminar los contaminantes.
- Recocido: Proceso de tratamiento térmico para aliviar las tensiones internas, mejorar las propiedades del material y conseguir la dureza y ductilidad deseadas.
- Rodando: El material se hace pasar por rodillos para reducir el grosor, aumentar la longitud y refinar la estructura para su posterior procesamiento.
- Estampación: Utilización de prensas mecánicas para moldear o cortar el material en formas específicas, garantizando unas dimensiones y una consistencia precisas.
- Pruebas metalográficas: Análisis detallado de la microestructura del material para garantizar la calidad y la integridad de la aleación antes de su procesamiento posterior.
- Mecanizado: Procesos de mecanizado de precisión (como torneado, fresado o rectificado) para conseguir las formas y tolerancias deseadas.
- Control dimensional: Medir y verificar las dimensiones del producto para garantizar que cumplen las especificaciones exigidas.
- Limpieza: Limpieza a fondo del material para eliminar cualquier residuo, aceite o contaminante que haya quedado de los procesos de fabricación.
- Inspección final: Un exhaustivo proceso de inspección para garantizar que el producto cumple todas las normas de calidad y funcionamiento.
Aplicaciones de cátodos de platino para sputtering
- Industria de semiconductores: Se utiliza en la pulverización catódica para crear películas finas de alto rendimiento, como electrodos, capas conductoras o capas de barrera.
- Revestimientos ópticos: Se emplea para producir películas ópticas altamente reflectantes o resistentes a la corrosión, como espejos o componentes láser.
- Productos sanitarios: Utilizado para revestimientos biocompatibles en dispositivos médicos implantables.
- Industria electrónica: Se aplica en la producción de sensores, resistencias o películas conductoras de alta precisión en circuitos integrados.
- Investigación científica: Se utiliza en la ciencia de materiales para preparar películas finas especializadas a base de platino.
- Sector de la energía: Se emplea en la fabricación de revestimientos de electrodos para pilas de combustible o células solares.
Embalaje de cátodos de platino para sputtering
Los cátodos de platino para sputtering se colocan cuidadosamente en cajas de madera o cartón con materiales blandos adicionales para sujetarlos y evitar que se desplacen durante el transporte. Este método de embalaje garantiza la integridad de los productos durante todo el proceso de entrega.
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Cátodos para sputtering Productos
Heeger Metal ofrece una amplia selección de cátodos para sputtering de alto rendimiento fabricados con materiales como titanio, cobre, aluminio y metales de tierras raras. Nuestros cátodos para sputtering personalizados están diseñados con precisión para satisfacer las demandas de industrias como la fabricación de semiconductores, la fotovoltaica y la electrónica. Con una pureza y consistencia superiores, nuestros cátodos para sputtering ofrecen un rendimiento excepcional en la deposición de películas, lo que los hace ideales para aplicaciones de recubrimiento de películas finas, sputtering y PVD (deposición física de vapor).