Cátodos para sputtering de tántalo

Tantalum Sputtering Target 2

Cátodos para sputtering de tántalo

Purity: 99.9%, 99.95%, 99.99%, 99.999%

Material: R05200, R05400

  • Tamaños personalizados y estándar en stock
  • Plazo de entrega rápido
  • Precio competitivo
Clasificación por estrellas 5
Clasificación por estrellas 5
Clasificación por estrellas 5
Clasificación por estrellas 5
Clasificación por estrellas 5

Tántalo Sputtering Target is made from high-purity tantalum material through pressure processing, offering high chemical purity, fine grain size, good recrystallized structure, and excellent consistency along all three axes. As a leading supplier and manufacturer of premium tantalum products, Heeger Materials leverages advanced machining centers to deliver high-precision tantalum sputtering target for a wide range of applications.

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Tantalum Sputtering Target Data Sheet

Referencia:HMST22
Dimensiones:Espesor: 0.125″-0.25″
Circular Sputtering Targets: 1.0″-21″ (diameter), or customized
Rectangular Sputtering Targets: 5″×12″, 5″×15″, 5″×20″, 5″×22″, 6″×20″, or customized
Material:R05200, R05400
Pureza:99.9%, 99.95%, 99.99%, 99.999%
Forms:Flat Target, Rotary Target, or Custom Shapes
Bonding:Bonding or Unbonding
  • Tantalum Sputtering Target 7
  • Tantalum Sputtering Target 5
  • Tantalum Sputtering Target 6

Tantalum (Ta) Specifications

Tantalum is classified as a transition metal on the Periodic Table and is considered one of the refractory metals highly resistant to corrosion. Due to its excellent corrosion resistance and thermal stability, tantalum is widely used in electronics, aerospace, and chemical engineering, particularly in manufacturing electronic components, chemical reactors, and semiconductors.

Material TypeTántaloCoefficient of Thermal Expansion6.3 x 10-6/K
SymbolTaTheoretical Density (g/cc)16.6
Atomic Weight180.94788Z Ratio0.262
Atomic Number73SputterDC
Color/AppearanceGray Blue, MetallicMax Power Density (Watts/Square Inch)50*
Thermal Conductivity57 W/m.KType of BondIndium, Elastomer
Punto de fusión (°C)3,017CommentsForms good films.

Tantalum Sputtering Target Stock Dimensions

Tantalum sputtering targets are manufactured to precise tolerances to meet specific application requirements. HM also offers bonding services, with the ability to customize dimensions and shapes based on customer specifications. The regular dimensions are as follows:

Circular Sputtering TargetsDiámetro1.0”
2.0”
3.0”
4.0”
5.0”
6.0”
up to 21”
Rectangular Sputtering TargetsWidth x Length5” x 12”
5” x 15”
5” x 20”
5” x 22”
6” x 20”
Espesor0.125”, 0.25”

Tantalum Sputtering Target Material Chemical Composition

ElementoR05200 (%,Max)R05400 (%,Max)
C0.010.01
O0.0150.03
N0.010.01
H0.00150.0015
Fe0.010.01
Mo0.020.02
Nb0.10.1
Ni0.010.01
Si0.0050.005
Ti0.010.01
W0.050.05

Tantalum Sputtering Target Manufacturing Process

The manufacturing process involves sintering high-purity tantalum powder into blocks and melting them into ingots via a high-vacuum electron beam. These ingots undergo repeated plastic deformation and annealing to produce target blanks with uniform grain structure, which are then welded to backplates and machined into the final product for semiconductor sputtering. Here is the typical production process:

  • Sinterización
  • Vacuum Electron Beam Melting
  • Plastic Deformation
  • Recocido
  • Metallographic Inspection
  • Machining
  • Dimensional Inspection
  • Cleaning
  • Final Inspection

Tantalum  Sputtering Target Applications

The tantalum sputtering target, often called a bare target, is first soldered to a copper backing plate. It is then used in semiconductor or optical sputtering processes, where tantalum atoms are deposited as oxides onto a substrate to form a sputter coating. The main applications include:

  • Electronics and Semiconductors: Tantalum targets are widely used as barrier layers in integrated circuit (IC) manufacturing, particularly in copper interconnect technology. Tantalum’s high melting point and low resistance make it an ideal choice for these applications.

  • Anti-Corrosion Coatings: Due to its exceptional corrosion resistance, tantalum is frequently used to coat chemical equipment and metal surfaces exposed to harsh environments, helping to extend the service life of these materials.

  • Thin Films for Optics and Photonics: Tantalum targets are employed to create thin films with specific optical properties for use in various optical devices, displays, and sensors.

  • Medical Devices: With its excellent biocompatibility, tantalum is used to coat medical implants such as bone plates and joint prostheses, reducing the risk of rejection by the body.

Tántalo y aleaciones de tántalo

  • R05200, tántalo no aleado, fundido en horno de haz electrónico y arco de vacío, o ambos
  • R05400, tántalo no aleado, consolidación pulvimetalúrgica.
  • R05255, aleación de tántalo, 90 % de tántalo, 10 % de wolframio, horno de haz de electrones de fusión de arco en vacío, o ambos.
  • R05252, aleación de tántalo, 97,5 % de tántalo, 2,5 % de wolframio, fundido en horno de haz de electrones o de arco en vacío, o ambos.
  • R05240, aleación de tántalo, 60 % de tántalo, 40 % de niobio, horno de haz de electrones o fusión por arco en vacío.

Tantalum Sputtering Target Packaging

The Tantalum Sputtering Target is carefully placed in wooden cases or cartons, with additional support from soft materials, to prevent shifting during transportation. This packaging method guarantees the integrity of the products throughout the delivery process.

Embalaje metálico

Propiedades del tántalo

ArtículoValor
Número atómico73
Estructura cristalinaCúbico centrado en el cuerpo
Estructura electrónicaXe 4f¹⁴ 5d³ 6s²
Valencias indicadas2,3,4,5
Peso atómico( amu )180.9479
Sección transversal de absorción de neutrones térmicos( Barns )22
Función de trabajo fotoeléctrico( eV )4.1
Distribución de isótopos naturales( Nº de masa /% )180/ 0.012
Distribución de isótopos naturales( Nº de masa /% )181/ 99.988
Radio atómico - Goldschmidt( nm )0.147
Potencial de ionización( No./eV )1/ 7.88
Potencial de ionización( No./eV )2/ 16.2
ArtículoValor
Estado del materialNo recocido (duro)
Estado del materialRecocido (blando)
Relación de Poisson0.342
Relación de Poisson0.342
Módulo de masa ( GPa )196.3
Módulo de masa ( GPa )196.3
Módulo de tracción( GPa )185.7
Módulo de tracción( GPa )185.7
Dureza - Vickers( kgf mm-² )200
Dureza - Vickers( kgf mm-² )90
Resistencia a la tracción( MPa )760
Resistencia a la tracción( MPa )172-207
Límite elástico( MPa )705
Límite elástico( MPa )310-380
ArtículoValor
Resistividad eléctrica( µOhmcm )13.5@20@20°C
Temperatura crítica de superconductividad( K )4.47
Coeficiente de temperatura( K-¹ )0.0035@0-100°C
Emf térmica contra Pt (frío 0C - caliente 100C)( mV )0.33
ArtículoValor
Punto de ebullición( °C )5425
Densidad( gcm-³ )16.6@20°C
ElementoValor
Punto de fusión( °C )2996
Calor latente de evaporación( J g-¹ )4165
Calor latente de fusión( J g-¹ )174
Calor específico( J K-¹ kg-¹ )140@25°C
Conductividad térmica( W m-¹ K-¹ )57.5@0-100
Coeficiente de dilatación térmica( x10-⁶ K-¹ )6.5@0-100°C

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Lo comprobaremos y le responderemos en 24 horas.

To customize your tantalum sputtering target, please provide the following details:

  1. Diámetro (for the circular sputtering targets)
  2. Width × Length (for the rectangular sputtering targets)
  3. Thcikness (for the sputtering targets)
  4. Pureza del material
  5. Backing Plate (If bonding service is required, please specify the material and dimensions of the backing plate.）
  6. Cantidad de los productos que necesita
  7. Alternativamente, puede proporcionar un dibujo con sus especificaciones.

Una vez que tengamos estos datos, podremos facilitarle un presupuesto en 24 horas.

Disponemos de una amplia variedad de productos de tantalio y aleaciones de tantalio en stock, para los que generalmente no se requiere un pedido mínimo. Sin embargo, para los pedidos personalizados, solemos establecer un valor mínimo de pedido de $200. El plazo de entrega de los artículos en stock suele ser de 1 a 2 semanas, mientras que el de los pedidos personalizados suele ser de 3 a 4 semanas, dependiendo de las características específicas del pedido.

El cumplimiento del DFARS (Defense Federal Acquisition Regulation Supplement) se refiere principalmente al aprovisionamiento de materiales para aplicaciones relacionadas con la defensa en Estados Unidos. Según el DFARS, determinados materiales utilizados en defensa deben proceder de Estados Unidos o de países que cumplan los requisitos.

Si tiene materiales de tántalo específicos que estén sujetos al DFARS, háganoslo saber con antelación y se lo confirmaremos.

En Heeger Materials Inc. nos tomamos muy en serio esta responsabilidad. Nos adherimos a todas las leyes y reglamentos aplicables, incluida la Sección 1502 de la Ley Dodd-Frank. Nuestra empresa opera con un estricto código ético y se compromete a asociarse únicamente con proveedores que compartan nuestra dedicación al abastecimiento responsable. Apoyamos las iniciativas y programas destinados a promover cadenas de suministro "libres de conflictos" y trabajamos con diligencia para garantizar que nuestros productos cumplen estas normas.

Heeger Materials Inc, fundada en 2016 en Colorado (EE. UU.), es un proveedor y fabricante especializado en tantalio y aleaciones de tantalio. Con una amplia experiencia en suministro y exportación, ofrecemos precios competitivos y soluciones personalizadas adaptadas a requisitos específicos, garantizando una calidad excepcional y la satisfacción del cliente. Como proveedor profesional de metales refractarios, aleaciones especiales, polvos esféricos y diversos materiales avanzados, atendemos las necesidades de investigación, desarrollo y producción industrial a gran escala de los sectores científico e industrial.

Formulario de consulta

Otros productos de tántalo

Heeger Metal ofrece una amplia gama de productos de tantalio y aleaciones de tantalioson conocidos por su extraordinaria resistencia a la corrosión, su alto punto de fusión y su estabilidad en entornos difíciles. Estas características los hacen ideales para aplicaciones exigentes en las industrias aeroespacial, electrónica y de procesamiento químico. Nuestra materiales de tántalo de gran pureza ofrecen un rendimiento y una fiabilidad excepcionales en condiciones difíciles.

Sputtering Targets Products

Heeger Metal offers a wide selection of high-performance sputtering targets made from materials like titanium, copper, aluminum, and rare earth metals. Our custom sputtering targets are precision-engineered to meet the demands of industries such as semiconductor manufacturing, photovoltaics, and electronics. With superior purity and consistency, our sputtering targets deliver exceptional film deposition performance, making them ideal for thin-film coating, sputtering, and PVD (Physical Vapor Deposition) applications.

Disc Products

Heeger Metal offers a wide range of metal and alloy disc products. Our precision-engineered discs are ideal for applications in aerospace, electronics, and industrial sectors, providing excellent strength, durability, and thermal conductivity. Whether you need custom metal discs or standard metal alloy discs, our products ensure high performance and exceptional quality.

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