Cátodos para sputtering de tántalo

Blanco para sputtering de tántalo 2

Cátodos para sputtering de tántalo

Pureza: 99,9%, 99,95%, 99,99%, 99,999%

Material: R05200, R05400

  • Tamaños personalizados y estándar en stock
  • Plazo de entrega rápido
  • Precio competitivo
Clasificación por estrellas 5
Clasificación por estrellas 5
Clasificación por estrellas 5
Clasificación por estrellas 5
Clasificación por estrellas 5

Tántalo Los cátodos para sputtering se fabrican a partir de material de tántalo de gran pureza mediante procesamiento a presión, ofreciendo una alta pureza química, un tamaño de grano fino, una buena estructura recristalizada y una excelente consistencia en los tres ejes. Como proveedor y fabricante líder de productos de tántalo de primera calidad, Heeger Materials aprovecha los centros de mecanizado avanzados para suministrar cátodos para sputtering de tántalo de alta precisión para una amplia gama de aplicaciones.

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O envíenos un correo electrónico a max@heegermaterials.com.

Hoja de datos de cátodos de tántalo para sputtering

Referencia:HMST22
Dimensiones:Espesor: 0.125″-0.25″
Cátodos para sputtering circular: 1,0″-21″ (diámetro), o personalizado.
Cátodos rectangulares para sputtering: 5″×12″, 5″×15″, 5″×20″, 5″×22″, 6″×20″, o personalizado.
Material:R05200, R05400
Pureza:99.9%, 99.95%, 99.99%, 99.999%
Formularios:Blanco plano, blanco giratorio o formas personalizadas
Vinculación:Vinculación o desvinculación
  • Blanco para sputtering de tántalo 7
  • Blanco para sputtering de tántalo 5
  • Blanco para sputtering de tántalo 6

Especificaciones del tántalo (Ta)

El tántalo está clasificado como metal de transición en la Tabla Periódica y se considera uno de los metales refractarios altamente resistentes a la corrosión. Por su excelente resistencia a la corrosión y su estabilidad térmica, el tántalo se utiliza mucho en electrónica, industria aeroespacial e ingeniería química, sobre todo en la fabricación de componentes electrónicos, reactores químicos y semiconductores.

Tipo de materialTántaloCoeficiente de dilatación térmica6,3 x 10-6/K
SímboloTaDensidad teórica (g/cc)16.6
Peso atómico180.94788Ratio Z0.262
Número atómico73Pulverización catódicaDC
Color/AparienciaAzul grisáceo, metalizadoDensidad de potencia máxima (vatios/pulgada cuadrada)50*
Conductividad térmica57 W/m.KTipo de bonoIndio, elastómero
Punto de fusión (°C)3,017ComentariosForma buenas películas.

Dimensiones de los cátodos para sputtering de tántalo

Los cátodos para sputtering de tántalo se fabrican con tolerancias precisas para satisfacer los requisitos de aplicaciones específicas. HM también ofrece servicios de unión, con la posibilidad de personalizar las dimensiones y formas en función de las especificaciones del cliente. Las dimensiones habituales son las siguientes

Cátodos para sputtering circularDiámetro1.0"
2.0"
3.0"
4.0"
5.0"
6.0"
hasta 21
Cátodos rectangulares para sputteringAnchura x Longitud5" x 12"
5" x 15"
5" x 20"
5" x 22"
6" x 20"
Espesor0.125", 0.25"

Composición química del material para sputtering de tántalo

ElementoR05200 (%,Max)R05400 (%,Max)
C0.010.01
O0.0150.03
N0.010.01
H0.00150.0015
Fe0.010.01
Mo0.020.02
Nb0.10.1
Ni0.010.01
Si0.0050.005
Ti0.010.01
W0.050.05

Proceso de fabricación de cátodos de tántalo para sputtering

El proceso de fabricación consiste en sinterizar polvo de tántalo en bloques y fundirlos en lingotes mediante un haz de electrones de alto vacío. Estos lingotes se someten a repetidas deformaciones plásticas y recocido para producir blancos con una estructura de grano uniforme, que luego se sueldan a placas posteriores y se mecanizan para obtener el producto final para el sputtering de semiconductores. Este es el proceso de producción típico:

  • Sinterización
  • Fusión por haz de electrones en vacío
  • Deformación plástica
  • Recocido
  • Inspección metalográfica
  • Mecanizado
  • Inspección dimensional
  • Limpieza
  • Inspección final

Aplicaciones de cátodos de tántalo para sputtering

El cátodo para sputtering de tántalo, a menudo denominado cátodo desnudo, se suelda primero a una placa de soporte de cobre. A continuación se utiliza en procesos de sputtering óptico o de semiconductores, en los que los átomos de tántalo se depositan como óxidos sobre un sustrato para formar un recubrimiento por sputtering. Las principales aplicaciones son:

  • Electrónica y semiconductores: Los cátodos de tántalo se utilizan ampliamente como capas de barrera en la fabricación de circuitos integrados (CI), especialmente en la tecnología de interconexión de cobre. El alto punto de fusión y la baja resistencia del tántalo lo convierten en la opción ideal para estas aplicaciones.

  • Revestimientos anticorrosión: Debido a su excepcional resistencia a la corrosión, el tántalo se utiliza con frecuencia para recubrir equipos químicos y superficies metálicas expuestas a entornos agresivos, contribuyendo a prolongar la vida útil de estos materiales.

  • Películas finas para óptica y fotónica: Los cátodos de tántalo se emplean para crear películas finas con propiedades ópticas específicas para su uso en diversos dispositivos ópticos, pantallas y sensores.

  • Productos sanitarios: Gracias a su excelente biocompatibilidad, el tántalo se utiliza para recubrir implantes médicos como placas óseas y prótesis articulares, reduciendo el riesgo de rechazo por el organismo.

Tántalo y aleaciones de tántalo

  • R05200, tántalo no aleado, fundido en horno de haz electrónico y arco de vacío, o ambos
  • R05400, tántalo no aleado, consolidación pulvimetalúrgica.
  • R05255, aleación de tántalo, 90 % de tántalo, 10 % de wolframio, horno de haz de electrones de fusión de arco en vacío, o ambos.
  • R05252, aleación de tántalo, 97,5 % de tántalo, 2,5 % de wolframio, fundido en horno de haz de electrones o de arco en vacío, o ambos.
  • R05240, aleación de tántalo, 60 % de tántalo, 40 % de niobio, horno de haz de electrones o fusión por arco en vacío.

Embalaje de cátodos para sputtering de tántalo

El cátodo para sputtering de tántalo se coloca cuidadosamente en cajas de madera o cartón, con soporte adicional de materiales blandos, para evitar que se desplace durante el transporte. Este método de embalaje garantiza la integridad de los productos durante todo el proceso de entrega.

Embalaje metálico

Propiedades del tántalo

ArtículoValor
Número atómico73
Estructura cristalinaCúbico centrado en el cuerpo
Estructura electrónicaXe 4f¹⁴ 5d³ 6s²
Valencias indicadas2,3,4,5
Peso atómico( amu )180.9479
Sección transversal de absorción de neutrones térmicos( Barns )22
Función de trabajo fotoeléctrico( eV )4.1
Distribución de isótopos naturales( Nº de masa /% )180/ 0.012
Distribución de isótopos naturales( Nº de masa /% )181/ 99.988
Radio atómico - Goldschmidt( nm )0.147
Potencial de ionización( No./eV )1/ 7.88
Potencial de ionización( No./eV )2/ 16.2
ArtículoValor
Estado del materialNo recocido (duro)
Estado del materialRecocido (blando)
Relación de Poisson0.342
Relación de Poisson0.342
Módulo de masa ( GPa )196.3
Módulo de masa ( GPa )196.3
Módulo de tracción( GPa )185.7
Módulo de tracción( GPa )185.7
Dureza - Vickers( kgf mm-² )200
Dureza - Vickers( kgf mm-² )90
Resistencia a la tracción( MPa )760
Resistencia a la tracción( MPa )172-207
Límite elástico( MPa )705
Límite elástico( MPa )310-380
ArtículoValor
Resistividad eléctrica( µOhmcm )13.5@20@20°C
Temperatura crítica de superconductividad( K )4.47
Coeficiente de temperatura( K-¹ )0.0035@0-100°C
Emf térmica contra Pt (frío 0C - caliente 100C)( mV )0.33
ArtículoValor
Punto de ebullición( °C )5425
Densidad( gcm-³ )16.6@20°C
ElementoValor
Punto de fusión( °C )2996
Calor latente de evaporación( J g-¹ )4165
Calor latente de fusión( J g-¹ )174
Calor específico( J K-¹ kg-¹ )140@25°C
Conductividad térmica( W m-¹ K-¹ )57.5@0-100
Coeficiente de dilatación térmica( x10-⁶ K-¹ )6.5@0-100°C

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Lo comprobaremos y le responderemos en 24 horas.

Para personalizar su cátodo para sputtering de tántalo, facilítenos los siguientes datos:

  1. Diámetro (para los cátodos para sputtering circulares)
  2. Anchura × Longitud (para los cátodos rectangulares para sputtering)
  3. Thcikness (para los cátodos para sputtering)
  4. Pureza del material
  5. Placa de apoyo (Si se requiere servicio de pegado, especifique el material y las dimensiones de la placa de respaldo.）
  6. Cantidad de los productos que necesita
  7. Alternativamente, puede proporcionar un dibujo con sus especificaciones.

Una vez que tengamos estos datos, podremos facilitarle un presupuesto en 24 horas.

Disponemos de una amplia variedad de productos de tantalio y aleaciones de tantalio en stock, para los que generalmente no se requiere un pedido mínimo. Sin embargo, para los pedidos personalizados, solemos establecer un valor mínimo de pedido de $200. El plazo de entrega de los artículos en stock suele ser de 1 a 2 semanas, mientras que el de los pedidos personalizados suele ser de 3 a 4 semanas, dependiendo de las características específicas del pedido.

El cumplimiento del DFARS (Defense Federal Acquisition Regulation Supplement) se refiere principalmente al aprovisionamiento de materiales para aplicaciones relacionadas con la defensa en Estados Unidos. Según el DFARS, determinados materiales utilizados en defensa deben proceder de Estados Unidos o de países que cumplan los requisitos.

Si tiene materiales de tántalo específicos que estén sujetos al DFARS, háganoslo saber con antelación y se lo confirmaremos.

En Heeger Materials Inc. nos tomamos muy en serio esta responsabilidad. Nos adherimos a todas las leyes y reglamentos aplicables, incluida la Sección 1502 de la Ley Dodd-Frank. Nuestra empresa opera con un estricto código ético y se compromete a asociarse únicamente con proveedores que compartan nuestra dedicación al abastecimiento responsable. Apoyamos las iniciativas y programas destinados a promover cadenas de suministro "libres de conflictos" y trabajamos con diligencia para garantizar que nuestros productos cumplen estas normas.

Heeger Materials Inc, fundada en 2016 en Colorado (EE. UU.), es un proveedor y fabricante especializado en tantalio y aleaciones de tantalio. Con una amplia experiencia en suministro y exportación, ofrecemos precios competitivos y soluciones personalizadas adaptadas a requisitos específicos, garantizando una calidad excepcional y la satisfacción del cliente. Como proveedor profesional de metales refractarios, aleaciones especiales, polvos esféricos y diversos materiales avanzados, atendemos las necesidades de investigación, desarrollo y producción industrial a gran escala de los sectores científico e industrial.

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Otros productos de tántalo

Heeger Metal ofrece una amplia gama de productos de tantalio y aleaciones de tantalioson conocidos por su extraordinaria resistencia a la corrosión, su alto punto de fusión y su estabilidad en entornos difíciles. Estas características los hacen ideales para aplicaciones exigentes en las industrias aeroespacial, electrónica y de procesamiento químico. Nuestra materiales de tántalo de gran pureza ofrecen un rendimiento y una fiabilidad excepcionales en condiciones difíciles.

Cátodos para sputtering Productos

Heeger Metal ofrece una amplia selección de cátodos para sputtering de alto rendimiento fabricados con materiales como titanio, cobre, aluminio y metales de tierras raras. Nuestros cátodos para sputtering personalizados están diseñados con precisión para satisfacer las demandas de industrias como la fabricación de semiconductores, la fotovoltaica y la electrónica. Con una pureza y consistencia superiores, nuestros cátodos para sputtering ofrecen un rendimiento excepcional en la deposición de películas, lo que los hace ideales para aplicaciones de recubrimiento de películas finas, sputtering y PVD (deposición física de vapor).

Productos de disco

Heeger Metal ofrece una amplia gama de productos de discos metálicos y de aleación. Nuestros discos diseñados con precisión son ideales para aplicaciones en los sectores aeroespacial, electrónico e industrial, ya que proporcionan una excelente resistencia, durabilidad y conductividad térmica. Tanto si necesita discos metálicos a medida como discos metálicos de aleación estándar, nuestros productos garantizan un alto rendimiento y una calidad excepcional.

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